JP2015070050A - 回路基板と、その製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 回路基板10は、絶縁基体11と、絶縁基体11の主面に、銀成分5を含有するろう材1を介して接合されている、銅粒子3が焼結されて成る金属板2と、を有しており、金属板2において、銅粒子3の粒界に、ろう材1中から拡散した銀成分5が充填されている。銅粒子3よりヤング率の低い銀成分5が金属板2全体のヤング率を下げる効果を持つことから、金属板2および絶縁基体11の熱応力が緩和されやすくなる。
【選択図】図2
Description
Bipolar Transistor)などの電子部品が搭載された電子装置に用いられる回路基板とし
て、セラミック基板に例えば銅またはアルミニウム等からなる金属板がAgを含むろう材で接合されたものが用いられる。電子部品は、金属板に搭載され、例えばボンディングワイヤによって他の金属板に電気的に接続される。金属板としては、電気抵抗(抵抗率)が小さい銅またはアルミニウムを主成分とした箔が用いられている。
り、回路基板10の大きさまたは用いる材料の熱伝導率または強度に応じて選択すればよい。
することで調整する。真空炉中の400℃以下の雰囲気で脱バインダーできることが望ましいため、通常はバインダとしてアクリル樹脂を用いる。
の他に融点を下げるために、例えば、スズ、インジウムの一種類以上を含み、1〜20質量%程度の他の金属材料、または金属板2の成分を含有していても構わない。
は、スズおよびインジウムの量を、ろう材1の主成分である銀の量に対して調整することによって行う。その場合の適した組成は前述した通りである。
2・・・金属板
3・・・銅粒子
4・・・粒界
5・・・銀成分
6・・・銀−銅合金層
10・・・回路基板
11・・・絶縁基体
Claims (3)
- 絶縁基体と、
該絶縁基体の主面に、銀成分を含有するろう材を介して接合されている、銅粒子が焼結されて成る金属板と、を有しており、
前記金属板において、前記銅粒子の粒界に、前記ろう材中から拡散した前記銀成分が充填されている
回路基板。 - 前記銅粒子の表面と、前記銅粒子の粒界に充填された前記銀成分との間に、銀−銅合金層が設けられている
請求項1記載の回路基板。 - セラミックスから成る絶縁基体上に、銀成分を含むろう材ペーストを塗布する工程と、
該ろう材ペーストの上に、銅粒子を含む銅ペーストを塗布する工程と、
前記絶縁基体を加熱することにより、前記銅粒子が焼結して成る金属板を、ろう材を介して、前記絶縁基体に接合させる工程と、
を有する回路基板の製造方法。
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WO2010113892A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | 株式会社トクヤマ | メタライズド基板を製造する方法、メタライズド基板 |
WO2011108498A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | 株式会社トクヤマ | メタライズド基板の製造方法 |
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