JP5902557B2 - 多層配線基板および電子装置 - Google Patents
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Description
図1および図2を参照して本発明の第1の実施形態における電子装置について説明する。本実施形態における電子装置は、多層配線基板1と、多層配線基板1に搭載された電子部品2とを有している。なお、図1および図2において、電子装置は、仮想のxyz空間内に設けられて、xy平面上に載置されている。また、本実施形態における上方とは仮想のz軸の正方向のことである。
2の金属回路板12bとが接合材によって接合された構造を有している。
mであり、多層配線基板1の大きさまたは用いる材料の熱伝導率または強度に応じて選択すればよい。
合であれば、第2のセラミック基体11bの材料としては窒化アルミニウム質セラミックスを用いる。このようなセラミック基体11を用いた多層配線基板1が加熱された場合には、窒化アルミニウム質セラミックスの熱膨張よりも窒化ケイ素質セラミックスの熱膨張の方が小さいので、第2のセラミック基体11bの熱膨張が第1のセラミック基体11aによって抑制される。
ット(塊)に圧延加工法または打ち抜き加工法等の機械的加工、またはエッチング等の化学的加工のような金属加工法を施すことによって、例えば厚さが10〜300μmの平板状で
所定パターンに形成される。
が好ましい。無酸素銅を用いると、金属板12とセラミック基体11とを接合する際に、銅の表面が銅中に存在する酸素によって酸化されることが低減されるとともに、接合材3との濡れ性が良好となるので、金属板12とセラミック基体11との接合強度が向上する。
図示せず)との電気的接続を良好なものとすることができる。この場合は、内部に燐を8〜15質量%含有させてニッケル−燐のアモルファス合金としておくと、ニッケルからなるめっき層の表面酸化を抑制してろう材との濡れ性等を長く維持することができるので好ましい。ニッケルに対する燐の含有量が8質量%以上15質量%以下であると、ニッケル−燐のアモルファス合金を形成しやすくなってめっき層に対する半田の接着強度を向上させることができる。このニッケルからなるめっき層は、その厚みが1.5μm以上であると、金
属板12の露出した表面を被覆しやすく、金属板12の酸化腐蝕を抑制することができる。また、10μm以下であると、特にセラミック基体11の厚さが300μm未満の薄いものになっ
た場合には、めっき層の内部に内在する内在応力を低減させることができ、金属板12に生じる反り、およびそれによって生じるセラミック基体11の反りまたは割れ等を低減できる。
次に、本発明の第2の実施形態による電子装置について図3を参照しつつ説明する。
1a・・・第1の配線基板
1b・・・第2の配線基板
11・・・・セラミック基体
11a・・・第1のセラミック基体
11b・・・第2のセラミック基体
12・・・・金属板
12a・・・第1の金属回路板
12b・・・第2の金属回路板
13・・・・貫通導体
2・・・・電子部品
3・・・・接合材
4・・・・ダイボンド材
5・・・・ボンディングワイヤ
Claims (3)
- 窒化ケイ素質セラミックスからなる第1のセラミック基体および該第1のセラミック基体の上下面にそれぞれ接合されている第1の金属回路板を含む、前記第1のセラミック基体の上面の前記第1の金属回路板上に電子部品が搭載される第1の配線基板と、前記第1のセラミック基体よりも高い熱伝導率を有する窒化アルミニウム質セラミックスからなる第2のセラミック基体および該第2のセラミック基体の下面に接合されている第2の金属回路板を含んでおり、前記第1の配線基板の下面に接合された第2の配線基板とを備えていることを特徴とする多層配線基板。
- 前記第2の配線基板が、前記第2のセラミック基体の上面に接合されて前記第1のセラミック基体の下面の前記第1の金属回路板に接合された第2の金属回路板をさらに有することを特徴とする請求項1記載の多層配線基板。
- 請求項1記載の多層配線基板と、該多層配線基板の前記第1のセラミック基体の上面の前記第1の金属回路板上に搭載された電子部品とを備えていることを特徴とする電子装置。
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