JP2015067847A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

【課題】真空蒸着装置において、蒸気を噴出するノズルに蒸着材料が堆積して、ノズルの径が小さくなったり、ノズルが目詰まりをしたりすることを防止する。【解決手段】蒸着材料６を収納し、先端に蒸気を噴出するノズル１が形成されている坩堝７において、坩堝７の周りに坩堝７を加熱するためのヒーター３が配置され、ヒーター３と坩堝７の間に坩堝７の温度分布を調整するための伝熱部材５が配置され、ヒーター３の存在範囲をノズル１側から、坩堝７の全長の１／３以上で２／３以下の範囲とする。【選択図】図１

Description

本発明は、真空蒸着装置に関する。

近年、有機ＥＬ素子が新たな産業分野として注目されている。有機ＥＬディスプレイは液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに代わる次世代ディスプレイとして、また有機ＥＬ照明はＬＥＤ照明と並ぶ次世代照明として期待されている。このような動きに伴い、有機ＥＬパネルの製造装置マーケットも今後拡大すると予測されている。

有機ＥＬ素子は、有機化合物からなる発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを積層した多層構造を、陽極と陰極からなる電極対で挟み込んだ構造になっている。電極に電圧を印加することにより陽極側から正孔が、陰極側から電子が発光層に注入され、それらが再結合して生じる励起子（エキシトン）の失活により発光する。

発光層を形成する有機材料には高分子材料と低分子材料がある。このうち現在主流である低分子材料は、真空蒸着によって成膜される。その他の層を形成する際にも真空蒸着が用いられる。

真空蒸着に用いられる蒸発源は、蒸着材料を封入する坩堝、蒸着材料を噴射するノズル、坩堝を加熱するヒーター、坩堝の保温性を向上するためのリフレクタ、坩堝、ヒーターやリフレクタなどを格納するハウジングを有する。ヒーターにより加熱された坩堝から蒸着材料を蒸発あるいは昇華させて、真空容器内に設置した基板上にノズルから気化した蒸着材料を噴射して各層を形成する。カラー表示の有機ＥＬ素子を作成するには、基板とメタルマスクをアライメントした状態で、異なる発光をする有機ＥＬ材料を画素ごとに塗り分けて成膜する。

有機や無機および金属材料を真空蒸着により成膜する場合、有機材料の蒸発あるいは昇華には数百℃、無機や金属材料の蒸発あるいは昇華には千℃前後の高温プロセスが要求される。高温の坩堝からは熱輻射と呼ばれる電磁波が放射される。ノズルから基板に向かって放射される熱輻射により熱が奪われ、ノズル周辺は坩堝本体より温度が低下する傾向にある。

有機ＥＬパネルの製造装置では、製造コストを低減するために長時間連続して稼働する必要がある。真空蒸着装置において、蒸発源からの熱輻射によってノズル温度が低下すると、その付近に気化した材料が析出し易くなる。ノズル周辺で材料が析出すると、ノズル詰まりが発生する要因となる。ノズル詰まりは蒸着速度や蒸着分布などの品質に影響を及ぼすため、連続稼働を阻害する要因となる。また、坩堝内に析出した材料の除去や洗浄などのメンテナンス上の問題も生じる。

ノズル詰まりを防止する技術として、特許文献１および２が開示されている。特許文献１では「前記加熱部２により加熱される位置に配設され前記ルツボ体１の外周面部とは別の被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に連設し伝導加熱され、少なくとも前記ルツボ体１の上部であって前記蒸発口３の周囲に配設される伝導加熱部６とにより構成された均熱蓋部７を設けて、前記ルツボ体１の上部の蒸発口３周囲の加熱時の温度を上昇させる蒸着装置における蒸発源」が開示されている。特許文献２では「前記ヒーターから熱の伝達を直接受ける伝熱部材を坩堝に近接させるが、それらの間に隙間を設けると共に、同伝熱部材と前記出射口を設けた遮蔽部材とを一体とするかまたは連結したことを特長とする薄膜堆積用分子線源セル」が開示されている。

特許第４０９００３９号 特許第４４９１４４９号

特許文献１及び２では、伝熱部材がヒーターから受け取った熱を、ノズルへ直接伝えるため、坩堝温度に対してノズル温度を高くし易い構造となっている。しかし特許文献１及び２では、ヒーターが坩堝全体にわたって配置されているので、ノズル付近を効果的に昇温するのが必ずしも容易ではない。また特許文献１及び２では、伝熱部材がノズルへの熱伝導性向上の観点から導入されているが、熱輻射の影響については十分に考慮されていない。

本発明の課題は、従来例の課題を踏まえ、より効果的にノズルの温度を坩堝体の温度より高く保持し、ノズル付近での材料析出が生じにくく、ノズル詰まりが発生しにくい蒸発源を提供することである。

本発明は上記課題を解決するものであり、代表的な手段は次のとおりである。すなわち、蒸着材料を収納する坩堝と、基板に対向する面に蒸着材料を噴出するノズルと、前記坩堝の回りに加熱用のヒーターと、基板に対向する前記面及び前記ヒーターと前記坩堝の間で前記ノズル側から前記坩堝を覆うように設けられた伝熱部材とを備え、前記ヒーターは前記ノズル側から前記坩堝の全長の１／１０以上で２／３以下の範囲に存在していることを特徴とする。この場合、伝熱部材も前記坩堝の全長の１／１０以上で２／３以下の範囲に存在していることが望ましい。なお、前記伝熱部材は前記ヒーターの外側に存在してもよい。

本発明によれば、ノズル温度を坩堝温度より効果的に高く維持することができ、ノズル詰まりが発生しにくい蒸発源を提供することができる。

本発明の第１の実施例における蒸発源の断面の模式図である。 蒸着装置における基板とマスクと蒸発源の関係を示す斜視図である。 ヒーターの存在範囲と坩堝の温度分布との関係を示すグラフである。 特許文献１の蒸発源における坩堝の温度分布である。 特許文献２の蒸発源における坩堝の温度分布である。 実施例１の第１の形態の蒸発源おける坩堝の温度分布である。 実施例１の第２の形態の蒸発源おける坩堝の温度分布である。 第１の比較例の蒸発源における坩堝の温度分布である。 第２の比較例の蒸発源における坩堝の温度分布である。 本発明の第２実施例における蒸発源の断面図である。 本発明の第３実施例における蒸発源の断面図である。 本発明の実施の形態である真空蒸着装置の構成の概略を示す模式図である。

以下、実施例および図を用いて本発明の内容を説明する。
以下では、本発明の真空蒸着装置の一例として、有機ＥＬデバイスの製造に適用した例を説明する。以下の説明は本発明の内容の具体例を示すものであり、本発明がこれらの説明だけに限定されるものではなく、本明細書に開示される技術的思想の範囲内において当業者による様々な変更および修正が可能である。

図１２は、本発明の実施形態である真空蒸着装置２０の構成の概略を示す模式図である。真空蒸着装置２０は、水平に配置された基板１０に下から蒸着して成膜する水平真空蒸着装置である。真空蒸着装置２０は、真空蒸着室２５内に、成膜される基板１０、蒸着材料を有する蒸発源９、及び膜厚モニタ２７がある。また、真空蒸着室２５外には、基板１０に成膜される膜厚を制御するための膜厚制御計２８、蒸発源９の温度を制御するための蒸発源電源２９、及び膜厚制御計２８と蒸発源電源２９を連動させて制御し、蒸着データを記録するための制御用パソコン２６がある。

本発明の実施例である蒸発源９は、図１２に示すように、ノズル１が一列に配設されたリニア蒸発源である。ノズル１から、基板１０に成膜する蒸着材料の蒸気２２が放出される。本発明は、リニア蒸発源の代わりに、ポイント蒸発源のクヌードセンセル（Ｋセル）型の蒸発源に適用可能であり、それらを並べて設置した真空蒸着装置で成膜可能である。また、本発明の蒸発源は、横型蒸着装置だけでなく、垂直に配置された基板１０に成膜する縦型蒸着装置に適用する蒸発源にも適用可能である。

以下、本発明の特徴である蒸発源について説明する。

（実施例１）
図１は、本発明の第１の実施例である蒸発源を示す蒸発源９の断面図である。図２は、本発明の実施例１における蒸発源と有機ＥＬ表示装置用基板および蒸着用メタルマスクの配置を模式的に示す斜視図である。図２において、蒸発源９から放射された蒸気２２が、メタルマスク１１の開口部１４を介して基板保持部に保持される基板１０に蒸着される。メタルマスク１１は、基板１０に対する蒸着場所を規定する開口部１４を有するマスクシート１３とマスクシート１３を支えるフレーム１２とから構成されている。

図２において、蒸発源９は縦方向の白矢印４１のように移動し基板１０をスキャンすることによって、基板１０に蒸発物を均一な膜厚で蒸着することが出来る。また、蒸発源９は、図２の横方向の白矢印４２のように移動することが出来るようになっている。これは、２枚の基板を交互に蒸着するような場合に、蒸着源９を移動させることが出来るようにするためである。

図１または図２において、蒸発源９は、蒸着材料６を封入する容器である坩堝７と、坩堝７の側面に加熱用のヒーター３と、ヒーター３の外周に坩堝７の保温性を向上するための複数枚のリフレクタ４を有し、ヒーター３の輻射熱を外部に漏らさないよう水冷した容器（ハウジング）８に格納したものである。坩堝７は、基板１０に蒸着材料６を噴出するノズル１を有する。

また、蒸着材料６のガスが坩堝７の外側の蒸発源９内に進入し、ヒーター３周辺に付着することで短絡や性能低下を及ぼさないように、ノズル１を取り囲むようにラッパ状の防着板２が設けられている。その他、図１には記載されていないが、蒸発源９には、坩堝７のノズル１を開閉するための蒸着シャッター、蒸着速度を計測する膜厚モニタ２７(図１２参照)を有する。もちろん蒸発源９の構造は、図１および図２に示した構造に限定されるものではない。また、坩堝７は、ステンレス、チタン、モリブデン、グラファイト、セラミック（アルミナ、ジルコニア、ＰＢＮ（Ｐｙｒｏｌｉｔｉｃ Ｂｏｒｏｎ Ｎｉｔｒｉｄｅ））などの耐反応性や耐熱性に優れた材料で形成される。またノズル１と坩堝７は一体ものでもよいし、分離していてもよい。

ヒーター３の形状は、坩堝７の形状に依存する。例えば、図１は、線状のヒーター３が坩堝を複数回巻いている断面を示している。ヒーター３の巻き方は様々であるが、坩堝７を温める以上、少なくとも坩堝７の側面を部分的に覆う構成になっている必要がある。図１において、坩堝７の全長はＬで、ヒーター３が坩堝７の側面を覆う領域の範囲はｄである。

ヒーター３の材質には、様々な選択肢がありうる。有機蒸発源などの低温プロセスでは、ニクロム線やシースヒーターなどを用いることが可能である。金属蒸発源などの高温プロセスでは、モリブデン、タンタル、ＰＢＮ、グラファイトなどを用いることが可能である。

伝熱部材５の形状は、坩堝７の形状に依存する。例えば、長方形型の坩堝７であれば、伝熱部材５は長方形の薄板を採用すればよい。円筒形の坩堝７であれば、伝熱部材５は円筒形の薄板を用いればよい。この薄板がノズル１に備え付けられる部分の形状も、その取り付け方によって、様々な形状をとることが出来る。

伝熱部材５の材質にも様々な選択肢がありうる。有機蒸発源などの低温プロセスでは、チタン、ステンレスなどを用いることが可能である。金属蒸発源などの高温プロセスでは、モリブデン、タンタル、ＰＢＮ、グラファイトなどを用いることが可能である。

蒸発源９は、基板１０に蒸着材料６を噴出するための開口部であるノズル１を有する。蒸着材料６を噴出するとともに、坩堝７から基板１０への輻射熱が生ずるため、ノズル１周辺の温度は坩堝７本体の温度よりも低下する傾向にある。

従来例では、ノズル１付近の温度を低下させないよう、ヒーター３からの輻射熱を伝熱部材５で受け取り、熱伝導でノズル１へ熱を伝えている。しかし、ヒーター３から坩堝７への伝熱は、伝熱部材５を介したノズル１への熱伝導と、ヒーター３あるいは伝熱部材５から坩堝７本体への熱輻射の二通りの経路が存在する。そして後者の寄与が大きく影響するため、従来例では必ずしもノズル１の温度が坩堝７本体よりも高くなるとは限らない。

本発明の実施例１である蒸発源９は、基板１０に対向する面と、少なくとも坩堝７の側面とヒーター３の間に伝熱部材５を有し、前記伝熱部材５は、前記ノズル１の両側の坩堝７の上部に備えつけられ、ヒーター３が坩堝７側壁のノズル１側の領域を覆い、その領域の比率d／Ｌが１０分の1以上で３分の２以下であることを特徴とする。このようにヒーター３がノズル１側を集中的に覆うように配置することで、ヒーター３から坩堝７側壁への熱輻射を、ノズル１が温まるよう制御し、さらに伝熱部材５からの熱伝導により、より効果的にヒーター３からの熱をノズル１へ伝えることができる。
（計算例）
図１で示した蒸発源９において、坩堝７の温度分布のシミュレーションをおこなった。具体的には、蒸発源９の２次元の定常輻射伝熱計算を行った。金属材料の蒸着プロセスを想定して、ヒーター温度を１６００℃に設定した。坩堝７、ヒーター３、伝熱部材５の材質はモリブデンとし、リフレクタ４、ハウジング８、防着板２の材質はＳＵＳ３０４とした。蒸発源９の内部は真空として扱い、ハウジング８は常温の外部環境と輻射で熱のやりとりをする。

ノズル１先端から底までの坩堝７全長は、Ｌ＝１５４ミリメートルとし、ヒーター３が配置される領域は、ノズル１の先からそれぞれ、d＝１５１、１４２、１３３、１２４、１１５、１０６、９７ミリメートルとした。ヒーター３と坩堝７側壁との間には、ヒーター３を覆うように伝熱部材５が配置され、ノズル１に取り付けられている。なお、図１において、伝熱部材５はヒーター３を覆う範囲に設けている。

図３は、坩堝７の温度分布のシミュレーション結果であり、横軸にd、縦軸に摂氏温度をとり、坩堝７の最大温度およびノズル１の温度を示したグラフである。図３において、坩堝本体の温度の最大値が生ずる位置は、ｄの値によって変化する。条件ｄ＝１５１，１４２，１３３，１２４，１１５ミリメートルでは、ノズル１の温度が坩堝７の最大温度よりも低い。一方、条件ｄ＝１０６，９７ミリメートルでは、ノズル１の温度が坩堝７の最大温度と等しくなっている。言い換えると、ノズル１が、坩堝７における最大温度なっている。このような構成によって、ノズル１の温度を坩堝７の温度より高く維持すれば、ノズル１付近での材料析出が起こりにくく、ノズル詰まりが発生しにくい。

以上の検討により、坩堝７の全長Ｌに対して、ヒーター３が配置される領域dの比率が、１０６／１５４、つまり約２／３以下であればよいことを見出した。なお、図３は、Ｌ＝１５４ミリメートルのみの結果を示しているが、Ｌが変わっても相対的な比d／Ｌは同じになる。

以下、従来例による蒸発源、本実施例による蒸発源、比較例の蒸発源ついて、熱輻射シミュレーションで得られた坩堝７の温度分布の結果を述べる。図４は、第１の従来例における坩堝の温度分布である。図５は、第２の従来例における坩堝の温度分布である。図６は、本実施例における第１の形態の坩堝の温度分布である。図７は本実施例における第２の形態の坩堝の温度分布である。図８は、第１の比較例の坩堝の温度分布である。図９は第２の比較例の坩堝の温度分布である。

図４（ａ）は特許文献１の蒸発源の断面図である。伝熱部材５は存在せず、ヒーター３が坩堝７の全長に渡って配置されている。図４（ｂ）は、坩堝７の温度分布を示す。横軸はハウジング８先端を原点とした位置を表し、単位はメートルである。縦軸は坩堝７の表面温度を示す。坩堝７表面は、図４（ａ）における坩堝７の断面の上側外面、上側内面、下側外面、下側内面などから構成される。したがって、図４（ｂ）には曲線が４本存在するが、坩堝の大部分の領域において同じ温度を有するので一本の線に見える。ただし図４（ｂ）において、坩堝７のノズル１の先端部分では、坩堝７の内面Ｂ、即ちノズル１の内面は、坩堝の外面Ａよりも温度が低く、内面と外面で２本の分岐に分かれて見える。

図４（ｂ）において、坩堝７の最も温度が高い部分は、坩堝７の中央部よりもやや底側に寄った部分で、ハウジング８の先端から０．１２ｍの位置であり、１３２０℃程度である。これに対して、ノズル１の内面の温度は、１２６０℃程度である。ノズル１の内面の温度は、坩堝７の最高温度の部分よりも６０℃程度低く、ノズルの内面に蒸発物質が付着しやすくなっている。

図５は特許文献２における坩堝７の温度分布を示す図である。図５（ａ）は、特許文献２における蒸発源の断面図である。図５（ａ）において、ヒーター３も伝熱部材５も坩堝７の先端から坩堝長さ全体にわたって存在している。図５（ｂ）は図５（ａ）の蒸発源における坩堝７の温度分布を示すグラフである。図５（ｂ）における各曲線の定義は図４（ｂ）と同様である。図５（ｂ）において、坩堝７本体の最高温度は、ノズル１側から０．１２ｍの場所であり、１２５５℃程度である。一方、ノズルの内面Ｂにおける温度は、１２２８℃であり、温度差は２７℃程度ある。第１の従来例よりも温度差は小さくなっているが、それでもノズル１に蒸発物質が付着しやすい。また坩堝７本体の温度分布は、材料室からノズル１側に向かって大きく低下している。

特許文献２では、ノズル１の温度を低下させないよう、ヒーター３からの輻射熱を伝熱部材５で受け取り、熱伝導でノズル１へ熱を伝えている。しかし、ヒーター３から坩堝７への伝熱は、伝熱部材５を介してのノズル１への熱伝導と、ヒーター３および伝熱部材５から坩堝７本体への熱輻射の二通りの経路が存在する。そして後者の寄与が大きく影響するため、ノズル１の温度が坩堝７本体の温度よりもかなり低くなっている。

図６は本発明の実施例１の第１の実施の形態である蒸発源９の坩堝７およびノズル１の温度分布を示す図である。図６（ａ）は、本実施の形態の蒸発源９の断面図である。図６（ａ）において、伝熱部材５は坩堝７の先端から坩堝長さの２／３の長さにわたって存在している。伝熱部材５はノズル１に取り付けられ、ヒーター３と坩堝７側面の間を遮るように設けられている。ヒーター３は、伝熱部材５と同様に坩堝７のノズル1の位置から坩堝長さの２／３の長さにわたって存在している。これは、略、図１におけるＬが１５４ｍｍ、ｄが１０６ｍｍの場合に対応している。

図６（ｂ）は、本実施の形態の坩堝７の温度分布を示すグラフである。図６（ｂ）において、坩堝７本体の温度は、底部からノズル１に向かって増加あるいは非減少である。坩堝７の最高温度はノズル１の外面Ａで１１８０℃程度となっている。ノズル１の最も温度が低い部分、すなわち、ノズル１の内面Ｂでも１１７３℃であり、坩堝本体の最高温度の部分に比較して、７℃低いだけである。このような温度分布であれば、ノズル部分に蒸発物質が付着、堆積する現象を防止することが出来る。このように、本実施の形態は、従来例に比較して、坩堝７の温度分布を大幅に改善することが出来る。

図７は実施例１の第２の実施の形態である蒸発源９の坩堝７およびノズル１の温度分布を示す図である。図７（ａ）は、実施の形態２の蒸発源９の断面図である。図７（ａ）において、ヒーター３は、実施の形態１である図６と同様に坩堝７のノズル1の位置から坩堝長さの２／３の長さにわたって存在している。しかし、伝熱部材５は第２の従来例同様に、坩堝７の先端から坩堝７の長さ全体にわたって存在している点が実施の形態１と異なっている。

図７（ｂ）は、実施の形態２の坩堝７の温度分布を示すグラフである。図７（ｂ）において、
坩堝７本体（内外面）の温度は、底部からノズル１に向かって増加あるいは非減少である。坩堝７の最高温度は、坩堝７の外面Ａ、即ちノズル１の外面Ａで１１８０℃程度となっている。

坩堝７本体における最高温度は、坩堝７のノズル側に存在しており、１１７７℃程度である。ノズル１の内面Ｂの温度は低くなっており、１１７０℃程度である。したがって、ノズル１の最も温度が低い部分、すなわち内面Ｂでも、坩堝本体の最高温度の部分に比較して７℃低いだけである。このような温度分布であれば、ノズル部分に蒸発物質が付着、堆積する現象を防止することが出来る。このように、実施の形態２においても、実施の形態１の場合と同様、従来例に比較して、坩堝７の温度分布を大幅に改善することが出来る。

図８は、実施例１の第１の比較例における坩堝７およびノズル１の温度分布を示す図である。図８（ａ）は、比較例１の蒸発源の断面図である。図８（ａ）において、坩堝７のノズル１側には、伝熱部材５が取り付けられている。伝熱部材５は坩堝７の先端から坩堝長さの４０％の長さにわたって存在している。一方、ヒーター３は坩堝７全長にわたって存在している。図８（ｂ）において、坩堝７の最も温度が高い部分は、坩堝７の中央部よりもやや底側に寄った部分で、ハウジング８の先端から０．１１５ｍの位置であり、１３００℃程度である。これに対して、ノズル１の内側Ｂの温度は、１２５５℃程度である。ノズル１の内面Ｂの温度は、坩堝７の最高温度の部分よりも４５℃程度低い。

比較例１では、ノズル１の温度を低下させないよう、ヒーター３からの輻射熱を伝熱部材５で受け取り、熱伝導でノズル１へ熱を伝えている。しかし、ヒーター３から坩堝７への伝熱は、伝熱部材５を介してのノズル１への熱伝導と、ヒーター３および伝熱部材５から坩堝７本体への熱輻射の二通りの経路が存在する。そして後者の寄与が大きく影響するため、ノズル１の温度が坩堝７本体の温度よりもかなり低くなっている。

したがって、比較例１の構成では、蒸発物質がノズル付近に堆積する危険が存在する。以上のように、比較例１と比較して、実施例１の実施の形態１および２はノズル詰りを発生するリスクが小さく優れた特性を示している。

図９は実施例１の第２の比較例における坩堝７およびノズル１の温度分布を示す図である。図９（ａ）は、比較例２の蒸発源の断面図である。図９（ａ）においては、従来例１のように伝熱部材５は存在していない。ヒーター３は、坩堝７の先端から坩堝長さの２／３の長さにわたって存在している。図９（ｂ）は図９（ａ）の蒸発源における坩堝７の温度分布を示すグラフである。図９（ｂ）において、坩堝７本体の最高温度は、ノズル１側から０．０８３ｍｍの場所であり、１２１７℃程度である。一方、ノズルの内面Ｂにおける温度は、１１８５℃であり、温度差は３２℃程度ある。また、ノズル付近の温度は、ノズル本体の温度よりも低くなっている。したがって、比較例２の構成では、蒸発物質がノズル付近に堆積する危険が存在する。このように、比較例２に対しても、実施例１である実施の形態１および２は優れた特性を示している。

以上のように、本実施例における実施の形態１および実施の形態２は、従来例および比較例に比較して非常に優れた特性を示している。ところで、実施の形態１および実施の形態２は、ヒーター３および伝熱部材５の存在範囲が重要である。図６および図７において、ヒーター３の存在範囲は、坩堝７のノズル１側から２／３の範囲まで存在することによって、坩堝７に対して適切な温度分布を設定することが出来る。ヒーター３の存在範囲をさらにノズル１側に限定すると、坩堝７におけるノズル１側の温度を上げることになるので、ノズル１に蒸発物質が体積する現象は防止することが出来る。しかし、この場合は、坩堝７全体の温度を上げるためには、ヒーター３に過大な電力を注入する必要があり、電力消費と電源の問題が生ずる。したがって、ヒーター３の存在範囲は、実用的に坩堝７の温度を所定の温度に上げることができる長さ、ノズル１側から坩堝７の全長Ｌの１／１０以上とすることが必要である。そうすると、ヒーター３の存在範囲は、坩堝７のノズル１側から１／１０〜２／３である必要がある。

一方、伝熱部材５の存在範囲が極めて小さければ、伝熱部材５の役割を発揮することが出来ない。つまり、伝熱部材５の存在範囲も坩堝７全長の１／１０以上は必要である。したがって、伝熱部材５の存在範囲は、坩堝７のノズル１側から１／１０以上である必要がある。一方、伝熱部材５の上限は、図７からもわかるように、坩堝７の全長と同じとしても、坩堝７の必要な温度分布を確保することが出来る。
以上のように、実施例１は、従来例、比較例のいずれに対しても際立って優れた特性を示している。実施例１の蒸発源を用いることによって、蒸発物質がノズルの堆積する現象を防止することが出来る。

（実施例２）
図１０は、本発明の第２の実施例における蒸発源９の断面図である。実施例２では、ヒーター３をノズル１側のヒーター３１と坩堝７本体側のヒーター３２に分割し、個別に制御する構成としている。その他の点は実施例１と同様である。

実施例２では、ノズル１側のヒーター３１のみを加熱することで、実施例１と同様の条件を作り出すことができる。したがって、図２において、基板に蒸着をするときの坩堝７あるいはノズル１の温度特性は、実施例１における図６で説明したのと同様な特性となる。

実施例２では、ヒーター３１用とヒーター３２用の制御電源を用意する。坩堝７の昇温時には、両方のヒーター３１および３２で加熱することにより、実施例１に比べて、坩堝７の温度を速やかに目標値まで上昇させることができる。そして、坩堝７の温度が目標値付近に到達した後には、坩堝７本体側のヒーター３２の電力をオフにする、あるいは小さくして、ノズル１側のヒーター３１に制御を移すことで、実施例１と同様に、ノズル１の温度を坩堝７本体より高くすることが可能である。

実施例２における伝熱部材５は、ノズル１側のヒーター３１と坩堝７本体の間に設置すればよい。ただし、伝熱部材５は、ノズル１側のヒーター３１にのみ存在してもよいし、ノズル１側のヒーター３１と坩堝７本体側のヒーター３２の両方の側に存在してもよい。

（実施例３）
図１１は、本発明の第３の実施例における蒸発源９の断面図である。実施例３は、前述した実施例１および実施例２と異なり、伝熱部材５がヒーター３の外側あるいは両側に配置されているのが特徴である。図１１では、伝熱部材５はヒーター３の外側のみに配置されている。この構成によれば、伝熱部材５はより効果的にヒーター３からの輻射熱を受け取ることができ、熱伝導によってノズル１へ熱を伝え、ノズル１の温度を坩堝７へ伝えることができる。

伝熱部材５およびヒーター３の存在する範囲は、実施例１における実施の形態１あるいは実施の形態２と同様である。このような構成とすることによって、ノズル１付近の温度を坩堝７本体の温度と同等かあるいは高く設定することが出来る。

実施例３は、実施例２におけるように、ヒーターを第１のヒーターと第２のヒーターに分け、基板に蒸着を行うときは第１のヒーターのみを使用し、蒸発源を所定の温度まで加熱するプロセスにおいては、第１のヒーターと第２のヒーターの両方を使用するような構成においても適用することが出来る。

なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。

１：ノズル ２：防着板
３：ヒーター ４：リフレクタ
５：伝熱部材 ６：蒸着材料
７：坩堝 ８：ハウジング
９：蒸発源 １０：基板
１１：メタルマスク １２：フレーム
１３：マスクシート １４：開口部
２０：真空蒸着装置 ２２：蒸気
２５：真空蒸着室 ２６：制御用パソコン
２７：膜厚モニタ ２８：膜厚制御計
２９：蒸発源電源 ３１：第１のヒーター
３２：第２のヒーター

Claims (6)

1. 蒸着材料を収納する坩堝と、
   前記坩堝から前記蒸着材料を基板に対向する面に噴出するノズルと、
   前記ノズルの側から前記坩堝の全長の１／１０以上で２／３以下の範囲に存在して前記坩堝の外周を囲み、前記坩堝を加熱するヒーターと、
   前記基板に対向する前記面と、前記ノズルの側から前記坩堝を覆うように設けられた伝熱部材とを備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
2. 前記伝熱部材は、前記ヒーターに対して外側あるいは内側から前記坩堝を覆うように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置。
3. 前記伝熱部材は、前記ノズルの側から前記ヒーターと同じ範囲に存在していることを特徴とする請求項１または２に記載の真空蒸着装置。
4. 前記伝熱部材は、前記ノズルの側から前記坩堝の全長の１／１０以上で、かつ、前記坩堝の全長と同じ長さの範囲に存在していることを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着装置。
5. 前記ノズルの側から前記坩堝の全長の２／３より長く前記坩堝の全長までの範囲に存在して前記坩堝の外周を囲み、前記坩堝を加熱する第２のヒーターを有し、
   前記ヒーター及び前記第２のヒーターを別個に制御する制御電源を備えていることを特徴とする請求項３又は４記載の真空蒸着装置。
6. 前記基板を保持する基板保持部を備えていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の真空蒸着装置。

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