CN109082630A - 蒸镀装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种蒸镀装置。该蒸镀装置包括:壳体以及位于壳体内的蒸镀源单元和调整单元;蒸镀源单元包括坩埚、喷嘴部以及加热部,其中,坩埚内收容有蒸镀材料,且坩埚上设有开口,坩埚的开口上设有喷嘴部,喷嘴部具有使蒸镀材料的蒸气喷出的开口部,加热部设置于坩埚以及喷嘴部的周围;调整单元设置于喷嘴部的周围,调整单元与喷嘴部之间的相邻处设有防护结构,防护结构用于阻止蒸镀材料的蒸气侵入调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。本发明实施例通过在调整单元与喷嘴部之间的相邻处设置防护结构,可以延长污染源的扩散路径,且缩小蒸镀装置内各器件间的连接缝隙,以防止蒸镀装置的腔内污染。

Description

蒸镀装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种蒸镀装置。
背景技术
有机EL(Electro Luminesence,电致发光)器件的主要制作工艺一般采用蒸镀技术进行制造,而蒸镀的具体操作为通过加热器对蒸镀材料进行加热,使得蒸镀材料受热蒸发在基板表面成膜。其中,EL器件可以包括OLED面板等,蒸镀材料可以为有机材料物质。
但是,在蒸镀制程中,由于高温作用使得有机材料物质中的黑色杂质从蒸镀源设备中挥发出来附着在蒸镀装置的腔体内,导致蒸镀装置的腔内污染。
因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
发明内容
本发明实施例提供一种蒸镀装置,可以防止蒸镀装置的腔内污染。
本发明实施例提供一种蒸镀装置,包括壳体以及位于所述壳体内的蒸镀源单元和调整单元;
所述蒸镀源单元包括坩埚、喷嘴部以及加热部,其中,所述坩埚内收容有蒸镀材料,且所述坩埚上设有开口,所述坩埚的开口上设有所述喷嘴部,所述喷嘴部具有使所述蒸镀材料的蒸气喷出的开口部,所述加热部设置于所述坩埚以及喷嘴部的周围;
所述调整单元设置于所述喷嘴部的周围,所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处设有防护结构,所述防护结构用于阻止所述蒸镀材料的蒸气侵入所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述喷嘴部具有喷嘴盖和成型于所述坩埚的开口上的喷嘴腔,所述开口部设置在所述喷嘴盖上,所述喷嘴盖盖设在所述喷嘴腔上,其中,所述开口部的直径小于所述喷嘴腔的直径。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述调整单元包括依次设置的挡板、温度调整部件与反射板,所述防护结构覆盖部分所述挡板与部分所述喷嘴盖,且所述防护结构的一端延伸至所述开口部的边缘。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述防护结构上设有多个延伸部,每相邻的延伸部之间形成凹槽部,所述挡板上设有多个阻隔件,其中,所述多个阻隔件与每一所述凹槽部对应设置,且每一所述阻隔件延伸至对应的每一所述凹槽部内,以使所述多个延伸部与多个阻隔件咬合连接。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述咬合连接的多个延伸部与多个阻隔件成梳状咬合。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述咬合连接的多个延伸部与多个阻隔件成锯齿状咬合。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述挡板上接近所述喷嘴部的一端设有第一延长部,以减小所述挡板与喷嘴部之间的相邻处的第一缝隙的缝隙间距。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述温度调整部件与所述喷嘴部之间的相邻处的第二缝隙内设有遮挡件,其中,所述遮挡件的第一端与所述喷嘴部贴合连接,所述遮挡件的第二端与所述温度调整部件之间具有第三缝隙。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述反射板上接近所述喷嘴部的一端设有第二延长部,以减小所述反射板与喷嘴部之间的相邻处的第四缝隙的缝隙间距。
在本发明所述的蒸镀装置中,所述防护结构包括防护罩和防护垫;
其中,所述防护罩设置于所述喷嘴部上,所述防护罩包括罩体和盖体,所述盖体的直径大于所述罩体的直径,所述盖体上具有开孔,所述开孔与所述喷嘴部上的所述开口部对应设置;
所述防护垫设于所述调整单元与所述喷嘴部之间,所述防护垫具有第一弯折部与第二弯折部,所述第一弯折部贴合于所述调整单元的外表面,所述第二弯折部伸入所述调整单元与所述喷嘴部之间的相邻处的缝隙内;
所述防护罩的部分盖体盖设于所述防护垫的第一弯折部上,以阻止所述蒸镀材料的蒸气侵入所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。
本发明实施例提供的蒸镀装置,包括壳体以及位于所述壳体内的蒸镀源单元和调整单元;所述蒸镀源单元包括坩埚、喷嘴部以及加热部,其中,所述坩埚内收容有蒸镀材料,且所述坩埚上设有开口,所述坩埚的开口上设有所述喷嘴部,所述喷嘴部具有使所述蒸镀材料的蒸气喷出的开口部,所述加热部设置于所述坩埚以及喷嘴部的周围;所述调整单元设置于所述喷嘴部的周围,所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处设有防护结构,所述防护结构用于阻止所述蒸镀材料的蒸气侵入所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。本发明实施例通过在调整单元与喷嘴部之间的相邻处设置防护结构,可以延长污染源的扩散路径,且缩小蒸镀装置内各器件间的连接缝隙,以防止蒸镀装置的腔内污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的蒸镀装置的结构示意图。
图2为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的结构示意图。
图3为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的另一结构示意图。
图4为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的又一结构示意图。
图5为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的再一结构示意图。
图6为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的又另一结构示意图。
图7为本发明实施例提供的蒸镀装置的另一结构示意图。
图8为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅳ的结构示意图。
图9为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅳ的另一结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本发明。此外,本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
有机EL(Electro Luminesence,电致发光)器件的主要制作工艺一般采用蒸镀技术进行制造,而蒸镀的具体操作为通过加热器对蒸镀材料进行加热,使得蒸镀材料受热蒸发在基板表面成膜。
但是,一般出于安装工艺或者散热的考虑,蒸镀装置内的各个器件之间的相邻处一般存在连接缝隙,在蒸镀制程中,由于高温作用使得有机材料物质中的黑色杂质从蒸镀源设备中挥发出来,并顺着各个器件间的连接缝隙侵入到器件内或者附着在蒸镀装置的腔体内,导致蒸镀装置的腔内污染。
因此,本发明实施例提出了一种蒸镀装置,通过在调整单元与喷嘴部之间的相邻处设置防护结构,可以延长污染源的扩散路径,且缩小蒸镀装置内各器件间的连接缝隙,以防止蒸镀装置的腔内污染。
具体的,本发明实施例提供一种蒸镀装置,该蒸镀装置用于制作有机EL器件,比如,用于制作OLED面板。比如,该蒸镀装置可以为真空蒸镀装置。
请参阅图1,图1为本发明实施例提供的蒸镀装置的结构示意图。该蒸镀装置100包括壳体10以及位于该壳体10内的蒸镀源单元20和调整单元30。
其中,壳体10可以为真空蒸镀装置100的真空腔室。
蒸镀源单元20包括坩埚21、喷嘴部22以及加热部23。
其中,坩埚21内收容有蒸镀材料24,且该坩埚21上设有开口210,该坩埚21的开口210上设有该喷嘴部22,该喷嘴部22具有使该蒸镀材料24的蒸气241喷出的开口部220。该喷嘴部22与该坩埚21连通。
其中,坩埚21可以包括受热部211以及与该受热部211垂直连通的蒸镀部212,开口210设于蒸镀部212上,则该喷嘴部22设置于蒸镀部212的开口210上。该受热部211内收容有该蒸镀材料24。例如,该受热部211可以包括第一部分与第二部分,第一部分可以为圆锥体,第二部分可以为圆柱体,将蒸材料24放置于受热部211内,由于第一部分为圆锥体,可以使得蒸镀材料与受热部211的接触面积增加,从而使得该蒸镀材料24更易受热,提高蒸镀效率。其中,蒸镀部212垂直设置于受热部211上,可以使得蒸镀材料24的蒸气241更容易流向喷嘴部22。
例如,受热部211与蒸镀部212的连接处可以设有密封件25,该密封件25可以为环型金属圈。
该加热部23设置于该坩埚21以及该喷嘴部22的周围。
例如,在蒸镀制程中,通过该加热部23对该坩埚21进行加热,使得该坩埚21内的蒸镀材料24汽化形成蒸气241,然后蒸镀材料24的蒸气241从该坩埚21的开口210进入该喷嘴部22,然后通过该加热部23对该喷嘴部22进行再加热,以使得蒸气241的温度维持在一定温度范围,并使得蒸气241从该喷嘴部22的开口部220喷出,比如向开口部220朝向基板60的方向排放。
其中,该加热部23包括第一加热子部231、第二加热子部232及第三加热子部233。第一加热子部231设置于坩埚21的受热部211的周围,用于加热该受热部211,使得该受热部211内收容的蒸镀材料24汽化形成蒸气241,以使蒸镀材料24的蒸气241从该坩埚21的受热部211进入蒸镀部212。第二加热子部232设置于坩埚21的蒸镀部212的周围,用于加热该蒸镀部212,使得该蒸镀部212内的蒸气241保持在蒸镀制程规定的温度范围内,且保证蒸镀部212内的气压维持在蒸镀制程规定的压强范围内,以使蒸镀材料24的蒸气241从该蒸镀部212的开口210进入该喷嘴部22。第三加热子部233设置于喷嘴部22的周围,用于加热喷嘴部22,对蒸气241进行再加热的过程,以保证蒸气241可以保持在蒸镀制程规定的温度范围内,且保证喷嘴部22内的气压维持一定范围内,以使蒸气241可以从喷嘴部22喷射至基板60上,以对基板60进行蒸镀。
在一些实施例中,蒸镀装置100还可以包括温度传感器90,该温度传感器90用于监控坩埚21和/或喷嘴部22的周围的温度,例如,温度传感器90可以为石英温度传感器。
例如,该蒸镀材料24可以为有机材料。
例如,该坩埚21的开口210的直径可以与该喷嘴部22的开口部220的直径相同,以增大从开口部220排放的蒸气241的排放量。
例如,该坩埚21的开口210的直径可以小于该喷嘴部22的开口部220的直径相,以增长从开口部220排放的蒸气241的排放距离。
其中,该调整单元30设置于该喷嘴部22的周围,该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40设有防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
例如,从该喷嘴部22的开口部220喷出的蒸镀材料24的蒸气241,大多数都朝向基板60方向排放的。但是,在蒸镀装置100的壳体10(真空腔室)内的各个器件之间的相邻处一般都会存在缝隙,在蒸镀制程中,由于内部压力过高,少部分的蒸镀材料24的蒸气241会从各个器件之间的相邻处的缝隙扩散到各个器件内部或者附着在壳体内壁上,造成腔内污染。因此,为了防止蒸镀装置100的腔内污染,在蒸镀源单元20与该调整单元30间的相邻处设置防护结构50。比如,最好将该防护结构50设置在蒸镀源单元20与该调整单元30的相邻处的最外侧,以便于更换和清洗。具体的,该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40设有防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
在一些实施例中,蒸镀装置100的壳体10可以设有多个蒸镀源单元20,而每一蒸镀源单元20对应的坩埚21上可以设有多个开口210,每一该坩埚21的开口210上设有对应的喷嘴部22,以使得该蒸镀源单元20具有多个喷嘴部22。例如,如图1所示,该蒸镀源单元20具有两个坩埚21,每一坩埚21上设有两个喷嘴部22,每一喷嘴部22的周围均设有对应的调整单元30,每一调整单元30与喷嘴部22之间的相邻处40设有对应的防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
在一些实施例中,如图2所示,图2为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的结构示意图。该喷嘴部22可以具有喷嘴盖222和成型于坩埚21的开口210上的喷嘴腔221,该开口部220设置在该喷嘴盖222上,该喷嘴盖222盖设在该喷嘴腔221上,其中,该开口部220的直径小于该喷嘴腔221的直径,以增长从开口部220排放的蒸气241的排放距离。
其中,该喷嘴腔221的直径与该坩埚21的开口210的直径相同,便于该喷嘴腔221与该坩埚21的开口210无缝连接。例如,该喷嘴腔221可以一体成型设置于该坩埚21的开口210上,以达到无缝连接的目的。再如,该喷嘴腔221与该坩埚21的开口210为分离的个体,二者连接后,可以在二者的相邻处设计防漏结构。
在一些实施例中,该调整单元30可以包括依次设置的挡板31、温度调整部件32与反射板33,该防护结构50覆盖部分挡板31与部分喷嘴盖222,且该防护结构50的一端延伸至开口部220的边缘。
其中,该防护结构50阻止了蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内,而被阻止的蒸镀材料24的蒸气241在冷却后可能会附着于防护装置50的外表面以及未被覆盖的部分挡板31的外表面上,而并不会对腔内的其他器件造成污染。在对蒸镀装置100腔内进行维护和/或清洗时,只需清理防护装置50的外表面以及未被覆盖的部分挡板31的外表面上污染物即可。
在一些实施例中,该防护结构50上设有多个延伸部51,每相邻的延伸部51之间形成凹槽部52,该挡板31上设有多个阻隔件311,其中,每一阻隔件311与每一凹槽部52对应设置,且每一阻隔件311延伸至对应的每一凹槽部52内,以使该多个延伸部51与多个阻隔件311咬合连接。
其中,通过防护结构50覆盖了挡板31与喷嘴部之间的相邻处40,防止了污染源侵入该相邻处40的缝隙41内。通过设置咬合连接的多个延伸部51与多个阻隔件311,延长了污染源的扩散路径,且使得多个延伸部51与多个阻隔件311间的缝隙间距变小,以阻碍蒸气241或蒸镀材料24中挥发出的黑色碳化物等杂质扩散到多个延伸部51与多个阻隔件311间的缝隙内,进而成功阻止污染源侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
在一些实施例中,咬合连接的多个延伸部51与多个阻隔件311可以成梳状咬合,以延长污染源的扩散路径。
在一些实施例中,如图3所示,图3为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的另一结构示意图。图3与图2的区别在于:咬合连接的多个延伸部51与多个阻隔件311可以成锯齿状咬合,以延长污染源的扩散路径,且多个延伸部51与多个阻隔件311之间形成的咬合面更易于清洗。
在一些实施例中,如图4所示,图4为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的又一结构示意图。图4与图2的区别在于:该挡板31上接近该喷嘴部22的一端设有第一延长部312,以减小挡板31与该喷嘴部22之间的相邻处的第一缝隙411的缝隙间距。
例如,通过设置第一延长部312,使得挡板31与该喷嘴部22之间的相邻处的第一缝隙411的缝隙间距减小到3毫米以下。通过缩小相邻处的缝隙来阻止杂质从缝隙处侵入各器件内,特别是阻止杂质从缝隙处侵入至壳体10内的加热部23周围,避免杂质影响到加热部23的性能。例如,也可以阻止原来附着在壳体10内的加热部23周围的杂质从缝隙处溢出至基板60附近,避免杂质影响到蒸气241的温度、密度等物理参数。
在一些实施例中,如图5所示,图5为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的再一结构示意图。图5与图4的区别在于:该温度调整部件32与该喷嘴部22之间的相邻处的第二缝隙内412设有遮挡件321,其中,该遮挡件321的第一端3211与该喷嘴部22贴合连接,该遮挡件321的第二端3212与该温度调整部件32之间具有第三缝隙413。
例如,该温度调整部件32可以为用于调节蒸镀装置100内部温度的冷却腔或者加热腔。例如,该温度调整部件32为冷却板,该温度调整部件32的轴截面水平长度短于该反射板33。
例如,通过在第二缝隙内412内设置第遮挡件321,可以使得该温度调整部件32与该喷嘴部22之间的相邻处的缝隙减小成第三缝隙413,其中第三缝隙413的缝隙间距小于第二缝隙内412的缝隙间距。
其中,该第三缝隙413的缝隙间距小于3毫米。例如,该第三缝隙413的缝隙间距为2毫米。
在一些实施例中,如图6所示,图6为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅱ的又另一结构示意图。图6与图5的区别在于:该反射板33上接近该喷嘴部22的一端设有第二延长部331,以减小该反射板331与喷嘴部22之间的相邻处的第四缝隙414的缝隙间距。
例如,通过设置第二延长部331,使得反射板331与该喷嘴部22之间的相邻处的第四缝隙414的缝隙间距减小到3毫米以下。
例如,通过设置防护结构50、第一延长部312、遮挡件321、第二延长部331等,可以延长污染源的扩散路径,且缩小相邻处的缝隙,来阻止污染源中的杂质从缝隙处侵入各器件内,例如,阻止杂质从缝隙处侵入至壳体10内的加热部23周围冷却并附着,避免杂质影响到加热部23的性能。例如,也可以阻止原来附着在壳体10内的加热部23周围的杂质因为温度升高被汽化而从缝隙处溢出至基板60附近,避免杂质影响到蒸气241的温度、密度等物理参数进而影响基板60的良率。
本发明实施例提供的蒸镀装置100,包括壳体10以及位于该壳体10内的蒸镀源单元20和调整单元30;该蒸镀源单元20包括坩埚21、喷嘴部22以及加热部23,其中,该坩埚21内收容有蒸镀材料24,且该坩埚21上设有开口210,该坩埚21的开口210上设有该喷嘴部22,该喷嘴部22具有使该蒸镀材料24的蒸气241喷出的开口部220,该加热部23设置于坩埚21以及喷嘴部22的周围;该调整单元30设置于该喷嘴部22的周围,该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40设有防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。本发明实施例通过在调整单元与喷嘴部之间的相邻处设置防护结构,可以延长污染源的扩散路径,且缩小蒸镀装置内各器件间的连接缝隙,以防止蒸镀装置的腔内污染。
在一些实施例中,请参阅图7至图9,图7为本发明实施例提供的蒸镀装置的另一结构示意图,图8为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅳ的结构示意图,图9为本发明实施例提供的蒸镀装置的局部Ⅳ的另一结构示意图。
该蒸镀装置100包括壳体10以及位于该壳体10内的蒸镀源单元20和调整单元30。
其中,壳体10可以为真空蒸镀装置100的真空腔室。
蒸镀源单元20包括坩埚21、喷嘴部22以及加热部23。
其中,坩埚21内收容有蒸镀材料24,且该坩埚21上设有开口210,该坩埚21的开口210上设有该喷嘴部22,该喷嘴部22具有使该蒸镀材料24的蒸气241喷出的开口部220。该喷嘴部22与该坩埚21连通。
其中,坩埚21可以包括受热部211以及与该受热部211垂直连通的蒸镀部212,开口210设于蒸镀部212上,则该喷嘴部22设置于蒸镀部212的开口210上。该受热部211内收容有该蒸镀材料24。例如,该受热部211可以包括第一部分与第二部分,第一部分可以为圆锥体,第二部分可以为圆柱体,将蒸材料24放置于受热部211内,由于第一部分为圆锥体,可以使得蒸镀材料与受热部211的接触面积增加,从而使得该蒸镀材料24更易受热,提高蒸镀效率。其中,蒸镀部212垂直设置于受热部211上,可以使得蒸镀材料24的蒸气241更容易流向喷嘴部22。
例如,受热部211与蒸镀部212的连接处可以设有密封件25,该密封件25可以为环型金属圈。
该加热部23设置于该坩埚21以及该喷嘴部22的周围。
例如,在蒸镀制程中,通过该加热部23对该坩埚21进行加热,使得该坩埚21内的蒸镀材料24汽化形成蒸气241,然后蒸镀材料24的蒸气241从该坩埚21的开口210进入该喷嘴部22,然后通过该加热部23对该喷嘴部22进行再加热,以使得蒸气241的温度维持在一定温度范围,并使得蒸气241从该喷嘴部22的开口部220喷出,比如向开口部220朝向基板60的方向排放。
其中,该加热部23包括第一加热子部231、第二加热子部232及第三加热子部233。第一加热子部231设置于坩埚21的受热部211的周围,用于加热该受热部211,使得该受热部211内收容的蒸镀材料24汽化形成蒸气241,以使蒸镀材料24的蒸气241从该坩埚21的受热部211进入蒸镀部212。第二加热子部232设置于坩埚21的蒸镀部212的周围,用于加热该蒸镀部212,使得该蒸镀部212内的蒸气241保持在蒸镀制程规定的温度范围内,且保证蒸镀部212内的气压维持在蒸镀制程规定的压强范围内,以使蒸镀材料24的蒸气241从该蒸镀部212的开口210进入该喷嘴部22。第三加热子部233设置于喷嘴部22的周围,用于加热喷嘴部22,对蒸气241进行再加热的过程,以保证蒸气241可以保持在蒸镀制程规定的温度范围内,且保证喷嘴部22内的气压维持一定范围内,以使蒸气241可以从喷嘴部22喷射至基板60上,以对基板60进行蒸镀。
在一些实施例中,蒸镀装置100还可以包括温度传感器90,该温度传感器90用于监控坩埚21和/或喷嘴部22的周围的温度,例如,温度传感器90可以为石英温度传感器。
例如,该蒸镀材料24可以为有机材料。
例如,该坩埚21的开口210的直径可以与该喷嘴部22的开口部220的直径相同,以增大从开口部220排放的蒸气241的排放量。
例如,该坩埚21的开口210的直径可以小于该喷嘴部22的开口部220的直径相,以增长从开口部220排放的蒸气241的排放距离。
其中,该调整单元30设置于该喷嘴部22的周围,该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40设有防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
在一些实施例中,蒸镀装置100的壳体10可以设有多个蒸镀源单元20,而每一蒸镀源单元20对应的坩埚21上可以设有多个开口210,每一该坩埚21的开口210上设有对应的喷嘴部22,以使得该蒸镀源单元20具有多个喷嘴部22。例如,如图7所示,该蒸镀源单元20具有两个坩埚21,每一坩埚21上设有两个喷嘴部22,每一喷嘴部22的周围均设有对应的调整单元30,每一调整单元30与喷嘴部22之间的相邻处40设有对应的防护结构50,该防护结构50用于阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
请参图8及图9,该防护结构50可以包括防护罩70和防护垫80。其中,该防护罩70设置于该喷嘴部22上,该防护罩70包括罩体71和盖体72,盖体72的直径大于罩体71的直径,该盖体72上具有开孔73,该开孔73与喷嘴部22上的开口部220对应设置。防护垫80设于该调整单元30与该喷嘴部22之间,其中,防护垫80具有第一弯折部81与第二弯折部82,第一弯折部81贴合于该调整单元30的外表面,第二弯折部82伸入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内,该防护垫80用于密封该调整单元30内各器件的连接缝隙,且该防护垫80填充于该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
该防护罩70盖设于喷嘴部22上,且盖体72上从其与罩体71的相邻处向外延伸出的边缘覆盖该相邻处40,即该防护罩70的部分盖体72盖设于防护垫80的第一弯折部81上,以阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。
例如,该调整单元30的表面层为挡板31,则防护垫80的第一弯折部8贴合于部分挡板31上,然后该防护罩70的部分盖体72盖设于防护垫80的第一弯折部81上,使得污染物落在防护罩70的盖体72及挡板31上,在对蒸镀装置100腔内进行维护和/或清洗时,只需清洗防护罩70以及挡板31即可。
本发明实施例提供的蒸镀装置100,包括壳体10以及位于该壳体10内的蒸镀源单元20和调整单元30;该蒸镀源单元20包括坩埚21、喷嘴部22以及加热部23,其中,该坩埚21内收容有蒸镀材料24,且该坩埚21上设有开口210,该坩埚21的开口210上设有该喷嘴部22,该喷嘴部22具有使该蒸镀材料24的蒸气241喷出的开口部220,该加热部23设置于坩埚21以及喷嘴部22的周围;该调整单元30设置于该喷嘴部22的周围,该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40设有防护结构50,其中,该防护结构50可以包括防护罩70和防护垫80,该防护罩70盖设于喷嘴部22上,且盖体72上从其与罩体71的相邻处向外延伸出的边缘覆盖该相邻处40,防护垫80的第一弯折部81贴合于该调整单元30的外表面,防护垫80的第二弯折部82伸入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内,即该防护罩70的部分盖体72盖设于防护垫80的第一弯折部81上,以阻止该蒸镀材料24的蒸气241侵入该调整单元30与该喷嘴部22之间的相邻处40的缝隙41内。本发明实施例通过在调整单元与喷嘴部之间的相邻处设置防护结构,以防止蒸镀装置的腔内污染。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种蒸镀装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括壳体以及位于所述壳体内的蒸镀源单元和调整单元;
所述蒸镀源单元包括坩埚、喷嘴部以及加热部,其中,所述坩埚内收容有蒸镀材料,且所述坩埚上设有开口,所述坩埚的开口上设有所述喷嘴部,所述喷嘴部具有使所述蒸镀材料的蒸气喷出的开口部,所述加热部设置于所述坩埚以及喷嘴部的周围;
所述调整单元设置于所述喷嘴部的周围,所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处设有防护结构,所述防护结构用于阻止所述蒸镀材料的蒸气侵入所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述喷嘴部具有喷嘴盖和成型于所述坩埚的开口上的喷嘴腔,所述开口部设置在所述喷嘴盖上,所述喷嘴盖盖设在所述喷嘴腔上,其中,所述开口部的直径小于所述喷嘴腔的直径。
3.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述调整单元包括依次设置的挡板、温度调整部件与反射板,所述防护结构覆盖部分所述挡板与部分所述喷嘴盖,且所述防护结构的一端延伸至所述开口部的边缘。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,所述防护结构上设有多个延伸部,每相邻的延伸部之间形成凹槽部,所述挡板上设有多个阻隔件,其中,每一所述阻隔件与每一所述凹槽部对应设置,且每一所述阻隔件延伸至对应的每一所述凹槽部内,以使所述多个延伸部与多个阻隔件咬合连接。
5.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述咬合连接的多个延伸部与多个阻隔件成梳状咬合。
6.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述咬合连接的多个延伸部与多个阻隔件成锯齿状咬合。
7.如权利要求4所述的蒸镀装置,其特征在于,所述挡板上接近所述喷嘴部的一端设有第一延长部,以减小所述挡板与喷嘴部之间的相邻处的第一缝隙的缝隙间距。
8.如权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,所述温度调整部件与所述喷嘴部之间的相邻处的第二缝隙内设有遮挡件,其中,所述遮挡件的第一端与所述喷嘴部贴合连接,所述遮挡件的第二端与所述温度调整部件之间具有第三缝隙。
9.如权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,所述反射板上接近所述喷嘴部的一端设有第二延长部,以减小所述反射板与喷嘴部之间的相邻处的第四缝隙的缝隙间距。
10.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述防护结构包括防护罩和防护垫;
其中,所述防护罩设置于所述喷嘴部上,所述防护罩包括罩体和盖体,所述盖体的直径大于所述罩体的直径,所述盖体上具有开孔,所述开孔与所述喷嘴部上的所述开口部对应设置;
所述防护垫设于所述调整单元与所述喷嘴部之间,所述防护垫具有第一弯折部与第二弯折部,所述第一弯折部贴合于所述调整单元的外表面,所述第二弯折部伸入所述调整单元与所述喷嘴部之间的相邻处的缝隙内;
所述防护罩的部分盖体盖设于所述防护垫的第一弯折部上,以阻止所述蒸镀材料的蒸气侵入所述调整单元与喷嘴部之间的相邻处的缝隙内。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109321883A (zh) * 2018-10-15 2019-02-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀机
CN115522167A (zh) * 2022-09-22 2022-12-27 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀源设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101871090A (zh) * 2009-04-25 2010-10-27 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜原料收容装置
CN202898521U (zh) * 2012-10-22 2013-04-24 株式会社新柯隆 薄膜形成装置
JP2015067847A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社日立ハイテクファインシステムズ 真空蒸着装置
CN205133726U (zh) * 2015-11-26 2016-04-06 昆山国显光电有限公司 蒸镀机的喷嘴系统
CN207749177U (zh) * 2017-10-27 2018-08-21 信利(惠州)智能显示有限公司 一种蒸镀组件

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101871090A (zh) * 2009-04-25 2010-10-27 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜原料收容装置
CN202898521U (zh) * 2012-10-22 2013-04-24 株式会社新柯隆 薄膜形成装置
JP2015067847A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社日立ハイテクファインシステムズ 真空蒸着装置
CN205133726U (zh) * 2015-11-26 2016-04-06 昆山国显光电有限公司 蒸镀机的喷嘴系统
CN207749177U (zh) * 2017-10-27 2018-08-21 信利(惠州)智能显示有限公司 一种蒸镀组件

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109321883A (zh) * 2018-10-15 2019-02-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀机
CN109321883B (zh) * 2018-10-15 2020-10-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀机
CN115522167A (zh) * 2022-09-22 2022-12-27 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀源设备

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