CN115522167A - 一种蒸镀源设备 - Google Patents

一种蒸镀源设备 Download PDF

Info

Publication number
CN115522167A
CN115522167A CN202211161733.4A CN202211161733A CN115522167A CN 115522167 A CN115522167 A CN 115522167A CN 202211161733 A CN202211161733 A CN 202211161733A CN 115522167 A CN115522167 A CN 115522167A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nozzle
crucible
boss
cover
evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202211161733.4A
Other languages
English (en)
Inventor
王宇钊
李彦松
白珊珊
刘华猛
刘佳宁
沈阔
毕娜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202211161733.4A priority Critical patent/CN115522167A/zh
Publication of CN115522167A publication Critical patent/CN115522167A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Abstract

本公开实施例提供了一种蒸镀源设备,包括:蒸镀坩埚和隔热板;隔热板设置在蒸镀坩埚外部,包覆蒸镀坩埚;蒸镀坩埚包括:坩埚主体、坩埚盖、多个固定构件、多个喷嘴;坩埚盖设置在坩埚主体上,喷嘴设置在坩埚盖上,喷嘴与坩埚盖为分体结构,固定构件与喷嘴连接,用于固定喷嘴的蒸镀位置;坩埚盖上设置有多个用于容纳喷嘴的喷嘴通孔,喷嘴的第一端设置在喷嘴通孔中,喷嘴的第一端与喷嘴通孔处的坩埚盖之间设置有允许坩埚盖在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙,喷嘴的第二端延伸至隔热板之外,第一平面为坩埚盖所在的平面。本公开实施例可以保持喷嘴的蒸镀位置不变,不随坩埚盖的热膨胀而改变蒸镀位置,使得蒸镀膜厚分布均匀,提升产品性能。

Description

一种蒸镀源设备
技术领域
本公开涉及显示制造领域,特别涉及一种蒸镀源设备。
背景技术
OLED显示屏具有轻薄、亮度高、功耗低、响应快、清晰度高、柔性好、发光效率高等特点,能满足消费者对显示技术的新需求,在电子产品、商业、交通、工业控制等领域中获得广泛应用。
OLED产品的加工过程需要使用蒸镀工艺,蒸镀工艺使用的蒸镀源设备(简称蒸镀源)的结构如图1所示,蒸镀工艺一般需要将蒸镀源加热到高温使用,随着温度的升高,热膨胀效应会使蒸镀源的喷嘴位置发生偏移,这种偏移现象会严重影响蒸镀膜厚的分布。热膨胀造成的偏移量会随着蒸镀源尺寸的增大而增大,尤其是喷嘴位置的偏移,会使膜厚分布偏离原有设计值,膜厚均匀性降低,而高世代线的蒸镀源往往在2m以上,存在上述严重的热膨胀问题。
发明内容
有鉴于此,本公开实施例提出了一种蒸镀源设备,用以解决现有技术的如下问题:大尺寸基板蒸镀过程中,蒸镀源设备的热膨胀效应会使喷嘴位置发生偏移,影响蒸镀膜厚的分布,导致膜厚均匀性降低,产品性能降低。
一方面,本公开实施例提出了一种蒸镀源设备,包括:蒸镀坩埚和隔热板;所述隔热板设置在所述蒸镀坩埚外部,包覆所述蒸镀坩埚;所述蒸镀坩埚包括:坩埚主体、坩埚盖、多个固定构件、多个喷嘴;所述坩埚盖设置在所述坩埚主体上,所述喷嘴设置在所述坩埚盖上,所述喷嘴与所述坩埚盖为分体结构,所述固定构件与所述喷嘴连接,用于固定所述喷嘴的蒸镀位置;所述坩埚盖上设置有多个用于容纳喷嘴的喷嘴通孔,所述喷嘴的第一端设置在所述喷嘴通孔中,所述喷嘴的第一端与所述喷嘴通孔处的坩埚盖之间设置有允许所述坩埚盖在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙,所述喷嘴的第二端延伸至所述隔热板之外,其中,所述第一平面为所述坩埚盖所在的平面。
在一些实施例中,所述喷嘴包括:喷管、第一凸台、第二凸台;所述第一凸台和所述第二凸台设置在所述喷管上,所述第一凸台和所述第二凸台之间的设置距离与所述坩埚盖的厚度匹配,以使所述喷嘴通过所述第一凸台和所述第二凸台配合卡接在所述坩埚盖上;其中,所述第一凸台和所述第二凸台在所述坩埚盖上的投影包围住所述喷嘴通孔。
在一些实施例中,所述喷嘴与所述坩埚盖为可拆卸式连接。
在一些实施例中,所述坩埚盖包括:第一盖体和第二盖体;所述第一盖体包括各个喷嘴通孔的第一部分,所述第二盖体包括各个喷嘴通孔的第二部分,所述第一盖体和所述第二盖体通过连接件连接,所述第一部分与所述第二部分在所述第一盖体和所述第二盖体处于连接状态下构成完整的喷嘴通孔。
在一些实施例中,所述喷管、所述第一凸台、所述第二凸台为可拆卸式连接。
在一些实施例中,所述第一空隙的空隙宽度在沿着所述坩埚盖的中心位置向边缘位置的方向上依次增加。
在一些实施例中,所示固定构件设置在所述隔热板之外。
在一些实施例中,多个所述固定构件为一体设计的连接桥结构。
在一些实施例中,还包括:箱体,设置在所述隔热板外部,包覆所述隔热板。
在一些实施例中,所述箱体包括多个固定通孔,所述固定构件设置在所固定通孔中。
本公开实施例将坩埚盖与喷嘴设计为分体结构,且在分体结构的连接处设计了第一空隙,第一空隙形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,当蒸镀源设备发生热膨胀时,坩埚盖的热膨胀会填充第一空隙,使得第一空隙的空隙宽度变小,当不处于热膨胀状态下,第一空隙的空隙宽度变回初始设置宽度,整个过程中喷嘴通过固定构件固定位置,可以保持蒸镀位置不变,不随坩埚盖的热膨胀而改变蒸镀位置,使得蒸镀膜厚分布均匀,提升产品性能。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的蒸镀源设备的结构示意图;
图2为本公开第一实施例提供的蒸镀源设备的结构示意图一;
图3为本公开第一实施例提供的蒸镀源设备的结构示意图二;
图4为本公开第一实施例提供的固定构件与喷嘴设置位置示意图;
图5为本公开第一实施例提供的喷嘴处位置放大后的示意图;
图6为本公开第一实施例提供的喷嘴的结构示意图;
图7为本公开第二实施例提供的喷嘴的一种可拆卸结构示意图;
图8为本公开第二实施例提供的坩埚盖的一种可拆卸结构示意图。
附图标记:
1-隔热板,2-坩埚主体,3-坩埚盖,4-多个喷嘴,5-固定构件,6-第一空隙,7-箱体;
31-第一盖体,32-第二盖体;
41-喷管,42-第一凸台,43-第二凸台。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本公开实施例的附图,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明,本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
本公开第一实施例提供了一种蒸镀源设备,其结构示意如图2所示,包括:
蒸镀坩埚和隔热板1;隔热板1设置在蒸镀坩埚外部,包覆蒸镀坩埚;
蒸镀坩埚包括:坩埚主体2、坩埚盖3、多个固定构件5、多个喷嘴4;
坩埚盖3设置在坩埚主体2上,喷嘴4设置在坩埚盖3上,喷嘴4与坩埚盖3为分体结构,固定构件5与喷嘴4连接,用于固定喷嘴4的蒸镀位置;
坩埚盖3上设置有多个用于容纳喷嘴4的喷嘴通孔,喷嘴4的第一端设置在喷嘴通孔中,喷嘴4的第一端与喷嘴通孔处的坩埚盖3之间设置有允许坩埚盖3在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙6,喷嘴4的第二端延伸至隔热板1之外,其中,第一平面为坩埚盖3所在的平面。
上述图2中示出的固定构件设置在隔热板上,其仅为一种实施方式,不对本公开实施例构成限定;为了防止隔热板也会发生热膨胀问题,固定构件优选设置在隔热板之外,例如,在上述蒸镀源设备还包括设置在隔热板外部、包覆隔热板的箱体7的情况下,固定构件5可以设置在箱体7中(或箱体7外),蒸镀源设备的结构示可以如图3所示,在外部箱体中设计固定构件可以如图4所示,箱体包括多个固定通孔,固定构件5设置在所固定通孔中。实现时,使用绝热性能良好的材料对喷嘴进行固定,同时在喷嘴与隔热板/箱体之间应尽量减小传热界面,避免对喷嘴温度产生影响。
上述箱体包覆隔热板的结构与隔热板包覆蒸镀坩埚的结构一样,具体设置时,隔热板与蒸镀坩埚之间、箱体与隔热板之间均具有一定距离,该距离可以帮助更好的阻隔热量外溢。
喷嘴的固定构件除了采取图4所示设计之外,可以采取任意能够起到固定作用的设计,除整圈包围固定外,还可以进行部分区域半包围间断式固定、对称短棒支撑直接固定等形式,只要能够起到固定作用都可以采用。对于固定构件设置的位置,除设置在上述固定通孔处之外,还可以在箱体外部单独设计固定支架用以固定喷嘴,例如设置固定爪。
本公开实施例将坩埚盖与喷嘴设计为分体结构,且在分体结构的连接处设计了第一空隙,第一空隙形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,当蒸镀源设备发生热膨胀时,坩埚盖的热膨胀会填充第一空隙,使得第一空隙的空隙宽度变小,当不处于热膨胀状态下,第一空隙的空隙宽度变回初始设置宽度,整个过程中喷嘴通过固定构件固定位置,可以保持蒸镀位置不变,不随坩埚盖的热膨胀而改变蒸镀位置,使得蒸镀膜厚分布均匀,提升产品性能。
实现时,上述喷嘴4可以为图2中所示的结构,即包括喷管41、第一凸台42、第二凸台43,图5为图2中喷嘴处位置放大后的示意图;第一凸台和第二凸台设置在喷管上,第一凸台和第二凸台之间的设置距离与坩埚盖的厚度匹配,以使喷嘴通过第一凸台和第二凸台配合卡接在坩埚盖上;其中,第一凸台和第二凸台在坩埚盖上的投影包围住喷嘴通孔。
对于喷嘴的第一凸台和第二凸台,其可以为图6所示的圆环形结构,也可以为方环形等,此处不再赘述。
现有蒸发源设备的喷嘴固定在坩埚盖上,由于热膨胀效应,蒸镀源设备整体尺寸会增大,喷嘴也会随之发生位置偏移,这种喷嘴位置偏移的现象会严重影响蒸镀基板上膜厚的分布。针对高世代线使用的2m以上的蒸镀源设备,本公开实施例改变了原有的喷嘴与坩埚盖的一体式结构,通过将喷嘴与坩埚盖进行分离设计,避免热膨胀影响喷嘴的位置。当发生热膨胀时,水平方向上,在喷嘴外壁与坩埚盖开口之间设置了第一空隙,坩埚盖的热变形量可以通过此空隙解决,且存在固定构件固定喷嘴位置,避免了喷嘴随坩埚盖发生位置偏移。同时,在竖直方向上设置直径大于坩埚盖开口的凸台,来保证该方向上不发生位置变化,以此来保证喷嘴到基板的蒸镀距离不变。
由于在实际蒸镀工艺中经常需要对膜厚均匀性进行调整,此种情况就需要不同孔径的喷嘴,进而需要更换不同的蒸镀源设备,此种方式需要针对不同喷嘴孔径制造较多的蒸镀源设备,蒸镀源设备的制造成本较高。
为了实现蒸镀源设备的复用,本公开第二实施例提供了一种蒸镀源设备,该蒸镀源设备相对于第一实施例而言,喷嘴与坩埚盖为可拆卸式连接,其包括:
蒸镀坩埚和隔热板1;隔热板1设置在蒸镀坩埚外部,包覆蒸镀坩埚;
蒸镀坩埚包括:坩埚主体2、坩埚盖3、多个固定构件5、多个喷嘴4;
坩埚盖3设置在坩埚主体2上,喷嘴4设置在坩埚盖3上,喷嘴4与坩埚盖3为分体结构,固定构件5与喷嘴4连接,用于固定喷嘴4的蒸镀位置,喷嘴与坩埚盖为可拆卸式连接;
坩埚盖3上设置有多个用于容纳喷嘴4的喷嘴通孔,喷嘴4的第一端设置在喷嘴通孔中,喷嘴4的第一端与喷嘴通孔处的坩埚盖3之间设置有允许坩埚盖3在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙6,喷嘴4的第二端延伸至隔热板1之外,其中,第一平面为坩埚盖3所在的平面。
上述固定构件可以设置在隔热板上,但固定构件优选设置在隔热板之外,例如,在上述蒸镀源设备还包括设置在隔热板外部、包覆隔热板的箱体7的情况下,固定构件5可以设置在箱体7中(或箱体7外),箱体包括多个固定通孔,固定构件5设置在所固定通孔中。实现时,使用绝热性能良好的材料对喷嘴进行固定,同时在喷嘴与隔热板/箱体之间应尽量减小传热界面,避免对喷嘴温度产生影响。
上述箱体包覆隔热板的结构与隔热板包覆蒸镀坩埚的结构一样,具体设置时,隔热板与蒸镀坩埚之间、箱体与隔热板之间均具有一定距离,该距离可以帮助更好的阻隔热量外溢。
喷嘴的固定构件除了采取在箱体中的设计之外,可以采取任意能够起到固定作用的设计,除整圈包围固定外,还可以进行部分区域半包围间断式固定、对称短棒支撑直接固定等形式,只要能够起到固定作用都可以采用。对于固定构件设置的位置,除设置在上述固定通孔处之外,还可以在箱体外部单独设计固定支架用以固定喷嘴,例如设置固定爪。
本公开实施例将坩埚盖与喷嘴设计为分体结构,且在分体结构的连接处设计了第一空隙,第一空隙形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,当蒸镀源设备发生热膨胀时,坩埚盖的热膨胀会填充第一空隙,使得第一空隙的空隙宽度变小,当不处于热膨胀状态下,第一空隙的空隙宽度变回初始设置宽度,整个过程中喷嘴通过固定构件固定位置,可以保持蒸镀位置不变,不随坩埚盖的热膨胀而改变蒸镀位置,使得蒸镀膜厚分布均匀,提升产品性能;本公开实施例的喷嘴与坩埚盖为可拆卸式连接,进而可以更换不同孔径的喷嘴,能够避免在更换喷嘴时而更换整个蒸镀源造成的资源浪费,本公开实施例仅需要更换几个喷嘴就能实现喷嘴孔径的变更,极大的节约了设备的制造和使用成本。
实现时,上述喷嘴4可以包括喷管41、第一凸台42、第二凸台43,第一凸台和第二凸台设置在喷管上,第一凸台和第二凸台之间的设置距离与坩埚盖的厚度匹配,以使喷嘴通过第一凸台和第二凸台配合卡接在坩埚盖上;其中,第一凸台和第二凸台在坩埚盖上的投影包围住喷嘴通孔。
对于喷嘴的第一凸台和第二凸台,其可以为圆环形结构,也可以为方环形等,此处不再赘述。
对于可拆卸连接的喷嘴与坩埚盖,可以是将喷嘴设计为可拆卸的结构,也可以将坩埚盖设计为可拆卸的结构,也可以是喷嘴和坩埚盖均设计为可拆卸的结构。
对于喷嘴而言,只需要将喷管、第一凸台、第二凸台设计为可拆卸式连接即可,例如将图6所示的喷嘴结构设计为图7所示的可拆卸结构,即第一凸台设计为可拆卸式,将第二凸台和喷管设计为一体式,实现时,喷管上可以设置有有螺纹或卡扣等连接限位结构,进而当第一凸台既可以灵活安装又可以固定高度卡接在坩埚盖上。本领域技术人员还可以对其进行其它形式的变形,例如可以将第二凸台设计为可拆卸式、将第一凸台和喷管设计为一体式,当然,还可以将第二凸台和第一凸台均设计为可拆卸式。拆分形式除上述套筒式外,也可将凸台设计为两段或多段式,通过向喷管外壁上组装凸台实现本公开所设计的效果。
对于可拆卸式的坩埚盖3,其可以如图8所示,包括第一盖体31和第二盖体32;第一盖体包括各个喷嘴通孔的第一部分,第二盖体包括各个喷嘴通孔的第二部分,第一盖体和第二盖体通过连接件连接,第一部分与第二部分在第一盖体和第二盖体处于连接状态下构成完整的喷嘴通孔。在采用此种设计时,喷嘴不需要做成可拆卸式便可以实现更换不同孔径喷嘴的需求。将坩埚盖设计为可沿喷嘴排列方向分开的两半式结构,在将喷嘴在坩埚盖开口处排列好后,将两半式坩埚盖扣合,通过这种方式实现喷嘴的可拆卸设计。
通常情况下,喷嘴中喷管外壁的直径是确定的,针对不同的孔径,可以调整喷管内壁的直径,进而形成不同孔径的喷管,此时,无论是采用可拆卸式的坩埚盖还是可拆卸连接的喷嘴,实现过程都较为简单。
针对外壁直径固定的喷管,喷嘴通孔的尺寸也是固定的,但针对需要固定壁厚的喷管,则随着喷管孔径的变化,喷管外壁的尺寸也会随之变化;针对此种外壁的尺寸会变化的喷管,需要将喷嘴通孔的尺寸设置为能够容纳最大孔径的喷管,并将所有孔径喷管的喷嘴中第一凸台和第二凸台均设置为统一尺寸,以在坩埚盖上的投影包围住喷嘴通孔为尺寸标准。
本公开实施例在坩埚盖与喷嘴连接处设计第一空隙,进而形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,使得当蒸镀源主体发生热膨胀时,喷嘴位置能够保持不变,以此来保证蒸镀膜厚的均匀性,解决了高世代线使用的2m以上线性蒸镀源存在的因热膨胀效应导致喷嘴位置偏移的问题;同时,由于喷嘴相对坩埚盖是独立的,对其进行可拆卸设计,这样当有喷嘴口径变更需求时,仅需要更换喷嘴,极大地节约了成本,通过喷嘴的可拆卸设计实现了蒸镀源设备的重复利用。
由于在实际蒸镀工艺中经常需要对膜厚均匀性进行调整,而变更蒸镀源喷嘴的孔径是重要途径之一,因此时常需要变更喷嘴设计,而本公开实施例将喷嘴和坩埚盖设计为可拆卸式,可以更换不同孔径的喷嘴,能够避免在更换喷嘴时而更换整个蒸镀源造成的资源浪费,本公开实施例仅需要更换几个喷嘴就能实现喷嘴孔径的变更,极大的节约了设备的制造和使用成本。
本公开第三实施例提供了一种蒸镀源设备,该蒸镀源设备相对于第二实施例而言,第一间隙设置为不同尺寸,其包括:
蒸镀坩埚和隔热板1;隔热板1设置在蒸镀坩埚外部,包覆蒸镀坩埚;
蒸镀坩埚包括:坩埚主体2、坩埚盖3、多个固定构件5、多个喷嘴4;
坩埚盖3设置在坩埚主体2上,喷嘴4设置在坩埚盖3上,喷嘴4与坩埚盖3为分体结构,喷嘴与坩埚盖为可拆卸式连接,固定构件5与喷嘴4连接,用于固定喷嘴4的蒸镀位置;
坩埚盖3上设置有多个用于容纳喷嘴4的喷嘴通孔,喷嘴4的第一端设置在喷嘴通孔中,喷嘴4的第一端与喷嘴通孔处的坩埚盖3之间设置有允许坩埚盖3在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙6,喷嘴4的第二端延伸至隔热板1之外,第一空隙的空隙宽度在沿着坩埚盖的中心位置向边缘位置的方向上依次增加,其中,第一平面为坩埚盖3所在的平面。
对于大尺寸蒸镀源设备的热膨胀效应来说,是由中间向两端逐渐积累的,中间区域发生膨胀后会向两端扩展,导致边部发生位置便宜,而边部发生热膨胀时会在这个已经偏移的基础上继续发生偏移,因此,在整个蒸镀源设备上表现为从中间向两端热膨胀引起的喷嘴位置偏移量逐渐增大,中间部位的喷嘴发生的位置偏移较小,而端部的喷嘴位置偏差较大。热膨胀一般遵循如下公式:δ=αLT,其中,δ为热膨胀变形量,α为与蒸镀源设备所用材料相关的热膨胀系数,L为距中心的长度,T为温度变化量;基于这种情况,除了对可动喷嘴与坩埚盖之间的第一空隙统一设计外,也可以根据公式对其进行差异化设计,中间的第一空隙的宽度可以设计较小,随着位置向两端靠近,第一空隙的宽度逐渐增大,在设计时,优选保证第一空隙实际尺寸比通过上述公式计算得到的公式计算值大2mm,进而避免加工误差等因素的影响。
上述固定构件可以设置在隔热板上,但固定构件优选设置在隔热板之外,例如,在上述蒸镀源设备还包括设置在隔热板外部、包覆隔热板的箱体7的情况下,固定构件5可以设置在箱体7中(或箱体7外),箱体包括多个固定通孔,固定构件5设置在所固定通孔中。实现时,使用绝热性能良好的材料对喷嘴进行固定,同时在喷嘴与隔热板/箱体之间应尽量减小传热界面,避免对喷嘴温度产生影响。
上述箱体包覆隔热板的结构与隔热板包覆蒸镀坩埚的结构一样,具体设置时,隔热板与蒸镀坩埚之间、箱体与隔热板之间均具有一定距离,该距离可以帮助更好的阻隔热量外溢。
喷嘴的固定构件除了采取在箱体中的设计之外,可以采取任意能够起到固定作用的设计,除整圈包围固定外,还可以进行部分区域半包围间断式固定、对称短棒支撑直接固定等形式,只要能够起到固定作用都可以采用。对于固定构件设置的位置,除设置在上述固定通孔处之外,还可以在箱体外部单独设计固定支架用以固定喷嘴,例如设置固定爪。
本公开实施例将坩埚盖与喷嘴设计为分体结构,且在分体结构的连接处设计了第一空隙,第一空隙形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,当蒸镀源设备发生热膨胀时,坩埚盖的热膨胀会填充第一空隙,使得第一空隙的空隙宽度变小,当不处于热膨胀状态下,第一空隙的空隙宽度变回初始设置宽度,整个过程中喷嘴通过固定构件固定位置,可以保持蒸镀位置不变,不随坩埚盖的热膨胀而改变蒸镀位置,使得蒸镀膜厚分布均匀,提升产品性能;本公开实施例的喷嘴与坩埚盖为可拆卸式连接,进而可以更换不同孔径的喷嘴,能够避免在更换喷嘴时而更换整个蒸镀源造成的资源浪费,本公开实施例仅需要更换几个喷嘴就能实现喷嘴孔径的变更,极大的节约了设备的制造和使用成本;本公开实施例对不同位置的第一空隙进行差异化设计,中间的空隙宽度可以设计较小,随着位置向两端靠近,空隙宽度逐渐增大,进而可以更加精确的预留坩埚盖的变形量,进一步避免喷嘴发生位移。
实现时,上述喷嘴4可以包括喷管41、第一凸台42、第二凸台43,第一凸台和第二凸台设置在喷管上,第一凸台和第二凸台之间的设置距离与坩埚盖的厚度匹配,以使喷嘴通过第一凸台和第二凸台配合卡接在坩埚盖上;其中,第一凸台和第二凸台在坩埚盖上的投影包围住喷嘴通孔。
对于喷嘴的第一凸台和第二凸台,其可以为圆环形结构,也可以为方环形或凸出的棒体等,此处不再赘述。
对于可拆卸连接的喷嘴与坩埚盖,可以是将喷嘴设计为可拆卸的结构,也可以将坩埚盖设计为可拆卸的结构,也可以是喷嘴和坩埚盖均设计为可拆卸的结构。
对于喷嘴而言,只需要将喷管、第一凸台、第二凸台设计为可拆卸式连接即可,即第一凸台设计为可拆卸式,将第二凸台和喷管设计为一体式,实现时,喷管上可以设置有有螺纹或卡扣等连接限位结构,进而当第一凸台既可以灵活安装又可以固定高度卡接在坩埚盖上。本领域技术人员还可以对其进行其它形式的变形,例如可以将第二凸台设计为可拆卸式、将第一凸台和喷管设计为一体式,当然,还可以将第二凸台和第一凸台均设计为可拆卸式。
对于可拆卸式的坩埚盖3,其可以包括第一盖体31和第二盖体32;第一盖体包括各个喷嘴通孔的第一部分,第二盖体包括各个喷嘴通孔的第二部分,第一盖体和第二盖体通过连接件连接,第一部分与第二部分在第一盖体和第二盖体处于连接状态下构成完整的喷嘴通孔。在采用此种设计时,喷嘴不需要做成可拆卸式便可以实现更换不同孔径喷嘴的需求。
通常情况下,喷嘴中喷管外壁的直径是确定的,针对不同的孔径,可以调整喷管内壁的直径,进而形成不同孔径的喷管,此时,无论是采用可拆卸式的坩埚盖还是可拆卸连接的喷嘴,实现过程都较为简单。
针对外壁直径固定的喷管,喷嘴通孔的尺寸也是固定的,但针对需要固定壁厚的喷管,则随着喷管孔径的变化,喷管外壁的尺寸也会随之变化;针对此种外壁的尺寸会变化的喷管,需要将喷嘴通孔的尺寸设置为能够容纳最大孔径的喷管,并将所有孔径喷管的喷嘴中第一凸台和第二凸台均设置为统一尺寸,以在坩埚盖上的投影包围住喷嘴通孔为尺寸标准。
本公开实施例在坩埚盖与喷嘴连接处设计第一空隙,进而形成了坩埚盖在水平移动发生形变时的容纳空间,使得当蒸镀源主体发生热膨胀时,喷嘴位置能够保持不变,以此来保证蒸镀膜厚的均匀性,解决了高世代线使用的2m以上线性蒸镀源存在的因热膨胀效应导致喷嘴位置偏移的问题;同时,由于喷嘴相对坩埚盖是独立的,对其进行可拆卸设计,这样当有喷嘴口径变更需求时,仅需要更换喷嘴,极大地节约了成本,通过喷嘴的可拆卸设计实现了蒸镀源设备的重复利用。
由于在实际蒸镀工艺中经常需要对膜厚均匀性进行调整,而变更蒸镀源喷嘴的孔径是重要途径之一,因此时常需要变更喷嘴设计,而本公开实施例将喷嘴和坩埚盖设计为可拆卸式,可以更换不同孔径的喷嘴,能够避免在更换喷嘴时而更换整个蒸镀源造成的资源浪费,本公开实施例仅需要更换几个喷嘴就能实现喷嘴孔径的变更,极大的节约了设备的制造和使用成本。
除将固定构件设计为独立的个体外,也可将多个固定构件设置为一体设计的连接桥结构,在喷嘴排列方向上将多个喷嘴通过连接桥进行串联设计,这样在安装喷嘴时不需要再进行逐个单独操作,能够极大的简化喷嘴装配的过程,且通过连接桥的固定,能够保证喷嘴之间的间距不发生变化,进一步保证喷嘴位置不偏离设计位置。该连接桥应采用绝热性能良好的材料,同时其位置的设计宜在隔热板之外,这样能够避免连接桥的热膨胀影响。
此外,尽管已经在本文中描述了示例性实施例,其范围包括任何和所有基于本公开的具有等同元件、修改、省略、组合(例如,各种实施例交叉的方案)、改编或改变的实施例。权利要求书中的元件将被基于权利要求中采用的语言宽泛地解释,并不限于在本说明书中或本申请的实施期间所描述的示例,其示例将被解释为非排他性的。因此,本说明书和示例旨在仅被认为是示例,真正的范围和精神由以下权利要求以及其等同物的全部范围所指示。
以上描述旨在是说明性的而不是限制性的。例如,上述示例(或其一个或更多方案)可以彼此组合使用。例如本领域普通技术人员在阅读上述描述时可以使用其它实施例。另外,在上述具体实施方式中,各种特征可以被分组在一起以简单化本公开。这不应解释为一种不要求保护的公开的特征对于任一权利要求是必要的意图。相反,本公开的主题可以少于特定的公开的实施例的全部特征。从而,以下权利要求书作为示例或实施例在此并入具体实施方式中,其中每个权利要求独立地作为单独的实施例,并且考虑这些实施例可以以各种组合或排列彼此组合。本公开的范围应参照所附权利要求以及这些权利要求赋权的等同形式的全部范围来确定。
以上对本公开多个实施例进行了详细说明,但本公开不限于这些具体的实施例,本领域技术人员在本公开构思的基础上,能够做出多种变型和修改实施例,这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种蒸镀源设备,其特征在于,包括:
蒸镀坩埚和隔热板;
所述隔热板设置在所述蒸镀坩埚外部,包覆所述蒸镀坩埚;
所述蒸镀坩埚包括:坩埚主体、坩埚盖、多个固定构件、多个喷嘴;
所述坩埚盖设置在所述坩埚主体上,所述喷嘴设置在所述坩埚盖上,所述喷嘴与所述坩埚盖为分体结构,所述固定构件与所述喷嘴连接,用于固定所述喷嘴的蒸镀位置;
所述坩埚盖上设置有多个用于容纳喷嘴的喷嘴通孔,所述喷嘴的第一端设置在所述喷嘴通孔中,所述喷嘴的第一端与所述喷嘴通孔处的坩埚盖之间设置有允许所述坩埚盖在第一平面所在方向上发生形变的第一空隙,所述喷嘴的第二端延伸至所述隔热板之外,其中,所述第一平面为所述坩埚盖所在的平面。
2.如权利要求1所述的蒸镀源设备,其特征在于,所述喷嘴包括:
喷管、第一凸台、第二凸台;
所述第一凸台和所述第二凸台设置在所述喷管上,所述第一凸台和所述第二凸台之间的设置距离与所述坩埚盖的厚度匹配,以使所述喷嘴通过所述第一凸台和所述第二凸台配合卡接在所述坩埚盖上;其中,所述第一凸台和所述第二凸台在所述坩埚盖上的投影包围住所述喷嘴通孔。
3.如权利要求1所述的蒸镀源设备,其特征在于,所述喷嘴与所述坩埚盖为可拆卸式连接。
4.如权利要求3所述的蒸镀源设备,其特征在于,所述坩埚盖包括:
第一盖体和第二盖体;
所述第一盖体包括各个喷嘴通孔的第一部分,所述第二盖体包括各个喷嘴通孔的第二部分,所述第一盖体和所述第二盖体通过连接件连接,所述第一部分与所述第二部分在所述第一盖体和所述第二盖体处于连接状态下构成完整的喷嘴通孔。
5.如权利要求3所述的蒸镀源设备,其特征在于,
所述喷管、所述第一凸台、所述第二凸台为可拆卸式连接。
6.如权利要求1所述的蒸镀源设备,其特征在于,
所述第一空隙的空隙宽度在沿着所述坩埚盖的中心位置向边缘位置的方向上依次增加。
7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀源设备,其特征在于,
所述固定构件设置在所述隔热板之外。
8.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀源设备,其特征在于,多个所述固定构件为一体设计的连接桥结构。
9.如权利要求7所述的蒸镀源设备,其特征在于,还包括:
箱体,设置在所述隔热板外部,包覆所述隔热板。
10.如权利要求9所述的蒸镀源设备,其特征在于,
所述箱体包括多个固定通孔,所述固定构件设置在所固定通孔中。
CN202211161733.4A 2022-09-22 2022-09-22 一种蒸镀源设备 Pending CN115522167A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211161733.4A CN115522167A (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种蒸镀源设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211161733.4A CN115522167A (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种蒸镀源设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115522167A true CN115522167A (zh) 2022-12-27

Family

ID=84698868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211161733.4A Pending CN115522167A (zh) 2022-09-22 2022-09-22 一种蒸镀源设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115522167A (zh)

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011020860A (ja) * 2009-07-13 2011-02-03 Nippon Steel Corp 炭化珪素単結晶製造用坩堝及び炭化珪素単結晶の製造方法
CN206692719U (zh) * 2017-04-24 2017-12-01 京东方科技集团股份有限公司 一种线性蒸发源和蒸镀装置
CN107604318A (zh) * 2017-09-27 2018-01-19 京东方科技集团股份有限公司 坩埚加热装置
CN207109082U (zh) * 2017-08-31 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源和蒸镀装置
CN108004508A (zh) * 2017-11-20 2018-05-08 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚
CN108048800A (zh) * 2018-01-26 2018-05-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN207552430U (zh) * 2017-11-07 2018-06-29 信利(惠州)智能显示有限公司 坩埚及其喷嘴
CN108359941A (zh) * 2018-05-11 2018-08-03 京东方科技集团股份有限公司 坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法
CN109082630A (zh) * 2018-09-06 2018-12-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置
CN110344004A (zh) * 2019-08-29 2019-10-18 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN110573647A (zh) * 2017-04-26 2019-12-13 株式会社爱发科 蒸发源和成膜装置
CN112680698A (zh) * 2021-03-15 2021-04-20 苏州盟萤电子科技有限公司 真空蒸镀用加热坩埚及真空蒸镀装置
CN114182210A (zh) * 2021-11-04 2022-03-15 昆山国显光电有限公司 蒸镀用坩埚
CN114293150A (zh) * 2020-10-08 2022-04-08 三星显示有限公司 沉积源
KR20220046983A (ko) * 2020-10-08 2022-04-15 엘지전자 주식회사 선형 증발원

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011020860A (ja) * 2009-07-13 2011-02-03 Nippon Steel Corp 炭化珪素単結晶製造用坩堝及び炭化珪素単結晶の製造方法
CN206692719U (zh) * 2017-04-24 2017-12-01 京东方科技集团股份有限公司 一种线性蒸发源和蒸镀装置
CN110573647A (zh) * 2017-04-26 2019-12-13 株式会社爱发科 蒸发源和成膜装置
CN207109082U (zh) * 2017-08-31 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源和蒸镀装置
CN107604318A (zh) * 2017-09-27 2018-01-19 京东方科技集团股份有限公司 坩埚加热装置
CN207552430U (zh) * 2017-11-07 2018-06-29 信利(惠州)智能显示有限公司 坩埚及其喷嘴
CN108004508A (zh) * 2017-11-20 2018-05-08 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚
CN108048800A (zh) * 2018-01-26 2018-05-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN108359941A (zh) * 2018-05-11 2018-08-03 京东方科技集团股份有限公司 坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法
CN109082630A (zh) * 2018-09-06 2018-12-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置
CN110344004A (zh) * 2019-08-29 2019-10-18 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN114293150A (zh) * 2020-10-08 2022-04-08 三星显示有限公司 沉积源
KR20220046983A (ko) * 2020-10-08 2022-04-15 엘지전자 주식회사 선형 증발원
CN112680698A (zh) * 2021-03-15 2021-04-20 苏州盟萤电子科技有限公司 真空蒸镀用加热坩埚及真空蒸镀装置
CN114182210A (zh) * 2021-11-04 2022-03-15 昆山国显光电有限公司 蒸镀用坩埚

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8240863B2 (en) Illuminant device
CN102218487B (zh) 导热座供多热管密合排列之组配方法及其结构
KR20180034571A (ko) 소형 개구 증착용 마스크
CN104603321B (zh) 蒸发源
KR101967040B1 (ko) 고온 증발원용 히터
KR20130073409A (ko) 증발히터 고정부재를 포함하는 증발원
WO2020042538A1 (zh) 掩膜板排版方法
CN109097729B (zh) 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件
US9395036B2 (en) Bracket for a display panel and display device including the same
KR20170084278A (ko) 대면적 기판들을 코팅하기 위한 cvd- 또는 pvd-반응기
CN115522167A (zh) 一种蒸镀源设备
KR20140086007A (ko) 증발원 가열 장치
CN111367386A (zh) 冷却板基底、冷却设备以及服务器装置
CN210193986U (zh) 掩模板组件
WO2017156827A1 (zh) 导热装置与蒸镀坩埚
JP2004269968A (ja) 蒸着用マスク
US8616738B2 (en) Back frame and backlight system of flat panel display device
CN109932843B (zh) 显示面板和显示装置
US20200292241A1 (en) Mounting device and display device having the same
CN209418047U (zh) 一种直下式背光模组及背光屏
TWI689616B (zh) 用於塗佈大型基板之裝置
US20150044424A1 (en) Bottom electrode and manufacturing method thereof
JP6176561B2 (ja) 温度部材用の支持部材及び保温輸送管
CN113207268A (zh) 浮动散热单元
US20130128146A1 (en) Flat Panel Display Device and Stereoscopic Display Device

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination