CN114293150A - 沉积源 - Google Patents
沉积源 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114293150A CN114293150A CN202110939105.3A CN202110939105A CN114293150A CN 114293150 A CN114293150 A CN 114293150A CN 202110939105 A CN202110939105 A CN 202110939105A CN 114293150 A CN114293150 A CN 114293150A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- deposition
- crucible
- deposition source
- reflectors
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一实施例的沉积源包括沉积模块以及收纳沉积模块的壳体,沉积模块包括:第一坩埚,沿着第一方向延伸,并且在内部空间收纳沉积物质;多个喷嘴,配置在第一坩埚上,并且沿着第一方向排列多个喷嘴;发热部件,收纳第一坩埚;以及辐射热防止部件,配置在发热部件的上表面、外侧面和下表面上,辐射热防止部件包括多个反射器以及分别连接多个反射器之中的相邻的反射器之间的多个销,多个销被配置成在平面上彼此错开。本发明的沉积源防止在沉积源内产生的热朝向沉积源的外部的损失或散出,从而提供一种在高温环境下提高了可靠性的沉积源。
Description
技术领域
本发明是涉及沉积源的发明,更详细而言是涉及在沉积装置中使用的线型沉积源的发明。
背景技术
显示装置可以在对置的电极之间包括发光层。形成电极的各种方法之一是利用沉积装置的沉积方法。电极可以包括金属物质,为了在基板上沉积金属物质,可以要求高温环境的沉积装置。
作为用于沉积金属物质的沉积源,具有点型沉积源。为了在大面积基板上使沉积物质沉积,可以使用多个点型沉积源,各个点型沉积源是排列有存储了沉积物质的多个坩埚的形态。点型沉积源由于所收纳的沉积物质的容量少,并且很难使其长时间连续运行,因此沉积工序效率会下降。另外,由于单独控制各个点型沉积源,因此控制方式复杂。另外,存在为了在基板上形成均匀的膜而需要单独的膜厚度补正板的问题。
为了解决点型沉积源的问题,可以使用在一方向上延伸的线型沉积源。但是,延伸形态的线型沉积源可能存在在高温环境下具有低的热稳定性或者产生温度偏差的问题。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种在高温环境下提高沉积效率和可靠性的沉积源。
一实施例提供一种沉积源,包括沉积模块以及收纳所述沉积模块的壳体,所述沉积模块包括:第一坩埚,沿着第一方向延伸,并且在内部空间收纳沉积物质;多个喷嘴,配置在所述第一坩埚上,并且沿着所述第一方向排列所述多个喷嘴;发热部件,收纳所述第一坩埚;以及辐射热防止部件,配置在所述发热部件的上表面、外侧面和下表面上,所述辐射热防止部件包括多个反射器以及分别连接多个所述反射器之中的相邻的反射器之间的多个销,所述多个销被配置成在平面上彼此错开。
可以是,所述辐射热防止部件包括第一组以及与所述第一组间隔开的第二组,所述第一组和所述第二组分别包括所述多个反射器和所述多个销。
可以是,所述多个反射器之中与所述发热部件的外侧面相向的一个反射器与所述发热部件结合,并且所述多个反射器之中与所述壳体的内侧面相向的另一个反射器与所述壳体间隔开。
可以是,所述多个反射器之中与所述壳体的内侧面相向的一个反射器与所述壳体结合,并且所述多个反射器之中与所述发热部件的外侧面相向的另一个反射器与所述发热部件间隔开。
可以是,还包括:冷却部,配置在所述壳体上,所述冷却部包括使冷却水流过的冷却管,所述辐射热防止部件与所述冷却部接触。
可以是,所述发热部件包括:加热器框体,收纳所述第一坩埚;以及加热器,配置在所述加热器框体与所述第一坩埚之间。
可以是,所述加热器包括:发热体;电极,与所述发热体的末端连接;以及板状的绝缘体,覆盖所述发热体和所述电极。
可以是,具备多个所述加热器,沿着所述加热器框体的内侧面配置多个所述加热器,并且能够分别独立地控制多个所述加热器。
可以是,还包括:连接部,配置在所述壳体的外部,并且电连接外部电极与所述电极,所述电极通过所述加热器框体和所述壳体与所述连接部连接。
可以是,所述连接部包括依次层叠的多个金属片(metallic sheet)。
可以是,所述连接部包括多个金属线(wire)。
可以是,还包括:第二坩埚,定义有内部空间,并且配置在所述第一坩埚与所述发热部件之间,所述第一坩埚配置在所述内部空间中而被收纳到所述发热部件。
可以是,还包括:盖体(cover),覆盖与所述第一坩埚的上表面相向的所述多个喷嘴的下表面,所述盖体与所述第一坩埚的上表面接触并且包括与所述第一坩埚相同的物质。
可以是,所述反射器包括Mo、Ta、W、Al、Au、Ag、Mn、Ti、ZrO2、Al2O3、TiO2、pBN(Pyrolytic Boron Nitride,热解氮化硼)、ALN(Aluminium nitride,氮化铝)、SUS(steeluse stainless,SUS不锈钢)以及碳复合材料(carbon composite)中的至少一种。
可以是,具备多个所述沉积模块和多个所述壳体,多个所述沉积模块分别被收纳于多个所述壳体中,并且沿着所述第一方向或者与所述第一方向交叉的第二方向排列多个所述壳体。
一实施例提供一种沉积源,包括沉积模块和收纳所述沉积模块的壳体,所述沉积模块包括:第一坩埚,沿着第一方向延伸,并且在内部空间收纳沉积物质;多个喷嘴,配置在所述第一坩埚上,并且沿着所述第一方向排列所述多个喷嘴;加热器框体,收纳所述第一坩埚;加热器,配置在所述加热器框体与所述第一坩埚之间;以及辐射热防止部件,配置在所述加热器框体的外侧面上,所述辐射热防止部件包括第一组以及与所述第一组相向且被间隔开的第二组,所述第一组和所述第二组分别包括多个反射器以及多个销,其中,所述多个销分别连接所述多个反射器之中的相邻的反射器之间,所述多个销被配置成在平面上彼此错开。
可以是,所述反射器包括Mo、Ta、W、Al、Au、Ag、Mn、Ti、ZrO2、Al2O3、TiO2、pBN(Pyrolytic Boron Nitride)、ALN(Aluminium nitride)、SUS(steel use stainless)以及碳复合材料(carbon composite)中的至少一种。
可以是,所述加热器包括:发热体;电极,与所述发热体的末端连接;以及板状的绝缘体,覆盖所述发热体和所述电极。
可以是,还包括:第二坩埚,定义有内部空间,并且配置在所述第一坩埚与所述加热器框体之间以便与所述加热器框体形成隔开空间,在所述内部空间配置所述第一坩埚,在所述隔开空间内配置所述加热器。
可以是,还包括:冷却部,配置在所述壳体上,所述冷却部包括使冷却水流过的冷却管,所述辐射热防止部件与所述冷却部接触。
(发明效果)
一实施例涉及的沉积源具有改善沉积效率且在高温环境下提高沉积源的寿命、稳定性等可靠性的效果。
附图说明
图1是本发明的一实施例涉及的沉积源的立体图。
图2是本发明的一实施例涉及的沉积源的剖视图。
图3a是本发明的一实施例涉及的辐射热防止部件的剖视图。
图3b是本发明的一实施例涉及的辐射热防止部件的剖视图。
图3c是本发明的一实施例涉及的辐射热防止部件的剖视图。
图3d是本发明的一实施例涉及的辐射热防止部件的平面图。
图4是本发明的一实施例涉及的沉积源的部分剖视图。
图5是本发明的一实施例涉及的沉积源的部分构成的剖视图。
图6是本发明的一实施例涉及的发热部件的立体图。
图7a是本发明的一实施例涉及的发热部件的剖视图。
图7b是本发明的一实施例涉及的发热部件的剖视图。
图8是本发明的一实施例涉及的沉积源的立体图。
符号说明:
DS:沉积源;DM:沉积模块;HS:壳体;NZ:喷嘴;CR1:第一坩埚;CR2:第二坩埚;HM:发热部件;RM:辐射热防止部件;RF1~RF8:反射器;PN1~PN6:销;S1:第一组;S2:第二组;HF:加热器框体;HT:加热器;HE:发热体;IO:绝缘体;EL:电极;ELC:连接部;CO:冷却部;CO-F:冷却管;CV:盖体。
具体实施方式
本发明可以具有各种变更以及各种形态,在附图中例示特定实施例,并在此进行详细说明。但是,这并不是要将本发明限定于特定的公开形态,应理解为包括包含于本发明的思想以及技术范围内的所有变更、等同物以及代替物。
在本说明书中,在提及某一构成要素(或者区域、层、部分等)位于其他构成要素上、与其连接或者结合的情况下,意味着可以直接配置/连接/结合在其他构成要素上,或者在其间还可以配置有第三构成要素。
相同的符号指代相同的构成要素。另外,在各附图中,各构成要素的厚度、比率以及尺寸为了技术内容的有效说明而有所夸张。
“和/或”包括所有可以定义相关的构成的一个以上的组合。
第一、第二等用语可以用于说明各种构成要素,但所述的构成要素不应限于所述的用语。所述的用语仅用作使一个构成要素区别于其他构成要素的目的。例如,在不超出本发明的权利范围的情况下,第一构成要素可以被命名为第二构成要素,类似地,第二构成要素也可以被命名为第一构成要素。单数的表现在文中没有明确相反意思时包括多个的表现。
另外,“在下方”、“在下侧”、“在上方”、“在上侧”等用语为了说明图示的各构成的连接关系而使用。所述的用语是相对的概念,以图示的方向为基准进行说明。
只要没有不同的定义,在本说明书中使用的所有用语(包括技术用语以及科学用语)具有与本领域技术人员通常所理解的意思相同的意思。另外,如在通常使用的字典中定义的用语这样的用语应解释为具有与相关技术脉络上的含义一致的含义,并且除非在本申请中明确定义,否则不应解释为理想化或过于形式化的含义。
“包括”或者“具有”等用语应理解为是指代说明书上记载的特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在,并不是事先排除一个或者其以上的其他特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在或附加可能性。
以下,参照附图,说明本发明的一实施例涉及的沉积源。
图1是本发明的一实施例涉及的沉积源的立体图。图2是与图1所示的截取线I-I’对应地截取的沉积源DS的剖视图。
沉积源DS可以是包括于沉积装置而喷射沉积物质的装置。沉积源DS可以是在一方向上延伸的线型沉积源。在本实施例中,沉积源DS被图示成沿着第一方向DR1延伸的形状。沉积源DS可以包括壳体HS以及沉积模块DM。
沉积模块DM可以是存储并提供沉积物质的模块。沉积模块DM加热所存储的沉积物质,并向需要形成沉积膜的对象基板上喷射沉积物质,从而提供沉积物质。可以在壳体HS的内部收纳沉积模块DM。
参照图1,沉积模块DM可以包括多个喷嘴NZ。沉积物质可以被喷射到沉积模块DM的外部。可以通过沉积模块DM的多个喷嘴NZ,朝向第三方向DR3喷射沉积物质。
可以在一方向上排列多个喷嘴NZ。图1示出了在第一方向DR1上排列的多个喷嘴NZ。多个喷嘴NZ可以被排列成喷嘴之间的间隔相同。但是,并不限于此,喷嘴之间的间隔可以根据沉积物质、待形成的沉积膜的厚度、对象基板的形状、对象基板的大小等而配置得不同。
在图1中示出了配置在壳体HS的内部的八个喷嘴NZ,但是这仅仅是例示,沉积源DS所包括的喷嘴NZ的个数可以被改变。
壳体HS可以形成沉积源DS的外形。壳体HS可以在一方向上延伸。图1示出了在第一方向DR1上延伸的壳体HS。
壳体HS可以包括在内部具备空的空间的主体HS-B。主体HS-B可以在内部的空的空间收纳沉积模块DM,从而保护沉积模块DM。主体HS-B可以使多个喷嘴NZ朝上部方向露出。
壳体HS还可以包括配置在主体HS-B上且覆盖露出的主体HS-B的上部的部分区域的顶板HS-T。在图1中,作为一例,示出了沿着第二方向DR2间隔开预定的间隔来通过间隔开的间隔使喷嘴NZ露出的顶板HS-T。但是,顶板HS-T只要可以使喷嘴NZ露出的同时覆盖主体HS-B的上部的部分区域就可以不限于任一实施例。例如,顶板HS-T可以是形成为一体而覆盖主体HS-B的上部的整体并且与喷嘴NZ重叠来定义开口部的形状。另一方面,可以省略顶板HS-T。
参照图2,沉积模块DM可以包括第一坩埚CR1、多个喷嘴NZ、发热部件HM以及辐射热防止部件RM。
第一坩埚CR1可以是上部被开口且在内部具备空的空间的部件。第一坩埚CR1可以在内部的空的空间收纳沉积物质100。沉积物质100可以是能够通过热被气化的物质。例如,沉积物质100可以是无机物质或者金属物质。
第一坩埚CR1可以是沿着第一方向DR1延伸的线型坩埚。线型坩埚与以往的点型坩埚相比,可以是所收纳的沉积物质的容量大。因此,包括本发明的沉积源的沉积装置可以增加能够连续运行的时间,并且可以提高设备运行率。
第一坩埚CR1可以包括即使在高温下也能够在没有变形的情况下加以使用的物质。例如,第一坩埚CR1可以包括Mo-La(Molybdenum Lanthanum,钼镧)、W、TZM(Titanium-Zirconium-Molybdenum alloy,钛锆钼合金)、Ta等金属物质或者石墨(graphite)、碳复合体(carbon composition)等。但是,第一坩埚CR1的物质并不限于所述的例。
多个喷嘴NZ配置在第一坩埚CR1上。多个喷嘴NZ可以形成为一体。喷嘴NZ可以与第一坩埚CR1的上表面接触。关于喷嘴NZ的说明可同样适用参照图1上述的说明。
喷嘴NZ可以包括即使在高温下也能够在没有变形的情况下加以使用的物质。例如,喷嘴NZ可以包括Mo-La(Molybdenum Lanthanum)、W、TZM(Titanium-Zirconium-Molybdenum alloy)、Ta等金属物质或者石墨(graphite)、碳复合体(carbon composition)等。但是,喷嘴NZ的物质并不限于所述的例。
喷嘴NZ可以包括与第一坩埚CR1相同的物质。但是,并不限于此,喷嘴NZ可以包括与第一坩埚CR1不同的物质。
发热部件HM可以收纳第一坩埚CR1来对第一坩埚CR1进行加热。收纳在被加热的第一坩埚CR1内的沉积物质100可以蒸发,从而被沉积在对象基板上。例如,发热部件HM可以将第一坩埚CR1加热至1000度以上,具体可以加热至1200度以上。发热部件HM可以包括加热器框体HF以及加热器HT。
加热器框体HF可以是上部被开口且在内部具备空的空间的部件。可以在加热器框体HF的内部的空的空间配置第一坩埚CR1,从而第一坩埚CR1可以被收纳于加热器框体HF中。加热器框体HF可以与第一坩埚CR1间隔开并且包围第一坩埚CR1的侧面以及下表面。
加热器HT可以提供热,以便加热第一坩埚CR1。加热器HT可以配置在加热器框体HF与第一坩埚CR1之间的隔开空间中。可以在加热器框体HF的内表面上通过加热器框体HF支承加热器HT。
加热器HT可以配置在第一坩埚CR1的侧面和/或下表面上,从而包围第一坩埚CR1。图2示出了在加热器框体HF的内侧面上配置的加热器HT。可以提供一个加热器HT或者提供多个加热器HT,多个加热器HT可以沿着加热器框体HF的内侧面配置。
辐射热防止部件RM可以防止热向沉积源DS的外部流失或发散的情况。辐射热防止部件RM可以配置在发热部件HM与壳体HS之间。
辐射热防止部件RM可以配置在发热部件HM的上表面、外侧面和下表面上,从而阻断从发热部件HM朝向发热部件HM的上部方向、侧部方向以及下部方向发散的辐射热。辐射热防止部件RM可以包括配置在加热器框体HF的上表面HF-V上的第一辐射热防止部RH1、配置在加热器框体HF的外侧面HF-O上的第二辐射热防止部RH2以及配置在加热器框体HF的下表面HF-B上的第三辐射热防止部RH3。
辐射热防止部件RM可以包括多个反射器。第一辐射热防止部RH1至第三辐射热防止部RH3中的至少一个可以包括多个反射器以及多个销,多个销分别连接多个反射器之中的相邻的反射器。所述多个销可以被配置成在平面上彼此错开。详细的说明将后述。
第一辐射热防止部RH1至第三辐射热防止部RH3中的一部分可以包括单体的碳复合体(Carbon composition)。例如,第二辐射热防止部RH2和第三辐射热防止部RH3可以包括多个反射器,并且第一辐射热防止部RH1可以是单体的碳复合体。但是,并不限于此,第一辐射热防止部RH1至第三辐射热防止部RH3可以均包括多个反射器。碳复合体其耐热性出色,因而即使在高温下也不容易变形,并且热传导率低,因此可以阻断热的损失。
沉积源DS还可以包括第二坩埚CR2。第二坩埚CR2可以配置在发热部件HM与第一坩埚CR1之间。第二坩埚CR2可以在上部开口的内部具备空的空间。第二坩埚CR2可以在内部空间收纳第一坩埚CR1。第二坩埚CR2可以防止因第一坩埚CR1的损伤而流出的沉积物质100或脱离了蒸发路径的沉积物质100流入到其他构成。
第二坩埚CR2可以被收纳于加热器框体HF的内部空间中。加热器框体HF可以包围第二坩埚CR2的侧面以及下表面。第二坩埚CR2和加热器框体HF可以被间隔开预定的间隔而形成隔开空间,并且在所述隔开空间内可以配置加热器HT。
第二坩埚CR2可以覆盖露出的加热器框体HF的上部来保护配置在第二坩埚CR2与加热器框体HF之间的加热器HT。沉积物质100可能会脱离蒸发路径而与加热器HT接触,这可能会引起出管(shoot)问题而减少加热器HT的寿命。但是,第二坩埚CR2可以阻断从第一坩埚CR1蒸发的沉积物质100流入加热器HT的路径,从而可以提高加热器HT的寿命。
第二坩埚CR2可以包括即使在高温下也能够在没有变形的情况下加以使用的物质。例如,第二坩埚CR2可以包括Mo-La(Molybdenum Lanthanum)、W、TZM(Titanium-Zirconium-Molybdenum alloy)、Ta等金属物质、或者石墨(graphite)、碳复合体(carboncomposition)等。但是,第二坩埚CR2的物质并不限于所述的例。
另一方面,虽然未图示,但是发热部件HM还可以包括温度感知部。温度感知部可以按区域测量第一坩埚CR1或第二坩埚CR2的温度。可以参考温度感知部测量出的温度来控制加热器HT的温度,从而可以使坩埚的整体温度均匀。
以往的点型沉积源其沉积面积有限,因此想要在大型基板上形成沉积膜,需要使用排列了多个点型沉积源的形态的沉积源。多个点型沉积源需单独控制,因此工序管理很难,并且由于各沉积源之间的沉积偏差,很难形成均匀厚度的沉积膜。
本发明的沉积源通过在沿着一方向延伸的坩埚上配置多个喷嘴,从而减小沉积偏差,即使在大型基板上也容易形成均匀厚度的沉积膜。另外,本发明的沉积源与点型沉积源相比,沉积物质的使用效率增加,因此可以降低材料费。本发明的沉积源与点型沉积源相比,可以收纳更多容量的沉积物质,因此连续运行时间可以增加,由此可以提高设备效率。
图3a至图3d是本发明的一实施例涉及的辐射热防止部件的剖视图。图3a至图3c是在由第二方向DR2和第三方向DR3定义的平面上观察到的剖视图。图3d是在由第一方向DR1和第三方向DR3定义的平面上观察到的平面图。为了便于说明,放大示出了作为辐射热防止部件RM中的一部分的第二辐射热防止部RH2。
在平面上,可以以作为四边形形状的薄的板状提供反射器。可以彼此相向地配置多个反射器。以预定的间隔将多个反射器间隔开,并且通过多个销来连接多个反射器。参照图3a至图3c,反射器RF1~RF7或RF1~RF8可以沿着第二方向DR2彼此相向并被间隔开。通过使各反射器之间间隔开,从而可以防止各反射器之间的直接的热传递。
反射器可以阻断从发热部件HM产生的热的损失,并且可以减少热向辐射热防止部件RM的外部散出的程度。反射器可以包括热传导率和热辐射率相对低且还可在高温下使用的物质。例如,可以包括Mo、Ta、W、Al、Au、Ag、Mn、Ti、ZrO2、Al2O3、TiO2、pBN(Pyrolytic BoronNitride,热解氮化硼)、ALN(Aluminium nitride,氮化铝)或SUS(steel use stainless,SUS不锈钢)等。反射器可以为了减小热辐射率而进行抛光(Polishing)等表面处理。
对于连接被间隔开的多个反射器之间的多个销,可以将它们彼此错开地配置。通过彼此错开地配置多个销,与并排配置的情况相比,热传导路径(Conduction path)可以变得复杂。图3a至图3c为了便于说明而简单示出了热传导路径(Conduction path)。通过复杂的热传导路径,可以减少向反射器与反射器之间传递的热的量。
连接一个反射器和与其相邻的反射器之间的销可以是一个以上。例如,连接第N反射器与第N+1反射器之间的销可以是两个以上。
图3a和图3b作为一例示出了通过多个销PN1~PN6连接的七个反射器RF1~RF7。
参照图3a和图3b,连接第一反射器RF1与第二反射器RF2的第一销PN1以及连接第二反射器RF2与第三反射器RF3的第二销PN2在第二方向DR2上被配置成彼此错开。连接第三反射器RF3与第四反射器RF4的第三销PN3被配置成与第一销PN1及第二销PN2彼此错开。如上所述,可以彼此错开地配置第一销PN1至第六销PN6。因此,通过彼此错开地配置连接第一反射器至第N反射器的第一销至第N-1销,从而可以使热传导路径变得复杂。
包括多个反射器的第二辐射热防止部RH2可以与加热器框体HF结合的同时与壳体HS间隔开,或者可以与壳体HS结合的同时与加热器框体HF间隔开。反射器可以通过结合体CM与加热器框体HF或壳体HS结合。可以具备多个结合体CM,从而将与反射器的边缘相邻的部分固定到加热器框体HF或壳体HS。
参照图3a,与加热器框体HF的外侧面HF-O相向的第一反射器RF1可以通过结合体CM与加热器框体HF结合。从发热部件HM散出的热可以通过结合体CM被传递到反射器。可以彼此错开地配置结合体CM和第一销PN1。通过与结合体CM错开地配置的多个销,热传导路径可以变得复杂,可以减小热传导率。
与壳体HS的内侧面HS-I相向的第七反射器RF7和壳体HS可以被间隔开预定的间隔。通过间隔开反射器与壳体HS,可以防止传递至第七反射器RF7的热直接被传递至壳体HS的情况,并且可以仅使辐射热传递至壳体HS。
参照图3b,与壳体HS的内侧面HS-I相向的第七反射器RF7可以通过结合体CM与壳体HS结合。可以彼此错开地配置结合体CM和第六销PN6,从而使热传导路径变得复杂。
与加热器框体HF的外侧面HF-O相向的第一反射器RF1和加热器框体HF可以被间隔开预定的间隔。通过与加热器框体HF间隔开,可以防止热从加热器框体HF直接被传递至第一反射器RF1的情况,并且可以仅使辐射热传递至第一反射器RF1。
参照图3c,多个反射器之中的部分反射器之间可以不通过销连接,而是被间隔开。图3c作为一例示出了八个反射器RF1~RF8以及多个第一销PN1’至第六销PN6’。
可以将多个反射器之中彼此被连接的反射器定义为一个组。可以将通过第一销PN1’至第三销PN3’连接的第一反射器RF1至第四反射器RF4定义为第一组S1。可以将通过第四销PN4’至第六销PN6’连接的第五反射器RF5至第八反射器RF8定义为第二组S2。
可以彼此错开地配置各个组所包括的多个销。可以彼此错开地配置第一组S1所包括的第一销PN1’至第三销PN3’。可以彼此错开地配置第二组S2所包括的第四销PN4’至第六销PN6’。
第一组S1和第二组S2并未通过销连接,而是可以彼此被间隔开预定的间隔。第一组S1的第四反射器RF4和第二组S2的第五反射器RF5并未通过销连接,而是可以彼此相向并被间隔开。第一组S1与第二组S2的隔开间隔可以大于组内所包括的多个反射器之间的隔开间隔。
随着彼此错开地配置各个组所包括的多个销,热传导路径可以变得复杂,并且随着各组之间被间隔开,可以阻断各组之间的直接的热传递。由此,可以减少在多个反射器之间传递的热的量,可以有效地阻断热的损失和热的散出。
第一组S1可以通过第一结合体CM1与加热器框体HF结合而被固定。第二组S2可以通过第二结合体CM2与壳体HS结合而被固定。
图3a至图3c示出了包括多个反射器以及多个销的第二辐射热防止部RH2,但是并不限于此,相应结构在第一辐射热防止部RH1和第三辐射热防止部RH3中也同样可以适用。例如,第一辐射热防止部RH1和第三辐射热防止部RH3所包括的多个反射器可以沿着第三方向DR3彼此相向并被间隔开,并且分别连接相邻的反射器之间的多个销可以被配置成彼此错开。
图3d简单示出了在第一方向DR1和第三方向DR3定义的平面上观察图3a所示的第二辐射热防止部RH2的一实施例的情况。图3d是作为一例在平面上观察与壳体HS的内侧面HS-I相邻的第七反射器RF7的情况,为了便于说明,示出了第一销PN1至第六销PN6。
多个销可以在定义反射器的面的平面上被配置彼此错开。例如,多个销可以在平面上被配置成彼此不重叠,并且可以是错开的程度越大,热传导路径越复杂。多个销在平面上被配置的形状并不限于图3d所示的情况。例如,沿着第二方向DR2相对相邻的多个销可以在平面上彼此不重叠,并且沿着第二方向DR2相对间隔开的多个销在平面上可以部分重叠。作为一例,第一销PN1和第二销PN2可以在平面上不重叠,并且第一销PN1和第四销PN4可以在平面上部分重叠。
反射器的个数并不限于图3a至图3d所示的实施例。反射器的个数可以根据工序温度而不同,可以是工序温度越增加,沉积源包括越多的反射器。例如,使用在1200度以上的工序中的沉积源DS的辐射热防止部件RM可以包括七个以上的反射器。
本发明的实施例通过最大程度地阻断发热部件HM、辐射热防止部件RM以及壳体HS之间的直接的热传递,并通过辐射热来传递热,从而可以减少传递的热的量。另外,本发明的辐射热防止部件RM使热传导路径变得复杂,从而可以有效地防止热的散出和热的损失。
通过减少散出的热的量,可以减少沉积源DS的外部的温度上升程度,并且可以防止配置在沉积源DS上的对象基板因高温而受损的情况。由此,可以减小沉积源DS与对象基板之间的距离,并且可以提高沉积效率。另外,随着防止热的损失,无需为了以特定温度提供热能而持续向加热器HT施加高能量(power),可以延长加热器HT的寿命。
图4是本发明的一实施例涉及的沉积源的上部的部分剖视图。沉积源DS还可以包括冷却部CO。冷却部CO可以配置在壳体HS上,从而冷却从发热部件HM传递至沉积源DS的外部的热。
冷却部CO可以包括冷却管CO-F以及覆盖冷却管CO-F的外表面的冷却架(Coolingbracket)。冷媒或冷却水可以在冷却管CO-F的内部循环。
冷却部CO可以配置在壳体HS的主体HS-B的上表面HS-B-U上。冷却部CO可以被配置成包围沿着主体HS-B的上表面HS-B-U开口的主体HS-B的上部。冷却部CO可以冷却朝向沉积源DS的上部方向辐射的热,并且可以减少向配置在沉积源DS上的对象基板传递的热的量。
辐射热防止部件RM可以与冷却部CO接触。图4作为一例简单示出了包括多个反射器RF以及错开地连接多个反射器RF之间的多个销并且与冷却部CO接触的第一辐射热防止部RH1。第一辐射热防止部RH1与冷却部CO接触,从而可以有效降低第一辐射热防止部RH1上的温度。冷却部CO可以冷却与对象基板相邻的第一辐射热防止部RH1的热,从而防止对象基板因高温受损的情况。
虽然未图示,但是沉积源DS还可以包括被收纳在壳体HS的主体HS-B的内部或者配置在主体HS-B的侧面上的冷却管。所述冷却管可以冷却朝向沉积源DS的侧部方向辐射的热。
图5是本发明的一实施例涉及的沉积源的部分构成的剖视图。沉积源DS还可以包括配置在多个喷嘴NZ与第一坩埚CR1之间的盖体CV。盖体CV可以覆盖多个喷嘴NZ的下部的一部分。盖体CV的下表面可以与第一坩埚CR1的上表面接触。
盖体CV和第一坩埚CR1可以通过紧固部BN结合。盖体CV和第一坩埚CR1分别可以定义经过盖体CV和第一坩埚CR1的结合孔。紧固部BN可以通过结合孔紧固盖体CV和第一坩埚CR1。紧固部BN可以包括如螺栓、螺母这样的通常的紧固结构体。
盖体CV可以包括与第一坩埚CR1相同的物质。例如,盖体CV可以包括Mo-La(Molybdenum Lanthanum)、W、TZM(Titanium-Zirconium-Molybdenum alloy)、Ta等金属物质、或者石墨(graphite)、碳复合体(carbon composition)等。
露出于高温环境的第一坩埚CR1和盖体CV随着持续的使用,可能会反复热膨胀和热收缩。通过第一坩埚CR1和盖体CV包括相同的物质,从而可以减小各构成的热膨胀程度的差异。假设紧固部BN对分别包括热膨胀程度的差异大的物质的各构成进行紧固,则随着各构成的反复的热膨胀和热收缩,紧固部BN可能会部分地受到不同的应力(Stress)。由此,紧固部BN容易受损。但是,若对包括相同的物质的各构成进行紧固,则可以减小因热膨胀的差异引起的应力,从而可以延长紧固部BN的寿命。
紧固部BN可以包括即使在高温下也能够在无变形的情况下使用的物质。例如,紧固部BN可以包括Mo、Ta、TZM(Titanium-Zirconium-Molybdenum alloy)、W、AlN(Aluminiumnitride)、碳复合体(carbon composition)等。
图6是本发明的一实施例涉及的发热部件的立体图。发热部件HM的各构成可以同样适用上述的说明。
发热部件HM可以具备多个一实施例的加热器HT。可以沿着加热器框体HF的内侧面HF-I配置多个加热器HT1~HT4。多个加热器HT1~HT4可以被配置成包围第一坩埚CR1(参照图2)的周边。
图6作为一例示出了四个加热器HT1~HT4。第一加热器HT1至第四加热器HT4可以是沿着加热器框体HF的内侧面HF-I排列的独立的加热器。例如,可以配置成第一加热器HT1的一侧与第二加热器HT2相邻,并且第一加热器HT1的另一侧与第四加热器HT4相邻。第一加热器HT1和第三加热器HT3可以在第一方向DR1上夹着第一坩埚CR1(参照图2)而被间隔开。
多个加热器HT1~HT4可以具有与被配置的加热器框体HF的内侧面HF-I的形状对应的形状。例如,可以是如第一加热器HT1那样被弯曲的板状的加热器,并且可以是如第二加热器HT2那样平坦的板状的加热器。
可以分别独立地控制多个加热器HT1~HT4。例如,可以控制成加热器HT1~HT4分别具有不同的温度,可以减小发热部件HM内的温度偏差并可以均匀地进行加热。加热器的个数以及位置并不限于图6所示的一例,可以随着发热部件HM的结构、坩埚的大小而不同。
图7a和图7b是本发明的一实施例涉及的发热部件的剖视图。图7a和图7b放大示出了发热部件HM的一部分。图7a和图7b示出了实质上相同的构成,区别在于连接部ELC的形状。加热器HT可以包括发热体HE、绝缘体IO以及电极EL。
发热体HE可以是发热线圈,只要是可以产生热的发热手段,就不限于任一形状。发热体HE可以包括耐热性强的金属物质。例如,发热体HE可以包括Ta、Mo、W等,但并不限于所述的例。
电极EL可以与发热体HE的末端连接而向发热体HE传递从外部施加的能量。电极EL可以经过加热器框体HF的下表面以及壳体HS的下表面而露出在壳体HS的下表面的外部上。电极EL可以包括金属物质。
绝缘体IO可以覆盖发热体HE和电极EL的外表面。绝缘体IO可以是板状,发热体HE和电极EL可以配置在绝缘体IO的内部。绝缘体IO可以保护发热体HE和电极EL。绝缘体IO可以防止因脱离蒸发路径而流入至加热器HT的沉积物质100(图2)产生的出管(Shoot)问题。
绝缘体IO可以包括在高温下与发热体HE及电极EL无反应性的物质。例如,绝缘体IO可以包括BN(Boron Nitride,氮化硼)、pBN(Pyrolytic Boron Nitride,)、ALN(Aluminium nitride)等,但是并不限于所述的例。
沉积源DS还可以包括电连接加热器HT的电极EL与外部电极EE的连接部ELC。连接部ELC可以包括金属物质。例如,连接部ELC可以包括电阻率小的Ni、Cu等,但是并不限于所述的例。
发热体HE所包括的金属物质可以因热而细微地膨胀。假设连接部ELC坚固地(Rigid)连接电极EL与外部电极EE的情况下,随着在高温环境下持续使用发热体HE,应力可能会在发热体HE中积累,这可能会引发发热体HE的破损。
在变形的情况下,一实施例的连接部ELC可以具有柔软的结构,可以防止发热体HE的破损来延长加热器HT的寿命。一实施例的连接部ELC可以如图7a所示那样包括多个金属片(Metallic sheet)MP1,或者可以如图7b所示那样包括多个薄的线(wire)MP2。
参照图7a,可以沿着一方向依次层叠多个金属片MP1。金属片MP1的个数并不限于任一实施例。金属片MP1的厚度可以是薄的。例如,金属片MP1的厚度可以在0.2mm以下。
图7a为了便于说明,示出了多个金属片MP1中的一个金属片MP1。金属片MP1可以是一部分在一方向上突出的板形状,但是只要具有薄板的形状就不限于任一实施例。
参照图7b,多个线MP2可以是在与电极EL连接的一端以及与外部电极EE连接的另一端处被彼此连接,但中心部彼此远离。
图8是本发明的一实施例涉及的沉积源的立体图。图8为了便于说明,示出了沉积源DS以及沉积物质将要被沉积的对象基板SUB。
对象基板SUB可以是显示装置(display device)的基板。沉积物质可以包括金属物质或者无机物质等。沉积物质被沉积在对象基板上,从而形成如电极这样的元件构成。
对象基板SUB可以具有在第一方向DR1上延伸的两个边和在第二方向DR2上延伸的两个边。在从第三方向观察的平面上,对象基板SUB可以是四边形形状。
参照图8,对象基板SUB可以配置在沉积源DS上。沉积源DS可以在第三方向DR3上喷射沉积物质,并且被沉积的物质可以在对象基板SUB上成膜。
对象基板SUB可以与沉积源DS间隔开并在一方向上进行移动。例如,对象基板SUB可以在固定的沉积源DS上沿着第二方向DR2移动的同时在一面上使沉积物质沉积。
图8示出了为了进行沉积而使对象基板SUB移动的情况,但是并不限于此,可以是沉积源DS进行移动。在对象基板SUB被固定的状态下,可以是沉积源DS沿着第二方向DR2移动的同时在对象基板SUB的一面上提供沉积物质。
沉积源DS可以包括分别被设置多个的沉积模块DM以及壳体HS。一个沉积模块DM可以与一个壳体HS对应地被收纳在壳体HS内。可以将收纳了一个沉积模块DM的一个壳体HS定义为模块MO。关于各沉积模块DM以及各壳体HS的说明可以同样适用上述的说明。
可以将收纳了第一沉积模块DM1的第一壳体HS1定义为第一模块MO1。可以将收纳了第二沉积模块DM2的第二壳体HS2定义为第二模块MO2。同样地,可以将收纳了第N沉积模块的第N壳体定义为第N模块。
图8作为一例示出了四个模块MO1~MO4。模块的个数并不限于图示的一例,可以根据对象基板SUB的面积而不同。
可以并排排列多个模块MO1~MO4。参照图8,第一模块MO1和第二模块MO2沿着第二方向DR2被并排排列,并且第一模块MO1和第三模块MO3沿着第一方向DR1被并排排列。第四模块MO4可以与第三模块MO3沿着第二方向DR2被并排排列,并且可以与第二模块MO2沿着第一方向DR1被并排排列。
若将第一方向DR1定义为行且将第二方向DR2定义为列,则图8示出了以2行2列排列的多个模块MO1~MO4。但是,多个模块的排列可以根据对象基板SUB的形状或面积而不同,并不限于任一实施例。例如,多个模块也可以被排列成1行2列、2行1列或者3行2列。
包括多个模块的沉积源DS在第一方向DR1上的长度可以等于或大于对象基板SUB在第一方向DR1上的长度。本发明的沉积源DS可以根据对象基板SUB而将各模块的配置设置得不同,与在大型基板上配置点型沉积源相比,可以容易形成均匀的沉积膜。
本发明的一实施例的沉积源在一方向上延伸,从而可以在大型基板上使均匀厚度的沉积膜成膜,可以提高沉积效率。沉积源通过覆盖加热器的发热体的绝缘体,可以防止因沉积物质产生的污染以及破损。
本发明的一实施例的沉积源包括使热传导路径变得复杂且减少通过接触传递的热的量的辐射热防止部件,从而可以有效地防止热的损失和热的散出。
以上,参照实施例说明了本发明的优选实施例,但是相应技术领域的熟练技术人员或者相应技术领域的具备普通知识的人员应当能够理解在不超出权利要求书记载的本发明的思想以及技术领域的范围内,可以对本发明进行各种修正以及变更。
因此,本发明的技术范围并不是由说明书的详细说明所记载的内容限定的,而是应仅由权利要求书确定。
Claims (10)
1.一种沉积源,包括:
沉积模块;以及
壳体,收纳所述沉积模块,
所述沉积模块包括:
第一坩埚,沿着第一方向延伸,并且在内部空间收纳沉积物质;
多个喷嘴,配置在所述第一坩埚上,并且沿着所述第一方向排列所述多个喷嘴;
发热部件,收纳所述第一坩埚;以及
辐射热防止部件,配置在所述发热部件的上表面、外侧面和下表面上,
所述辐射热防止部件包括多个反射器以及分别连接多个所述反射器之中的相邻的反射器之间的多个销,
所述多个销被配置成在平面上彼此错开。
2.根据权利要求1所述的沉积源,其中,
所述辐射热防止部件包括第一组以及与所述第一组间隔开的第二组,
所述第一组和所述第二组分别包括所述多个反射器和所述多个销。
3.根据权利要求1所述的沉积源,其中,
所述多个反射器之中与所述发热部件的外侧面相向的一个反射器与所述发热部件结合,并且所述多个反射器之中与所述壳体的内侧面相向的另一个反射器与所述壳体间隔开。
4.根据权利要求1所述的沉积源,其中,
所述多个反射器之中与所述壳体的内侧面相向的一个反射器与所述壳体结合,并且所述多个反射器之中与所述发热部件的外侧面相向的另一个反射器与所述发热部件间隔开。
5.根据权利要求1所述的沉积源,还包括:
冷却部,配置在所述壳体上,
所述冷却部包括使冷却水流过的冷却管,
所述辐射热防止部件与所述冷却部接触。
6.根据权利要求1所述的沉积源,其中,
所述发热部件包括:加热器框体,收纳所述第一坩埚;以及加热器,配置在所述加热器框体与所述第一坩埚之间,
所述加热器包括:发热体;电极,与所述发热体的末端连接;以及板状的绝缘体,覆盖所述发热体和所述电极。
7.根据权利要求6所述的沉积源,其中,
具备多个所述加热器,
沿着所述加热器框体的内侧面配置多个所述加热器,并且能够分别独立地控制多个所述加热器。
8.根据权利要求6所述的沉积源,还包括:
连接部,配置在所述壳体的外部,并且电连接外部电极与所述电极,
所述电极经过所述加热器框体和所述壳体而与所述连接部连接,
所述连接部包括多个金属片或多个金属线。
9.根据权利要求1所述的沉积源,还包括:
盖体,覆盖与所述第一坩埚的上表面相向的所述多个喷嘴的下表面,
所述盖体与所述第一坩埚的上表面接触并且包括与所述第一坩埚相同的物质。
10.根据权利要求1所述的沉积源,其中,
具备多个所述沉积模块和多个所述壳体,
多个所述沉积模块分别被收纳于多个所述壳体中,
沿着所述第一方向或者与所述第一方向交叉的第二方向排列多个所述壳体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200129898A KR20220047417A (ko) | 2020-10-08 | 2020-10-08 | 증착 장치용 증착원 |
KR10-2020-0129898 | 2020-10-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114293150A true CN114293150A (zh) | 2022-04-08 |
Family
ID=80964206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110939105.3A Pending CN114293150A (zh) | 2020-10-08 | 2021-08-16 | 沉积源 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20220047417A (zh) |
CN (1) | CN114293150A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115522167A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀源设备 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20240062176A (ko) * | 2022-10-27 | 2024-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
-
2020
- 2020-10-08 KR KR1020200129898A patent/KR20220047417A/ko active Search and Examination
-
2021
- 2021-08-16 CN CN202110939105.3A patent/CN114293150A/zh active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115522167A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀源设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220047417A (ko) | 2022-04-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4440837B2 (ja) | 蒸発源及びこれを採用した蒸着装置 | |
CN114293150A (zh) | 沉积源 | |
KR100600667B1 (ko) | 증발 장치의 고정 부재 및 이를 이용한 증착 장치 | |
US10723156B2 (en) | Method and device for printing on heated substrates | |
KR100645689B1 (ko) | 선형 증착원 | |
KR101263005B1 (ko) | 증착 장치 및 방법 | |
KR101117432B1 (ko) | 선형 증착원 | |
KR100703427B1 (ko) | 증발원 및 이를 채용한 증착장치 | |
JP5281148B2 (ja) | 蒸着ヘッドおよび成膜装置 | |
JP2007031828A (ja) | 蒸着装置 | |
KR20070025164A (ko) | 유기 증착원 및 이의 가열원 제어방법 | |
CN107980070B (zh) | 蒸发源 | |
KR20180016693A (ko) | 선형 증착원 및 이를 포함하는 증착 장치 | |
KR20070025163A (ko) | 무기 증착원 및 이의 가열원 제어방법 | |
US6849832B2 (en) | Evaporation apparatus | |
KR20120101425A (ko) | 선형 증착 소스 | |
JP7092577B2 (ja) | 蒸発源及び蒸着装置 | |
KR100572640B1 (ko) | 증발 장치 | |
US20100282167A1 (en) | Linear Deposition Source | |
KR101265067B1 (ko) | 측면 방출형 선형증발원, 그 제작 방법 및 선형증발기 | |
US20040223751A1 (en) | Evaporation apparatus | |
KR101266584B1 (ko) | 점증발원을 병렬연결한 대면적 증착 증발원 | |
CN114635107A (zh) | 一种用于线性蒸发源中的坩埚及线性蒸发源 | |
JP2020176287A (ja) | 蒸着源及び真空処理装置 | |
KR20190136696A (ko) | 유기 발광 소자의 스윙 타입 인라인 제조 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |