CN109666897A - 一种坩埚及点型蒸发源 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及蒸镀技术领域,公开一种坩埚及点型蒸发源,坩埚包括一端形成开口的坩埚埚体,坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料,还包括至少一个扩散单元,扩散单元安装在坩埚埚体内靠近开口的一端,扩散单元具有导流部和阻挡部,阻挡部用于阻挡蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出开口,导流部用于将蒸镀材料蒸发形成的气体导流出开口,当蒸镀材料受热蒸发,蒸汽带着块状喷溅物一起至扩散单元时,部分块状喷溅物粘附在阻挡部背离开口的一侧,减少开口处堵塞现象的发生,部分块状喷溅物落入坩埚埚体继续受热蒸发,减少蒸镀材料的不均匀蒸发现象的发生,而蒸汽从导流部导出开口,使得蒸汽和块状喷溅物的分离,能够减少蒸镀材料喷出现象的发生。

Description

一种坩埚及点型蒸发源
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种坩埚及点型蒸发源。
背景技术
目前,在OLED的显示面板制造工艺中,蒸镀薄膜的制备是最重要的步骤,在基板上形成蒸镀薄膜常采用真空蒸镀设备,而其中,点型蒸发源以其使用及运行的便利性具有较广的应用。
现有点型蒸发源主要包括蒸发源和位于蒸发源上用于承载有有机物或金属材料的坩埚,在蒸镀过程中,基板设置在蒸发源的上方,加热蒸发源,有机物或金属受热形成蒸汽,向上蒸发的蒸汽在基板上形成蒸镀薄膜。目前,由于待蒸发的物质纯度低、在坩埚内的分布不均匀以及蒸发源的温度急剧上升等原因,待蒸发的物质在坩埚内的受热温度不均匀,导致坩埚内部均匀蒸发的物质和不均匀蒸发的物质会混在一起形成块状喷溅,并堆积在坩埚的开口处,使得蒸发率降低且蒸发不均匀,随着堆积在坩埚开口处的物质增多,发生坩埚开口堵塞现象,导致工艺稳定性降低。另外,由于蒸发物质以块状从坩埚中喷出,并以微小的颗粒状蒸镀到基板上,形成不均匀、不稳定的薄膜,导致器件的不良。
因此,设计一种能够制备出均匀的有机物及金属薄膜的坩埚及点型蒸发源显得尤为重要。
本发明为了解决上述问题,在基于用于生产多层薄膜的OLED面板中使用的真空蒸镀用点型蒸发源的核心部件坩埚内,进行有机物及金属的蒸发,去除可能发生的,制作出均匀的有机物及金属薄膜;另外,减少坩埚内部的温度损失,抑制工艺中的OLED基板和荫罩板(Shadow mask)温度的上升,从而提高蒸镀效率,提供可提高器件可靠性的点型蒸发源是其目的。
发明内容
本发明提供了一种坩埚及点型蒸发源,该坩埚能够减少开口处堵塞和蒸镀材料不均匀蒸发及喷出现象的发生,具有该坩埚的点型蒸发源的蒸镀均匀性和蒸镀效率较高,提高了OLED的显示器件的产品良率。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种坩埚,包括一端形成开口的坩埚埚体,所述坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料,还包括至少一个扩散单元,所述扩散单元安装在所述坩埚埚体内靠近所述开口的一端,所述扩散单元具有导流部和阻挡部,所述阻挡部用于阻挡所述蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出所述开口,所述导流部用于将所述蒸镀材料蒸发形成的气体导流出所述开口。
在上述坩埚中,由于扩散单元安装在坩埚埚体内靠近开口的一端,当坩埚埚体底部的蒸镀材料受热蒸发,蒸镀材料充分蒸发形成的蒸汽,蒸镀材料不均匀蒸发形成的块状喷溅物,蒸汽带着块状喷溅物一起向着开口运动至扩散单元时,扩散单元上的阻挡部阻挡块状喷溅物继续运动,部分块状喷溅物粘附在阻挡部背离开口的一侧,使得到达开口处的块状喷溅物减少,进而能够减少开口处堵塞现象的发生,而部分块状喷溅物落入到坩埚埚体底部继续受热蒸发,减少了蒸镀材料的不均匀蒸发现象的发生,而蒸汽从扩散单元上的导流部导出开口,使得蒸汽和块状喷溅物的分离,进而能够减少蒸镀材料喷出现象的发生。
优选地,所述扩散单元包括至少一个扩散板,所述扩散板包括扩散板本体以及贯穿所述扩散板本体的至少一个通孔,所述至少一个扩散板的通孔形成所述导流部,所述至少一个扩散板的扩散板本体形成所述阻挡部。
优选地,所述坩埚埚体靠近所述开口的内壁上设有至少一个第一台阶,所述扩散单元设置在所述第一台阶上,当所述坩埚埚体具有多个第一台阶时,相邻两个所述第一台阶中靠近所述开口的第一台阶位于远离所述开口的第一台阶的外侧。
优选地,当所述扩散单元包括多个扩散板时,相邻的两个所述扩散板上的通孔相互错开。
优选地,当所述扩散单元包括多个扩散板时,相邻的两个所述扩散板中,靠近所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和不小于远离所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和。
优选地,所述扩散单元还包括引导环,所述引导环设置在所述第一台阶上,所述引导环的内壁上设有多个第二台阶,所述扩散板设置在所述第二台阶上,相邻两个所述第一台阶中靠近所述开口的第二台阶位于远离所述开口的第二台阶的外侧。
优选地,所述扩散单元包括第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板,沿所述坩埚埚体的底部的方向朝向所述开口,所述第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板依次排列,其中:
所述第一扩散板上靠近边缘处设有贯穿所述第一扩散板本体的多个第一通孔,所述多个第一通孔沿着所述第一扩散板本体的边缘阵列分布;
所述第二扩散板上靠近中心处设有贯穿所述第二扩散板本体的一个第二通孔;
所述第三扩散板上靠近边缘处设有贯穿所述第三扩散板本体的多个第三通孔,所述多个第三通孔沿着所述第三扩散板本体的边缘阵列分布。
优选地,所述引导环的内壁上设有三个第二台阶,所述引导环的外壁上设有第三台阶,所述第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板依次设置在所述三个第二台阶上,所述第三台阶与第一台阶相配合以将所述引导环设置在所述坩埚埚体内。
优选地,所述蒸镀材料为无机物时,所述引导环由陶瓷制备,或,所述蒸镀材料为有机物时,所述引导环由金属制备。
另外,本发明还提供了一种点型蒸发源,包括冷却外壳、加热器、支撑部件以及温度传感器,所述冷却外壳形成蒸镀腔体,所述加热器通过支撑部件安装在所述蒸镀腔体内,所述温度传感器的探头伸入所述蒸镀腔体内,还包括如上述技术方案任一项所述的坩埚,所述坩埚设置在所述加热器上。
在上述点型蒸发源中,加热器对坩埚进行加热,在温度传感器的探头检测处的温度达到蒸镀材料的蒸发温度后,蒸镀材料开始气化,由于该坩埚能够减少开口处堵塞和蒸镀材料不均匀蒸发及喷出现象的发生,因此,具有该坩埚的点型蒸发源的蒸镀均匀性和蒸镀效率较高,提高了OLED的显示器件的产品良率。另外,冷却外壳能够保证点型蒸发源在工作时,外侧的温度不高,不会对操作人员造成烫伤,提高安全性。
附图说明
图1为本发明提供的一种点型蒸发源的结构示意图;
图2为本发明提供的一种点型蒸发源的另一结构示意图;
图3为本发明提供的一种坩埚的放大示意图;
图4为本发明提供的一种坩埚的另一放大示意图;
图5为本发明提供的一种坩埚的结构示意图;
图6为本发明提供的一种扩散单元的装配示意图;
图7为本发明提供的一种扩散单元中扩散板的结构示意图;
图8为本发明提供的一种扩散单元中引导环的结构示意图;
图9为本发明提供的一种点型蒸发源中蒸镀材料的蒸镀过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1、图2、图3、图4以及图9所示,一种坩埚,包括一端形成开口的坩埚埚体1,坩埚埚体1的底部用于容置蒸镀材料7,还包括至少一个扩散单元2,扩散单元2安装在坩埚埚体1内靠近开口的一端,扩散单元2具有导流部和阻挡部,阻挡部用于阻挡蒸镀材料7不均匀蒸发所形成的块状喷溅物9喷出开口,导流部用于将蒸镀材料7蒸发形成的气体导流出开口。
在上述坩埚中,由于扩散单元2安装在坩埚埚体1内靠近开口的一端,当坩埚埚体1底部的蒸镀材料7受热蒸发,蒸镀材料7充分蒸发形成的蒸汽8,蒸镀材料7不均匀蒸发形成的块状喷溅物9,蒸汽8带着块状喷溅物9一起向着开口运动至扩散单元2时,扩散单元2上的阻挡部阻挡块状喷溅物9继续运动,部分块状喷溅物9粘附在阻挡部背离开口的一侧,使得到达开口处的块状喷溅物9减少,进而能够减少开口处堵塞现象的发生,而部分块状喷溅物9落入到坩埚埚体1底部继续受热蒸发,减少了蒸镀材料7的不均匀蒸发现象的发生,而蒸汽8从扩散单元2上的导流部导出开口,使得蒸汽8和块状喷溅物9的分离,进而能够减少蒸镀材料7喷出现象的发生。
一种优选的实施方式,如图2、图4、图5、图6以及图7所示,扩散单元2包括至少一个扩散板22,扩散板22包括扩散板22本体以及贯穿扩散板22本体的至少一个通孔,至少一个扩散板22的通孔形成导流部,至少一个扩散板22的扩散板22本体形成阻挡部。
在上述坩埚中,扩散单元2可以包括一个扩散板22,也可以包括多个扩散板22,每一个扩散板22上可以具有一个通孔,也可以具有多个通孔,扩散板22的数目以及每一个扩散板22上通孔的数目根据坩埚以及蒸镀材料7的具体情况进行选择。
气体经过扩散板22的分离过程如下:坩埚埚体1底部的蒸镀材料7受热蒸发时,蒸汽8带着块状喷溅物9一起向着开口运动至扩散板22处,扩散板22本体阻挡块状喷溅物9继续运动,块状喷溅物9粘附在扩散板22本体背离开口的一侧或向着坩埚埚体1底部的方向下落,蒸汽8从通孔导出,蒸汽8和块状喷溅物9的分离。
当扩散单元2包括多个扩散板22时,蒸汽8带着块状喷溅物9一起向着开口运动经过每一个扩散板22时重复上述分离过程,以使的蒸汽8和块状喷溅物9更好地分离,进而能够进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生。
为了能够进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生,如图1、图3以及图4所示,具体地,坩埚埚体1靠近开口的内壁上设有至少一个第一台阶11,扩散单元2设置在第一台阶11上,当坩埚埚体1具有多个第一台阶11时,相邻两个第一台阶11中靠近开口的第一台阶11位于远离开口的第一台阶11的外侧。
在上述坩埚中,当坩埚埚体1具有一个第一台阶11时,扩散单元2可以采用具有一个扩散板22的结构形式,减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生;扩散单元2也可以采用具有多个扩散板22的结构形式,以保证蒸汽8和块状喷溅物9更好地分离,进而能够进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生。
当坩埚埚体1具有多个第一台阶11时,扩散单元2可以采用具有一个扩散板22的结构形式,每一个第一台阶11上放置一个扩散片,能够较好地减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生;扩散单元2也可以采用具有多个扩散板22的结构形式,以保证能够更进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生,多个扩散单元2能够更好地好地减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生。
第一台阶11的数目和扩散单元2的结构形式根据坩埚以及蒸镀材料7的具体情况进行选择。而相邻两个第一台阶11中靠近开口的第一台阶11位于远离开口的第一台阶11的外侧,能够保证扩散单元2能够较为方便地取放,提高操作的便捷性。
为了能够进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生,如图2、图5、图6、图7以及图9所示,具体地,当扩散单元2包括多个扩散板22时,相邻的两个扩散板22上的通孔相互错开。
在上述坩埚中,坩埚埚体1底部的蒸镀材料7受热蒸发时,蒸汽8带着块状喷溅物9经过靠近坩埚埚体1底部的扩散板22后,只有一小部分块状喷溅物9继续随着蒸汽8一起向着开口运动至背离坩埚埚体1底部的扩散板22处,由于相邻的两个扩散板22上的通孔相互错开,因此,该一小部分块状喷溅物9遇到背离坩埚埚体1底部的扩散板22本体的阻挡,块状喷溅物9粘附在扩散板22本体背离开口的一侧或向着坩埚埚体1底部的方向下落,蒸汽8在压力的作用下绕到背离坩埚埚体1底部的扩散板22的通孔导出,能够更好地实现蒸汽8和块状喷溅物9的分离,进而能够进一步减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生。
而相邻的两个扩散板22上的通孔相互错开,抑制坩埚内部的热损失,提高蒸镀材料7的蒸发效率和能源的利用率。
为了使蒸汽8的流动较为顺畅,具体地,当扩散单元2包括多个扩散板22时,相邻的两个扩散板22中,靠近开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和不小于远离开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和。
在上述坩埚中,相邻的两个扩散板22中,靠近开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和可以等于远离开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和,在坩埚埚体1底部的蒸镀材料7不断受热蒸发的情况下,坩埚埚体1底部的压力不断推动蒸汽8带着块状喷溅物9向着开口运动,使蒸汽8的流动较为顺畅;相邻的两个扩散板22中,靠近开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和可以大于远离开口的扩散板22中至少一个通孔的面积的总和,使得从坩埚埚体1底部向着开口,压力逐渐减小,蒸汽8带着块状喷溅物9能够更加容易地向着开口运动,使蒸汽8的流动更为顺畅。
具体地,如图4、图5、图6以及图8所示,扩散单元2还包括引导环210,引导环210设置在第一台阶11上,引导环210的内壁上设有多个第二台阶211,扩散板22设置在第二台阶211上,相邻两个第一台阶11中靠近开口的第二台阶211位于远离开口的第二台阶211的外侧。
在上述坩埚中,当扩散单元2采用具有一个扩散板22的结构形式时,由于引导环210的内壁上设有多个第二台阶211,扩散板22可以设置在合适的第二台阶211上,引导环210设置在第一台阶11上,便于扩散板22从坩埚埚体1内取放,扩散板22在引导环210上的放置位置可以根据坩埚以及蒸镀材料7的具体情况进行选择。
当扩散单元2采用具有多个扩散板22的结构形式时,由于引导环210的内壁上设有多个第二台阶211,引导环210设置在第一台阶11上,扩散板22可以设置在合适的第二台阶211上,由于多个第二台阶211之间的距离固定,能够保证扩散单元2的工作稳定性,而多个第二台阶211之间的距离可以根据坩埚以及蒸镀材料7的具体情况进行设计。另外,引导环210上设置由凹槽212,以避免引导环210在第一台阶11上脱离。
而相邻两个第二台阶211中靠近开口的第二台阶211位于远离开口的第二台阶211的外侧,能够保证扩散单元2能够较为方便地取放,提高操作的便捷性。
更具体地,如图4、图5、图6以及图7所示,扩散单元2包括第一扩散板221、第二扩散板222以及第三扩散板223,沿坩埚埚体1的底部的方向朝向开口,第一扩散板221、第二扩散板222以及第三扩散板223依次排列,其中:
第一扩散板221上靠近边缘处设有贯穿第一扩散板本体2212的多个第一通孔2211,多个第一通孔2211沿着第一扩散板本体2212的边缘阵列分布;
第二扩散板222上靠近中心处设有贯穿第二扩散板本体2222的一个第二通孔2221;
第三扩散板223上靠近边缘处设有贯穿第三扩散板本体2232的多个第三通孔2231,多个第三通孔2231沿着第三扩散板本体2232的边缘阵列分布。
在上述坩埚中,扩散单元2垂直于蒸镀材料7的蒸发方向,为了使蒸汽8能够导出到坩埚外部,第一扩散板221上设有多个一定大小的第一通孔2211,第一通孔2211位于第一扩散板221本体的边缘,使蒸汽8分散。第二扩散板222的靠近中心处设有一个一定大小的第二通孔2221,第二通孔2221靠近第二扩散板222的靠近中心处,与第一通孔2211错开,且一个第二通孔2221的面积不小于多个第一通孔2211面积总和。为了防止蒸汽8在蒸发中发生蒸镀材料7的喷溅现象并向坩埚开口方向喷出,利用第二扩散板222的第二扩散板本体2222屏蔽通过第一通孔2211的块状喷溅物9,蒸汽8通过第二通孔2221向上导出。第三扩散板22位于第二扩散板222的上部,第三扩散板22具有多个一定大小的第三通孔2231,第一通孔2211位于第一扩散板221本体的边缘,与第二通孔2221错开,通过第一扩散板221和第二扩散板222的块状喷溅物9被第三扩散板本体2232屏蔽的同时,蒸汽8再次通过第三通孔2231分散后导出开口,并且在基板上均匀的蒸镀,提高了薄膜均匀度。多个第三通孔2231的面积总和不小于一个第二通孔2221的面积。
上述扩散单元2能够屏蔽不均匀蒸汽8和均匀蒸镀材料7的蒸发过程,且保证了蒸汽8流动更加顺畅,同时,在抑制坩埚温度损失的同时可抑制基板和荫罩板温度的上升。
更具体地,如图图6以及8所示,引导环210的内壁上设有三个第二台阶211,引导环210的外壁上设有第三台阶,第一扩散板22、第二扩散板22以及第三扩散板22依次设置在三个第二台阶211上,第三台阶与第一台阶11相配合以将引导环210设置在坩埚埚体1内。
在上述坩埚中,第一扩散板221、第二扩散板222以及第三扩散板22依次设置在三个第二台阶211上,第三台阶与第一台阶11相配合以将引导环210设置在坩埚埚体1内,第一扩散板221、第二扩散板222以及第三扩散板22从引导环210上取放方便,而且第三台阶与第一台阶11相配合使得引导环210从坩埚埚体1上取放方便。
更具体地,蒸镀材料7为无机物时,引导环210由陶瓷制备,或,蒸镀材料7为有机物时,引导环210由金属制备。
在上述坩埚中,蒸镀材料7为无机物时,引导环210可以由热稳定性优秀,且不与金属反应的陶瓷制备,还可以由热稳定性优秀,且不与金属反应的其他材料制备,蒸镀材料7为有机物时,引导环210由铁或者钽制备,还可以由其他能够满足蒸镀要求的材料制备。
另外,本发明还提供了一种点型蒸发源,包括冷却外壳6、加热器3、支撑部件4以及温度传感器5,冷却外壳6形成蒸镀腔体,加热器3通过支撑部件4安装在蒸镀腔体内,温度传感器5的探头伸入蒸镀腔体内,还包括如上述技术方案任一项的坩埚,坩埚设置在加热器3上。
在上述点型蒸发源中,加热器3对坩埚进行加热,在温度传感器5的探头检测处的温度达到蒸镀材料7的蒸发温度后,蒸镀材料7开始气化,由于该坩埚能够减少开口处堵塞和蒸镀材料7不均匀蒸发及喷出现象的发生,因此,具有该坩埚的点型蒸发源的蒸镀均匀性和蒸镀效率较高,提高了OLED的显示器件的产品良率。另外,冷却外壳6能够保证点型蒸发源在工作时,外侧的温度不高,不会对操作人员造成烫伤,提高安全性。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种坩埚,包括一端形成开口的坩埚埚体,所述坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料,其特征在于,还包括至少一个扩散单元,所述扩散单元安装在所述坩埚埚体内靠近所述开口的一端,所述扩散单元具有导流部和阻挡部,所述阻挡部用于阻挡所述蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出所述开口,所述导流部用于将所述蒸镀材料蒸发形成的气体导流出所述开口。
2.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述扩散单元包括至少一个扩散板,所述扩散板包括扩散板本体以及贯穿所述扩散板本体的至少一个通孔,所述至少一个扩散板的通孔形成所述导流部,所述至少一个扩散板的扩散板本体形成所述阻挡部。
3.根据权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述坩埚埚体靠近所述开口的内壁上设有至少一个第一台阶,所述扩散单元设置在所述第一台阶上,当所述坩埚埚体具有多个第一台阶时,相邻两个所述第一台阶中靠近所述开口的第一台阶位于远离所述开口的第一台阶的外侧。
4.根据权利要求2所述的坩埚,其特征在于,当所述扩散单元包括多个扩散板时,相邻的两个所述扩散板上的通孔相互错开。
5.根据权利要求2所述的坩埚,其特征在于,当所述扩散单元包括多个扩散板时,相邻的两个所述扩散板中,靠近所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和不小于远离所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和。
6.根据权利要求3-5任一所述的坩埚,其特征在于,所述扩散单元还包括引导环,所述引导环设置在所述第一台阶上,所述引导环的内壁上设有多个第二台阶,所述扩散板设置在所述第二台阶上,相邻两个所述第一台阶中靠近所述开口的第二台阶位于远离所述开口的第二台阶的外侧。
7.根据权利要求6所述的坩埚,其特征在于,所述扩散单元包括第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板,沿所述坩埚埚体的底部的方向朝向所述开口,所述第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板依次排列,其中:
所述第一扩散板上靠近边缘处设有贯穿所述第一扩散板本体的多个第一通孔,所述多个第一通孔沿着所述第一扩散板本体的边缘阵列分布;
所述第二扩散板上靠近中心处设有贯穿所述第二扩散板本体的一个第二通孔;
所述第三扩散板上靠近边缘处设有贯穿所述第三扩散板本体的多个第三通孔,所述多个第三通孔沿着所述第三扩散板本体的边缘阵列分布。
8.根据权利要求7所述的坩埚,其特征在于,所述引导环的内壁上设有三个第二台阶,所述引导环的外壁上设有第三台阶,所述第一扩散板、第二扩散板以及第三扩散板依次设置在所述三个第二台阶上,所述第三台阶与第一台阶相配合以将所述引导环设置在所述坩埚埚体内。
9.根据权利要求7所述的坩埚,其特征在于,所述蒸镀材料为无机物时,所述引导环由陶瓷制备,或,所述蒸镀材料为有机物时,所述引导环由金属制备。
10.一种点型蒸发源,包括冷却外壳、加热器、支撑部件以及温度传感器,所述冷却外壳形成蒸镀腔体,所述加热器通过支撑部件安装在所述蒸镀腔体内,所述温度传感器的探头伸入所述蒸镀腔体内,其特征在于,还包括如权利要求1-9任一项所述的坩埚,所述坩埚设置在所述加热器上。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110938801A (zh) * 2019-12-13 2020-03-31 山东国晶新材料有限公司 一种用于蒸镀设备上的金属点源及其应用
CN111549318A (zh) * 2020-04-30 2020-08-18 云谷(固安)科技有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置
CN111962027A (zh) * 2020-07-31 2020-11-20 云谷(固安)科技有限公司 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置
US20200406310A1 (en) * 2019-06-27 2020-12-31 Applied Materials, Inc. Steam generation for chemical mechanical polishing
CN112481584A (zh) * 2019-09-12 2021-03-12 合肥欣奕华智能机器有限公司 一种防喷溅蒸镀机构
WO2021057920A1 (zh) * 2019-09-26 2021-04-01 宝山钢铁股份有限公司 一种真空镀膜装置
CN113088891A (zh) * 2021-03-09 2021-07-09 中国电子科技集团公司第十一研究所 铟蒸发舟
CN113416932A (zh) * 2021-06-10 2021-09-21 合肥联顿恪智能科技有限公司 一种蒸发源装置
CN113957391A (zh) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN114075649A (zh) * 2020-12-24 2022-02-22 广东聚华印刷显示技术有限公司 坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60137896A (ja) * 1983-12-23 1985-07-22 Hitachi Ltd 分子線源用ルツボ
CN1940123A (zh) * 2005-09-30 2007-04-04 三星Sdi株式会社 蒸发源部件及使用该部件的真空沉积装置
KR20120057122A (ko) * 2010-11-26 2012-06-05 엘지디스플레이 주식회사 증착용 도가니와 이를 이용한 증착장치
CN104593729A (zh) * 2014-12-24 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚
CN205839115U (zh) * 2016-07-21 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚和蒸发装置
CN107177821A (zh) * 2017-06-12 2017-09-19 京东方科技集团股份有限公司 坩埚装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60137896A (ja) * 1983-12-23 1985-07-22 Hitachi Ltd 分子線源用ルツボ
CN1940123A (zh) * 2005-09-30 2007-04-04 三星Sdi株式会社 蒸发源部件及使用该部件的真空沉积装置
KR20120057122A (ko) * 2010-11-26 2012-06-05 엘지디스플레이 주식회사 증착용 도가니와 이를 이용한 증착장치
CN104593729A (zh) * 2014-12-24 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚
CN205839115U (zh) * 2016-07-21 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚和蒸发装置
CN107177821A (zh) * 2017-06-12 2017-09-19 京东方科技集团股份有限公司 坩埚装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200406310A1 (en) * 2019-06-27 2020-12-31 Applied Materials, Inc. Steam generation for chemical mechanical polishing
CN112481584A (zh) * 2019-09-12 2021-03-12 合肥欣奕华智能机器有限公司 一种防喷溅蒸镀机构
WO2021057920A1 (zh) * 2019-09-26 2021-04-01 宝山钢铁股份有限公司 一种真空镀膜装置
CN110938801A (zh) * 2019-12-13 2020-03-31 山东国晶新材料有限公司 一种用于蒸镀设备上的金属点源及其应用
CN111549318A (zh) * 2020-04-30 2020-08-18 云谷(固安)科技有限公司 蒸镀坩埚及蒸镀装置
CN113957391B (zh) * 2020-07-21 2023-09-12 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957391A (zh) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN111962027A (zh) * 2020-07-31 2020-11-20 云谷(固安)科技有限公司 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置
CN111962027B (zh) * 2020-07-31 2022-09-06 云谷(固安)科技有限公司 一种蒸镀喷嘴及蒸镀点源装置
CN114075649A (zh) * 2020-12-24 2022-02-22 广东聚华印刷显示技术有限公司 坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置
CN114075649B (zh) * 2020-12-24 2023-12-19 广东聚华印刷显示技术有限公司 坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置
CN113088891B (zh) * 2021-03-09 2023-03-03 中国电子科技集团公司第十一研究所 铟蒸发舟
CN113088891A (zh) * 2021-03-09 2021-07-09 中国电子科技集团公司第十一研究所 铟蒸发舟
CN113416932A (zh) * 2021-06-10 2021-09-21 合肥联顿恪智能科技有限公司 一种蒸发源装置

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