CN114075649A - 坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置。本发明的坩埚喷嘴结构包括固定部件、导流部件以及分流部件，固定部件具有容纳通道，固定部件用于设置在蒸镀坩埚的坩埚腔内；导流部件设置在容纳通道内并与所述固定部件连接，导流部件具有蒸镀导流孔；分流部件连接于所述导流部件并朝远离所述导流部件的一侧延伸，分流部件密封所述蒸镀导流孔的一端开口，分流部件上间隔设置有多个分流孔。本发明的坩埚装置包括蒸镀坩埚以及所述的坩埚喷嘴结构，所述蒸镀坩埚具有坩埚腔以及与所述坩埚腔连通的蒸镀口，所述坩埚喷嘴结构通过固定部件设置于所述坩埚腔内且封闭所述蒸镀口。本发明的蒸镀嘴装置不易于堵塞。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜领域，特别是涉及一种坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置。
背景技术
真空蒸发镀膜是指在特定的真空环境中，将固体材料加热蒸发或升华后，使其在基板表面凝结或沉积，以形成表面膜层的工艺。具体地，固体材料在蒸镀源内部加热蒸发或升华后，上升并通过蒸镀源上方的蒸镀嘴上的蒸发孔发出，待蒸镀源移动到待定位置的基板上方或基板移动到蒸镀源上方时，蒸发出的材料离开蒸镀源后逐渐降温，蒸发运动的速度也逐渐降低，最终在基板的表面沉积形成膜层。
蒸镀装置的蒸镀源，根据蒸发孔的设置数量和排列方式来划分，可以分为面蒸镀源、线蒸镀源和点蒸镀源。线蒸镀源指的是蒸镀源的多个规则蒸镀孔呈线性排列，一般情况是蒸镀基板静止下，通过线蒸镀源在基板的下方平行的线性移动而形成膜层区域。面蒸镀源指的是在蒸镀源上方多个规则蒸镀孔是呈整面排布，以使得整面的蒸镀孔与形成膜层的区域相对应。点蒸镀源是蒸镀源仅有一个蒸镀孔，成膜区域为以该蒸镀源为中心的圆锥形向上蒸发或升华，通常应用于金属或无机物的使用。现有的点蒸镀源在工作时，受热蒸发的固体蒸镀材料从离开蒸镀源进入蒸镀孔时即开始逐渐降温沉积，部分固体材料蒸发或升华过程会在经过蒸镀孔时沉积在蒸镀孔内壁，蒸镀孔内壁上沉积的材料逐渐增多会缩小蒸镀孔孔径，导致成膜区域有所改变，甚至使得蒸镀孔完全堵塞，进而导致基板上的蒸镀膜层厚度不均匀，影响器件的发光效率及使用寿命。
发明内容
基于此，有必要提供一种坩埚喷嘴结构、坩埚装置以及蒸镀装置。该坩埚喷嘴结构能够解决蒸镀过程中蒸发孔易于发生堵塞，堵塞后的蒸发孔不易清理疏通的问题；本发明的坩埚喷嘴结构能够提高蒸镀的稳定性，可以使蒸镀后的器件具有更好的性能，保证了蒸镀后的器件的发光效率及使用寿命。本发明的坩埚装置能够提高器件的蒸镀效果。
一种坩埚喷嘴结构，包括：
固定部件，所述固定部件具有容纳通道，所述固定部件用于设置在蒸镀坩埚的坩埚腔内；
导流部件，所述导流部件设置在所述容纳通道内并与所述固定部件连接，所述导流部件具有蒸镀导流孔；以及
分流部件，所述分流部件连接于所述导流部件并朝远离所述导流部件的一侧延伸，所述分流部件密封所述蒸镀导流孔的一端开口，所述分流部件上间隔设置有多个分流孔。
在其中一个实施例中，所述导流部件呈环状结构，所述蒸镀导流孔的两端开口分别形成导流入口以及导流出口，所述导流入口用于依次连通所述分流孔、所述蒸镀坩埚的坩埚腔，所述导流出口用于朝向待蒸镀基板，所述蒸镀导流孔的横截面积由所述导流入口至所述导流出口方向逐渐减小。
在其中一个实施例中，所述导流部件呈圆锥台结构，所述导流入口所在圆锥台结构的底面面积大于所述导流出口所在圆锥台结构的底面面积。
在其中一个实施例中，所述固定部件呈环状结构且其两端分别形成连通所述容纳通道的第一开口与第二开口，所述导流入口的边缘密封连接于所述第一开口边缘，所述导流出口的朝向与所述第二开口的朝向一致。
在其中一个实施例中，还包括：
环状的连接部，所述导流入口的边缘与所述第一开口边缘通过所述连接部密封连接。
在其中一个实施例中，所述分流部件包括：
分流底盘；以及
呈环状结构的分流侧壁，所述分流侧壁的一端密封连接所述分流底盘，所述分流侧壁的另一端密封连接所述导流入口的边缘，所述分流侧壁的外径小于等于所述固定部件的外径。
在其中一个实施例中，所述分流孔在所述分流侧壁上等间距设置。
在其中一个实施例中，所述分流孔在所述分流底盘上等间距设置。
在其中一个实施例中，所述固定部件的所述第二开口的边缘具有朝外延伸的延伸配合部。
一种坩埚装置，包括：
蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚具有坩埚腔以及与所述坩埚腔连通的蒸镀口；以及
所述的坩埚喷嘴结构，所述坩埚喷嘴结构通过所述固定部件设置于所述坩埚腔内且封闭所述蒸镀口。
一种蒸镀装置，包括：
蒸镀室，所述蒸镀室具有蒸镀腔；
所述的坩埚装置，所述坩埚装置设置于所述蒸镀腔内；以及
蒸镀源，所述蒸镀源设置在所述蒸镀腔内；
所述的坩埚装置，所述坩埚装置设置于所述蒸镀源内并与所述蒸镀源配合，所述坩埚装置用于容纳蒸镀材料。
本发明的坩埚喷嘴结构能够有效降低蒸镀材料在蒸镀导流孔内壁的附着，具体地，本发明通过设置分流部件上的多个分流孔实现控制蒸镀材料的量，继而减少蒸镀材料在蒸镀导流孔的内壁上的附着，能够有效提高蒸镀材料蒸发或升华的均匀性，从蒸镀导流孔出去的蒸镀材料能够均匀附着在待蒸镀的基板上，进而保证蒸镀的膜厚的均匀性。
本发明的坩埚喷嘴结构对蒸镀坩埚中的蒸镀材料的添加量影响极小，有效提高了蒸镀材料的利用率，减少了蒸镀材料的浪费，降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明实施例1所示的坩埚喷嘴结构示意图；
图2为本发明实施例1所示的坩埚喷嘴结构俯视示意图；
图3为本发明实施例1所示的坩埚喷嘴结构侧面示意图；
图4为本发明实施例2所示的坩埚喷嘴结构示意图；
图5为本发明实施例2所示的坩埚喷嘴结构俯视示意图；
图6为本发明实施例2所示的坩埚喷嘴结构侧面示意图；
图7为本发明实施例3所示的坩埚装置示意图；
图8为本发明实施例3所示的坩埚装置示意图；
图9为本发明实施例4所述的蒸镀装置示意图。
附图标记说明
10、坩埚装置；100、坩埚喷嘴结构；110、固定部件；111、延伸配合部；120、导流部件；121、蒸镀导流孔；122、导流入口；123、导流出口；130、分流部件；131、分流孔；132、分流底盘；133、分流侧壁；140、连接部；200、蒸镀坩埚；210、坩埚腔；300、蒸镀源；20、基板；30、蒸镀装置；31、蒸镀室；311、蒸镀腔。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
在本发明的描述中，应当理解的是，本发明中采用术语在本发明的描述中，应当理解的是，本发明中采用术语“中心”、“上”、“下”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
应当理解的是，本发明中采用术语“第一”、“第二”等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语，这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本发明范围的情况下，“第一”信息也可以被称为“第二”信息，类似的，“第二”信息也可以被称为“第一”信息。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通，也即，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1所示，本发明一实施例提供了一种坩埚喷嘴结构100。
参见图1及图4所示，一种坩埚喷嘴结构100，包括固定部件110、导流部件120以及分流部件130。
固定部件110具有容纳通道，固定部件110用于设置在蒸镀坩埚200的坩埚腔210内。导流部件120具有蒸镀导流孔121，导流部件120设置在容纳通道内且连接于固定部件110。
分流部件130连接于导流部件120并朝远离导流部件130的一侧延伸，且分流部件130密封蒸镀导流孔121的一端开口。蒸镀导流孔121优选为圆形孔，不难理解，蒸镀导流孔121还可以是方形孔、椭圆形孔。当蒸镀导流孔121为圆形孔时，蒸镀导流孔121的孔径R1为25mm-30mm，蒸镀导流孔121的孔径R1为26mm±0.2mm。蒸镀导流孔121的孔径R1可以根据待蒸镀的基板20大小也即蒸发所能覆盖的面积以及蒸镀源到基板20的高度决定。
分流部件130上间隔设置有多个分流孔131。
在一个实施例中，导流部件120呈环状结构。蒸镀导流孔121的两端开口分别形成导流入口122以及导流出口123，导流入口122用于依次连通分流孔131、蒸镀坩埚200的坩埚腔210，导流出口123用于朝向待蒸镀基板20。蒸镀导流孔121的横截面积由导流入口122至导流出口123方向逐渐减小，例如，蒸镀导流孔121由导流入口122至导流出口123方向逐渐收拢，分流部件130连接于导流入口122的边缘。此时导流入口122的孔径R1为25mm-30mm。
导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1(即导流部件120的上底面与下底面之间的高度)为15mm-25mm，优选地，导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1为19mm±0.2mm。
在一个实施例中，导流部件120呈圆锥台结构，导流入口122所在圆锥台结构的底面面积大于导流出口123所在圆锥台结构的底面面积，也即，导流入口122位于导流部件120尺寸较大的一端，导流出口123位于导流部件120尺寸较小的一端。导流部件120的母线的倾斜度为30°-60°，优选地，导流部件120的母线的倾斜度为45°，其中，需要说明的是，导流部件120的母线的倾斜度指的是导流部件120的圆周面与其上底面或者下底面的夹角(附图1中所示角α)。导流部件120的母线的倾斜度为45°的设置可以有效利用蒸镀材料，使得蒸镀材料更有效的蒸发到基板20上。
在一个实施例中，固定部件110呈环状结构且其两端分别形成连通于固定部件110的容纳通道的第一开口与第二开口。导流部件120位于固定部件110内。导流入口122的边缘密封连接于第一开口边缘，导流出口123的朝向与第二开口的朝向一致。
优选地，固定部件110呈圆环状结构。固定部件110的外径R2为60mm-70mm。优选地，固定部件110的外径R2为68mm±0.2mm。
固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2为15mm-30mm，优选地，固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2为19mm±0.2mm。优选地，固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2与导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1相等。
在一个实施例中，蒸镀嘴装置100还包括环状的连接部140。导流入口122的边缘与第一开口边缘通过连接部140密封连接。连接部140与导流部件120、固定部件110是一体式连接，在加工时，通过注塑的方式一体成型。一体成型的设置能够使得蒸镀嘴装置100不容易损坏，受热均匀。
在一个实施例中，分流部件130包括分流底盘132以及呈环状结构的分流侧壁133。分流侧壁133的一端密封连接分流底盘132，分流侧壁133的另一端密封连接导流入口122的边缘。所述分流侧壁133的外径小于等于所述固定部件110的外径。分流侧壁133的高度也即上述的高度h3为5mm-10mm，优选为8mm±0.2mm。
优选地，分流底盘132呈圆形，分流侧壁133呈圆环状。分流底盘132的外径R3为55mm-70mm。优选地，分流底盘132的外径R3为64mm±0.2mm。此时，导流出口123的孔径与分流底盘132的外径R3相等。
分流底盘132与导流出口123之间的总高度也即h1+h3的高度优选为27mm±0.2mm，h1+h3这个高度能够保证蒸镀材料升华后降温沉积的速度大大减小，从而使得蒸镀材料升华后的温度差变小，升华后的蒸镀材料能够快速沉积至基板20上。
在一个实施例中，由于分流底盘132的外径R3小于固定部件110的外径R2，因此，分流侧壁133不突出于固定部件110的外周壁，此时，连接部140呈圆环形的片状结构，连接部140的宽度W1(也即连接部140的外径、内径之差)为固定部件110的外径R2与分流底盘132的外径R3之差。连接部140的宽度W1为2mm±0.2mm。
在一个实施例中，参见图1及图2所示，述分流底盘132上具有分流孔131。优选地，分流孔131在分流底盘132上等间距设置。分流孔131的数量可以是两个、三个、四个等，优选地，分流孔131的数量为八个，分流孔131优选为圆形形状。当分流孔131为圆形形状时，此时分流孔131的直径R4优选地为6mm±0.2mm。不难理解，在其他实施例中，分流孔131还可以是方形、椭圆形等。分流底盘132上的每个分流孔131距离分流底盘132外边缘的距离L2＝3mm±0.2mm，这个距离的设置能够使得蒸镀材料升华后在分流部件130内各处的温度相差不大，特别对于高温的蒸镀材料如800℃时，温度误差控制在1℃～℃之内，基本不会影响蒸镀的效果。本实施例中，分流孔131的作用是将大量蒸镀材料的气流变为均匀的小气流，抑制蒸镀材料在大量蒸发或升华过程中发生逐渐降温沉积现象，避免部分固体材料蒸发或升华过程会在蒸镀导流孔121的内壁沉积，避免了蒸镀导流孔121的内壁上沉积的蒸镀材料增多而导致蒸镀导流孔121的孔径缩小，防止蒸镀导流孔121完全堵塞。
在另一个实施例中，参见图3及图5所示，分流侧壁133上具有分流孔131。优选地，分流孔131在分流侧壁133上等间距设置。分流孔131的数量可以是两个、三个、四个等，优选地，分流孔131的数量为六个，分流孔131优选为正方形形状。当分流孔131为正方形形状时，此时分流孔131的边长L1优选地为6mm×6mm。不难理解，在其他实施例中，分流孔131还可以是圆形、椭圆形等。本实施例中，由于分流孔131分布于分流侧壁133上，因此分流孔131具有固定部件110的外边缘的距离为2mm±0.2mm，也即连接部140的宽度W1。
在一个实施例中，固定部件110的第二开口的边缘具有朝外延伸的以用于与蒸镀坩埚200配合的延伸配合部111。延伸配合部111的宽度W2为10mm-20mm，优选地，延伸配合部111的宽度W2为15mm±3mm。
本发明中的固定部件110的厚度、导流部件120的厚度、分流侧壁133的厚度以及分流底盘132的厚度均为0.5mm-1.0mm。优选地，本发明中的固定部件110的厚度、导流部件120的厚度、分流侧壁133的厚度以及分流底盘132的厚度均为0.78mm±0.5mm。
本发明的坩埚喷嘴结构100能够有效降低蒸镀材料在蒸镀导流孔121内壁的附着，具体地，本发明通过设置分流部件130上的多个分流孔131实现控制蒸镀材料的量，继而减少蒸镀材料在蒸镀导流孔121的内壁上的附着，能够有效提高蒸镀材料蒸发或升华的均匀性，从蒸镀导流孔121出去的蒸镀材料能够均匀附着在待蒸镀的基板20上，进而保证蒸镀的膜厚的均匀性。
本发明中的导流部件120的制备材质是Ta。该材质的热性好，导热性好，温度能承受范围100℃-1600℃，形变性能相对稳定，不容易发生形变，使用寿命长。
本发明还提供了一种坩埚装置10。
一种坩埚装置10，包括蒸镀坩埚200以及上述的坩埚喷嘴结构100。蒸镀坩埚200具有坩埚腔210以及与坩埚腔210连通的蒸镀口，坩埚喷嘴结构100通过固定部件110设置于坩埚腔210内且封闭蒸镀口。坩埚腔210内的蒸镀材料可以是Mg。坩埚腔210的体积为400mL-600mL，优选地，坩埚腔210的体积为500mL。
在一个实施例中，固定部件110与坩埚腔210的内壁接触配合。优选地，蒸镀坩埚200呈圆柱状结构，且坩埚腔210呈圆柱形腔，坩埚腔210的内径为65mm-75mm，并且坩埚腔210的内径不小于固定部件110的外径。为了能够实现固定部件110快速安装于坩埚腔210内，坩埚腔210的内径较固定部件110的外径大1mm-2mm，例如，坩埚腔210的内径为69mm，固定部件110的外径为68mm。
本发明的坩埚装置10所使用的蒸镀材料可以是Ag、Mg或LiF。待蒸镀的基板20最优的尺寸为560mm×480mm。
本发明的坩埚装置10对蒸镀坩埚200中的蒸镀材料的添加量影响极小，有效提高了蒸镀材料的利用率，减少了蒸镀材料的浪费，降低了生产成本。
本发明的坩埚装置10能够提高蒸镀材料利用率，防止蒸镀材料塞孔的现象发生，降低异常状况，提升了成膜的效率以及均匀性。
本发明一实施例还提供了一种蒸镀装置。
一种蒸镀装置，包括蒸镀室31、蒸镀源300以及上述的坩埚装置10，蒸镀室31具有蒸镀腔311，蒸镀源300设置在蒸镀腔311内；坩埚装置10设置于蒸镀源300内并与蒸镀源300配合，坩埚装置10中的蒸镀坩埚用于容纳蒸镀材料。
实施例1
本实施例提供了一种坩埚喷嘴结构100。
一种坩埚喷嘴结构100，包括固定部件110、导流部件120以及分流部件130。
固定部件110具有容纳通道，固定部件110用于设置在蒸镀坩埚200的坩埚腔210内。
导流部件120呈圆锥台结构，导流部件120具有蒸镀导流孔121，蒸镀导流孔121的两端开口分别形成导流入口122以及导流出口123，导流入口122所在圆锥台结构的底面的面积大于导流出5口123所在圆锥台结构的底面，也即，导流入口122位于导流部件120尺寸较大的一端，导流出口123位于导流部件120尺寸较小的一端，导流入口122的孔径R1为25mm-30mm。导流部件120的母线的倾斜度为45°。导流入口122依次连通分流孔1321、蒸镀坩埚200的坩埚腔210，导流出口123用于朝向待蒸镀基板20，蒸镀导流孔121由导流入口122至导流出口123方向逐渐收拢。
导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1(即导流部件120的上底面与下底面之间的高度)为19mm±0.2mm。
导流部件120的制备材质是Ta。该材质的热性好，导热性好，温度能承受范围100℃-1600℃，形变性能相对稳定，不容易发生形变，使用寿命长。
固定部件110呈圆环状结构且其两端分别形成连通于固定部件110的容纳通道的第一开口与第二开口。导流部件120设置在容纳通道内，导流入口122的边缘密封连接于第一开口边缘，导流出口123的朝向与第二开口朝向一致。
固定部件110的外径R2为68mm±0.2mm。
固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2为19mm±0.2mm。固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2与导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1相等。
导流入口122的边缘与第一开口边缘通过连接部140密封连接。连接部140与导流部件120、固定部件110是一体式连接，在加工时，通过注塑的方式一体成型。一体成型的设置能够使得蒸镀嘴装置100不容易损坏，受热均匀。
分流部件130包括圆形的分流底盘132以及呈圆环状结构的分流侧壁133。分流侧壁133的一端密封连接分流底盘132，分流侧壁133的另一端密封连接导流入口122的边缘。分流侧壁133的高度h3为8mm±0.2mm。此时，整个蒸镀嘴装置100的总高度为h1+h3为27mm±0.2mm，h1+h3这个高度能够保证蒸镀材料升华后降温沉积的速度大大减小，从而使得蒸镀材料升华后的温度差变小，升华后的蒸镀材料能够快速沉积至基板20上。分流底盘132的外径R3为64mm±0.2mm。此时，导流出口123的孔径与分流底盘132的外径R3相等。
由于分流底盘132的外径R3小于固定部件110的外径R2，因此，分流侧壁133不突出于固定部件110的外周壁，此时，连接部140呈圆环形的片状结构，连接部140的宽度W1(也即连接部140的外径、内径之差)为固定部件110的外径R2与分流底盘132的外径R3之差。连接部140的宽度W1为2mm±0.2mm。
分流底盘132上具有八个分流孔131，分流孔131在分流底盘132上均匀分布。分流孔131为圆形形状，此时分流孔131的直径R4为6mm±0.2mm。分流底盘132上的每个分流孔131距离分流底盘132外边缘的距离L2＝3mm±0.2mm，这个距离的设置能够使得蒸镀材料升华后在分流部件130内各处的温度相差不大，特别对于高温的蒸镀材料如800℃时，温度误差控制在1℃～℃之内，基本不会影响蒸镀的效果。分流孔131的作用是将大量蒸镀材料的气流变为均匀的小气流，抑制蒸镀材料在大量蒸发或升华过程中发生逐渐降温沉积现象，避免部分固体材料蒸发或升华过程会在蒸镀导流孔121的内壁沉积，避免了蒸镀导流孔121的内壁上沉积的蒸镀材料增多而导致蒸镀导流孔121的孔径缩小，防止蒸镀导流孔121完全堵塞。
固定部件110的第二开口的边缘具有朝外延伸的以用于与蒸镀坩埚200配合的延伸配合部111。延伸配合部111的宽度W2为15mm±3mm。
固定部件110的厚度、导流部件120的厚度、分流侧壁133的厚度以及分流底盘132的厚度均为0.78mm±0.5mm。
实施例2
本实施例提供了一种坩埚喷嘴结构100。
一种坩埚喷嘴结构100，包括固定部件110、导流部件120以及分流部件130。
固定部件110具有容纳通道，固定部件110用于设置在蒸镀坩埚200的坩埚腔210内。
导流部件120呈圆锥台结构，导流部件120具有蒸镀导流孔121，蒸镀导流孔121的两端开口分别形成导流入口122以及导流出口123，导流入口122所在圆锥台结构的底面的面积大于导流出5口123所在圆锥台结构的底面，也即，导流入口122位于导流部件120尺寸较大的一端，导流出口123位于导流部件120尺寸较小的一端，导流入口122的孔径R1为25mm-30mm。导流部件120的母线的倾斜度为45°。导流入口122依次连通分流孔1321、与蒸镀坩埚200的坩埚腔210，导流出口123用于朝向待蒸镀基板20，蒸镀导流孔121由导流入口122至导流出口123方向逐渐收拢。
导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1(即导流部件120的上底面与下底面之间的高度)为19mm±0.2mm。
导流部件120的制备材质是Ta。该材质的热性好，导热性好，温度能承受范围100℃-1600℃，形变性能相对稳定，不容易发生形变，使用寿命长。
固定部件110呈圆环状结构且其两端分别形成连通于固定部件110的容纳通道的第一开口与第二开口。导流部件120设置于容纳通道内，导流入口122的边缘密封连接于第一开口边缘，导流出口123的朝向与第二开口朝向一致。
固定部件110的外径R2为68mm±0.2mm。
固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2为19mm±0.2mm。固定部件110沿着其轴向方向上的高度h2与导流部件120沿着其轴向方向上的高度h1相等。
导流入口122的边缘与第一开口边缘通过连接部140密封连接。连接部140与导流部件120、固定部件110是一体式连接，在加工时，通过注塑的方式一体成型。一体成型的设置能够使得蒸镀嘴装置100不容易损坏，受热均匀。
分流部件130包括圆形的分流底盘132以及呈圆环状结构的分流侧壁133。分流侧壁133的一端密封连接分流底盘132，分流侧壁133的另一端密封连接导流入口122的边缘。分流侧壁133的高度h3为8mm±0.2mm。此时，整个蒸镀嘴装置100的总高度为h1+h3为27mm±0.2mm，h1+h3这个高度能够保证蒸镀材料升华后降温沉积的速度大大减小，从而使得蒸镀材料升华后的温度差变小，升华后的蒸镀材料能够快速沉积至基板20上。分流底盘132的外径R3为64mm±0.2mm。此时，导流出口123的孔径与分流底盘132的外径R3相等。
由于分流底盘132的外径R3小于固定部件110的外径R2，因此，分流侧壁133不突出于固定部件110的外周壁，此时，连接部140呈圆环形的片状结构，连接部140的宽度W1(也即连接部140的外径、内径之差)为固定部件110的外径R2与分流底盘132的外径R3之差。连接部140的宽度W1为2mm±0.2mm。
分流侧壁133上具有六个分流孔131。分流孔131在分流侧壁133上均匀分布。分流孔131为正方形形状，此时分流孔131的边长L1为6mm×6mm。本实施例中，由于分流孔131分布于分流侧壁133上，因此分流孔131具有固定部件110的外边缘的距离为2mm±0.2mm。分流孔131的作用是将大量蒸镀材料的气流变为均匀的小气流，抑制蒸镀材料在大量蒸发或升华过程中发生逐渐降温沉积现象，避免部分固体材料蒸发或升华过程会在蒸镀导流孔121的内壁沉积，避免了蒸镀导流孔121的内壁上沉积的蒸镀材料增多而导致蒸镀导流孔121的孔径缩小，防止蒸镀导流孔121完全堵塞。
固定部件110的第二开口的边缘具有朝外延伸的以用于与蒸镀坩埚200配合的延伸配合部111。延伸配合部111的宽度W2为15mm±3mm。
固定部件110的厚度、导流部件120的厚度、分流侧壁133的厚度以及分流底盘132的厚度均为0.78mm±0.5mm。
实施例3
本实施例提供了一种坩埚装置10。
一种坩埚装置10，包括蒸镀坩埚200以及实施例1或者实施例2中的坩埚喷嘴结构100。
如图6所示，蒸镀坩埚200具有坩埚腔210以及与坩埚腔210连通的蒸镀口。坩埚喷嘴结构100通过固定部件110设置于坩埚腔210内且封闭蒸镀口。坩埚腔210的体积为500mL。
固定部件110与坩埚腔210的内壁间隙配合。具体地，蒸镀坩埚200呈圆柱状结构，且坩埚腔210呈圆柱形腔，坩埚腔210的内径为69mm，固定部件110的外径R2为68mm，固定部件110的外径小于坩埚腔210的内径1mm。
当本实施例采用实施例1的坩埚喷嘴结构100时，组装得的坩埚装置10如图7所示。
当本实施例采用实施例2的坩埚喷嘴结构100时，组装得的坩埚装置10如图8所示。
本发明的坩埚装置10所使用的蒸镀材料可以是Ag、Mg或LiF。待蒸镀的基板20最优的尺寸为560mm×480mm。
本发明的坩埚装置10对蒸镀坩埚200中的蒸镀材料的添加量影响极小，有效提高了蒸镀材料的利用率，减少了蒸镀材料的浪费，降低了生产成本。本发明的坩埚装置10能够提高蒸镀材料利用率，防止蒸镀材料塞孔的现象发生，降低异常状况，提升了成膜的效率以及均匀性。
实施例4
本实施例提供了一种蒸镀装置30。
参见图9所示，一种蒸镀装置30，包括蒸镀室31、蒸镀源300以及实施例3中的坩埚装置10。蒸镀源300设置在蒸镀腔311内；坩埚装置10设置于蒸镀源300内并与蒸镀源300配合，坩埚装置10中的蒸镀坩埚用于容纳蒸镀材料。蒸镀材料可以是Ag、Mg或LiF，优选为Mg。蒸镀材料加入的量为200g-500g之间，例如，可蒸镀材料加入的量为300g。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种坩埚喷嘴结构，其特征在于，包括：
固定部件，所述固定部件具有容纳通道，所述固定部件用于设置在蒸镀坩埚的坩埚腔内；
导流部件，所述导流部件设置在所述容纳通道内并与所述固定部件连接，所述导流部件具有蒸镀导流孔；以及
分流部件，所述分流部件连接于所述导流部件并朝远离所述导流部件的一侧延伸，所述分流部件密封所述蒸镀导流孔的一端开口，所述分流部件上间隔设置有多个分流孔。
2.根据权利要求1所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述导流部件呈环状结构，所述蒸镀导流孔的两端开口分别形成导流入口以及导流出口，所述导流入口用于依次连通所述分流孔、所述蒸镀坩埚的坩埚腔，所述导流出口用于朝向待蒸镀基板，所述蒸镀导流孔的横截面积由所述导流入口至所述导流出口方向逐渐减小。
3.根据权利要求2所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述导流部件呈圆锥台结构，所述导流入口所在圆锥台结构的底面面积大于所述导流出口所在圆锥台结构的底面面积。
4.根据权利要求2或3所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述固定部件呈环状结构且其两端分别形成连通所述容纳通道的第一开口与第二开口，所述导流入口的边缘密封连接于所述第一开口边缘，所述导流出口的朝向与所述第二开口的朝向一致。
5.根据权利要求4所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，还包括：
环状的连接部，所述导流入口的边缘与所述第一开口边缘通过所述连接部密封连接。
6.根据权利要求4所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述分流部件包括：
分流底盘；以及
呈环状结构的分流侧壁，所述分流侧壁的一端密封连接所述分流底盘，所述分流侧壁的另一端密封连接所述导流入口的边缘，所述分流侧壁的外径小于等于所述固定部件的外径。
7.根据权利要求6所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述分流孔在所述分流侧壁上等间距设置；和/或
所述分流孔在所述分流底盘上等间距设置。
8.根据权利要求2或3、5-7任意一项所述坩埚喷嘴结构，其特征在于，所述固定部件的所述第二开口的边缘具有朝外延伸的延伸配合部。
9.一种坩埚装置，其特征在于，包括：
蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚具有坩埚腔以及与所述坩埚腔连通的蒸镀口；以及
如权利要求1-8任意一项所述的坩埚喷嘴结构，所述坩埚喷嘴结构通过所述固定部件设置于所述坩埚腔内且封闭所述蒸镀口。
10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：
蒸镀室，所述蒸镀室具有蒸镀腔；
蒸镀源，所述蒸镀源设置在所述蒸镀腔内；以及
如权利要求9所述的坩埚装置，所述坩埚装置设置于所述蒸镀源内并与所述蒸镀源配合，所述坩埚装置用于容纳蒸镀材料。
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