JP2015058599A - 植物用積層フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】植物の育成に必要な特定波長の光を反射でき、被着体の内容物が視認できる透明な積層フィルムを提供する。【解決手段】全光線透過率が８０％以上であり、かつ、可視光領域において２つの極大反射率波長を有し、波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍにおける反射率Ｒ１およびＲ２が３０％以上である積層フィルムであって、透明基材フィルムの一方の面に、第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層をこの順に有する反射層が積層されており、第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層はいずれも膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ（式中、λｍｉｎ＝極小反射率波長（５２０〜５６０ｎｍ）、ｎ＝４、ｄ＝屈折率）を満たす積層フィルム。【選択図】なし

Description

本発明は、農業や園芸等の植物育成に関する器材に適用される積層フィルムに関する。

近年、安定な量及び価格の食料供給、安全性の高い食料生産、植物の高速生産及び栽培面積の縮小化などを目的とする生産システムとして、工場施設内の照明、空調、養液供給等の環境を、植物の生長に応じて人工的に制御する、いわゆる植物工場での植物栽培が行われている。植物工場の形態としては、ハウスや温室等で太陽光を利用し、人工照明による光の補充や夏季の高温抑制技術等を用いて栽培する「太陽光利用型」や、閉鎖環境で太陽光を用いずに人工照明を用いて栽培する「完全人工光型」がある。

一般に、植物工場の照明としては、太陽光の他に、蛍光ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、高圧ナトリウムランプ、キセノンランプ、白熱電球等の人工光源が使用されている（特許文献１，２，３）。かかる人工光源は、各々特定の波長帯域を有しており、１つまたは複数個併設した光源からの光を植物に照射し、植物の育成に必要な所望の波長帯域の光を照射することができる。植物の育成には、植物の発芽を促進する４５０ｎｍ前後の光、光合成に寄与する４００〜７７０ｎｍの光、光合成、発芽、開花を促進する６６０ｎｍ前後の光が必要であり、照射のタイミングや照射エネルギー量を制御しながら、各波長領域の光を植物に照射する。中でも発光ダイオード（ＬＥＤ）は、植物の発芽を促進する４５０ｎｍ前後の光を発光する青色ダイオードや、光合成、発芽、開花を促進する６６０ｎｍ前後の光を発光する赤色ダイオードを、照射したい植物の栽培面積に応じて複数併設することで、低消費電力で高効率に植物の育成を促進できる（特許文献３）。

ところがこれらの光は全てが植物に吸収することはなく光の一部は外部へ漏れてしまったり植物以外の物体に吸収されてしまったりしている。この対応策として植物の覆い等に全ての光を反射する鏡面フィルムを貼ることが知られているが、鏡面フィルムを貼った場合、外部から内容物を視認することが困難になるなどの問題があった。

特開平１０−２２号公報 特開平１１−２６６７０３号公報 特開２００２−２７２２７１号公報

そこで本発明の目的は、植物の育成に必要な特定波長の光を反射できることを特徴とする積層フィルムであって、被着体の内容物が容易に視認できる透明な積層フィルムを提供することにある。

すなわち、本発明の積層フィルムは次のものである。
（１）全光線透過率が８０％以上であり、かつ、可視光領域において２つの極大反射率波長を有し、波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍにおける反射率Ｒ１およびＲ２が３０％以上である積層フィルムであって、
透明基材フィルムの一方の面に、第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層をこの順に有する反射層が積層されており、
前記第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層はいずれも
膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ
（式中、λｍｉｎ＝極小反射率波長（５２０〜５６０ｎｍ）、ｎ＝４、ｄ＝屈折率である）
を満たすことを特徴とする積層フィルム。
（２）前記透明基材フィルムの他方の面に粘着層が設けられていることを特徴とする（１）の積層フィルム。
（３）（１）又は（２）の積層フィルムを貼付したケーシング内部において、人工光源によって植物を栽培する植物栽培方法。
なお、本明細書中で「○〜△」とは○及び△を含む範囲であり、正確には「○以上、△以下」を指す。

本発明によれば、ケーシングに貼付することによって、人工光源からケーシング内部に照射された植物の育成に必要な特定波長の光をケーシング内部に反射できる透明な積層フィルムを提供することができる。

本発明の積層フィルムは透明基材フィルムの一方面に反射層が少なくとも複数ユニット形成されており、全光線透過率が８０％以上であり、かつ、可視光領域において２つの極大反射率波長を有し、波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍにおける反射率Ｒ１およびＲ２が３０％以上である。なお、全光線透過率とは平行入射光束に対する全透過光束の割合をいい、全光線透過率が８０％未満であると、透明性が低く、積層フィルムを透過した内部の視認性が低いため好ましくない。また、極大反射率波長とは、反射率が極大値となる波長を指す。また、波長４５０ｎｍ及び６６０ｎｍの波長の光は植物の光合成に重要であるため、それぞれの反射率Ｒ１及びＲ２が３０％未満であると、植物の育成に必要な波長の光を効率的に反射することができない。

＜透明基材フィルム＞
前記積層フィルムに用いられる透明基材フィルムは、透明性を有している限り特に制限されない。そのような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリメタクリル酸アクリレート（ＰＭＭＡ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、またはポリエーテルスルフォンなどが挙げられる。これらのうち、ポリエステルフィルムが成形の容易性の点で好ましい。

透明基材フィルムの厚みは特に限定されないが、一般的には２５〜４００μｍであり、好ましくは５０〜２００μｍである。透明基材フィルムの厚みが２５μｍより薄い場合や４００μｍより厚い場合には、積層フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下してしまう。なお、透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤としては、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤などが挙げられる。

＜反射層＞
反射層は、１ユニット中に低屈折率層１層とその上下に高屈折率層とを有する。反射層は２ユニット以上積層されており、積層数が多いほど波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍにおける反射率Ｒ１およびＲ２を高くすることができるが、積層数が増えるにつれて加工数も増えるため、その分生産性が悪くなる。

＜高屈折率層＞
高屈折率層は、低屈折率層よりも屈折率が高く、その屈折率は１．５６以上が好ましい。高屈折率層の屈折率が１．５６未満の場合、低屈折率層との屈折率差が小さくなることで界面の反射が弱くなり、反射性能が十分に発揮されない場合がある。高屈折率層の屈折率の上限は特に制限はないが、現存する成膜材料の制約上、実質２．５０程度が上限となる。また、積層フィルム中の各高屈折率層の屈折率は、互いに同一であっても良いし、異なっていても良い。

高屈折率層を構成する材料は特に限定されるものではなく、無機材料及び有機材料を用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫（以後、ＩＴＯと略す。）等の微粒子が挙げられる。ＩＴＯ等の導電性微粒子を用いた場合には表面抵抗を下げることができるため、帯電防止能も更に付与することができる。特に導電性の面より酸化錫、ＩＴＯ、屈折率の点より酸化チタン、酸化セリウム及び酸化亜鉛が好ましい。また、有機材料としては、例えば屈折率が１．６０〜１．８０であるような重合性単量体を含む組成物を重合硬化したもの等を用いることができる。

高屈折率層の膜厚は次式で設計される。
膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ
λｍｉｎ：極大反射率波長間の極小反射率波長、ｎ：整数、ｄ：屈折率
λｍｉｎは反射率Ｒ１およびＲ２を著しく阻害しない限り特に限定されないが設計上５２０〜５６０ｎｍである。λｍｉｎが５２０ｎｍよりも短波長側の場合や５６０ｎｍよりも長波長側の場合は反射率Ｒ１およびＲ２が低くなってしまう。ｎは整数であり、設計上ｎ＝４で設計される。ｎ＝３やｎ＝５で設計された積層フィルムは極大反射率波長が目的とする波長に設計できなくなってしまい反射率Ｒ１およびＲ２の低下を引き起こしてしまう。

高屈折率層を形成する組成物の塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、ロールコート法、スプレーコート法、リップコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法、押出しコート法、スクリーンコート法等の公知の方法が挙げられる。また乾燥方法としては、温風による乾燥、赤外線ヒーターによる乾燥、遠赤外線ヒーターを使用した乾燥、或は赤外線ヒーターと温風を併用した乾燥、遠赤外線と温風を併用した乾燥方法等が挙げられる。乾燥温度は塗布する液の希釈溶媒によって適宜選択される。更に、活性エネルギー線としては、電子線、放射線、紫外線、可視光線、赤外線、近赤外線、遠赤外線、Ｘ線等が挙げられるが、生産性の高さと強度の高さから紫外線を用いることが好ましい。

また、特に屈折率の高い層を形成する場合はスパッタリング法などの蒸着技術を用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒径は層の厚みを大きく超えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。平均粒径が大きくなると、散乱が生じる等、高屈折率層の光学性能が低下するため好ましくない。また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。各種カップリング剤としては例えば、有機基で置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属のアルコキシド、有機酸塩等が挙げられる。

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、前述の高屈折率層との有意な屈折率差により、反射効果を発現させるための層である。低屈折率層の屈折率は、高屈折率層の屈折率より低く設定されることを要件とし、その屈折率は１．２５〜１．４５の範囲である。該屈折率が１．２５未満の場合には膜が脆くなるため、成膜したフィルムの取り扱いが困難となる。その一方、屈折率が１．４５を超える場合には高屈折率層との屈折率差が小さくなり、十分な反射効果を得ることが難しい。

低屈折率層の膜厚は次式で設計される。
膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ
λｍｉｎ：極大反射率波長間の極小反射率波長、ｎ：整数、ｄ：屈折率
λｍｉｎは反射率Ｒ１およびＲ２を著しく阻害しない限り特に限定されないが設計上５２０〜５６０ｎｍである。λｍｉｎが５２０ｎｍよりも短波長側の場合や５６０ｎｍよりも長波長側の場合は反射率Ｒ１およびＲ２が低くなってしまう。ｎは整数であり、設計上ｎ＝４で設計される。ｎ＝３やｎ＝５で設計された積層フィルムは極大反射率波長が目的とする波長に設計できなくなってしまい反射率Ｒ１およびＲ２の低下を引き起こしてしまう。

低屈折率層を構成する材料は特に限定されるものではなく、酸化珪素やフッ素化合物等公知の材料を使用することができる。例えば、バインダー樹脂に、屈折率を低下させる中空シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を添加したもの、あるいはフッ素系樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂としては、例えば、２官能（メタ）アクリレートとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変成１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、３官能（メタ）アクリレートとして、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変成トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられ、４官能（メタ）アクリレートとして、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられ、６官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他にも多価アルコールと多価カルボン酸又はその無水物とアクリル酸とをエステル化することによって得ることができるポリエステル（メタ）アクリレート、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られるポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリシロキサンポリ（メタ）アクリレート等であり、フッ素系樹脂としては例えば、１，３−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２−ジフルオロプロパン、１，４−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３−テトラフルオロブタン、１，６−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサン、１，８−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロオクタン、１，１０−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン、１，1２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−３，１０−ジヒドロキシ５，５，６，６，７，７，８，８−オクタフルオロドデカン等が挙げられる。また、低屈折率層の塗付方法としては、高屈折率層と同様の方法を採用することができる。

＜接着層＞
また、反射層は高屈折率層と低屈折率層の他、生産性の観点から加熱接着に用いる接着層を有していても良い。反射層が、少なくとも一方の高屈折率層の有する両面のうち、低屈折率層と接していない面に接着層を有することによって、反射層単位での透明基材への加熱接着を繰り返すことが可能になり、容易に反射層を積層することができる。なお、接着層を有する反射層の構成は特に限定されないが、第１の接着層、第１の高屈折率層、低屈折率層、第２の高屈折率層、第２の接着層をこの順に有することが積層の容易性から好ましい。

接着層の膜厚は次式で設計される。
膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ
λｍｉｎ：極大反射率波長間の極小反射率波長、ｎ：整数、ｄ：屈折率
λｍｉｎは反射率Ｒ１およびＲ２を著しく阻害しない限り特に限定されないが設計上５２０〜５６０ｎｍである。λｍｉｎが５２０ｎｍよりも短波長側の場合や５６０ｎｍよりも長波長側の場合は反射率Ｒ１およびＲ２が低くなってしまう。ｎは整数であり、設計上ｎ＝４で設計される。ｎ＝３やｎ＝５で設計された積層フィルムは極大反射率波長が目的とする波長に設計できなくなってしまい反射率Ｒ１およびＲ２の低下を引き起こしてしまう。

前記接着層を形成するための組成物としては、活性エネルギー線照射により硬化可能であって、かつ硬化後の加熱処理により前記接着層を転写対象物に密接させて加熱プレス転写物を得ることができる限り、全て使用可能である。そのような組成物の好ましい例は、活性エネルギー線硬化性成分と加熱溶融可能な樹脂との混合物である。活性エネルギー線硬化性成分としては、電子線等の強力な活性エネルギー線によって架橋・硬化する場合には活性エネルギー線硬化性単量体単独でよいが、紫外線（ＵＶ）等の比較的弱い活性エネルギー線で硬化する場合には活性エネルギー線硬化性単量体と光重合開始剤との混合物を用いることが好ましい。

活性エネルギー線硬化性単量体としては、紫外線等の活性エネルギー線で硬化性のものであればいずれも使用することができる。例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどのアクリルエステル類、分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエステル（メタ）アクリレート類、オリゴエーテル（メタ）アクリレート類、オリゴウレタン（メタ）アクリレート類、及びオリゴエポキシ（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。この中では、多官能であるジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。また、ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。また、高硬度であるものとして、無機微粒子を、分子内に重合性不飽和基を含むシランカップリング剤等で修飾しても良い。なお、本明細書中において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートとアクリレートの両方を指し、（メタ）アクリロイルとは、メタクリロイルとアクリロイルの両方を指す。

また、前記光重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生し、重合を開始させることができるものであれば特に制限されない。光重合開始剤として例えば、チオキサントン系重合開始剤、ベンゾフェノン系重合開始剤、アントラキノン系重合開始剤等が挙げられる。

前記加熱溶融可能な樹脂は、加熱処理によって溶融し、接着性等の機能を発現できる樹脂であれば良く、特に制限されるものではない。その例としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂（スチレン−メチルメタクリレート共重合樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリフェニレンオキシド−スチレン共重合樹脂等）、ポリオレフイン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、オレフィン−マレイミド系共重合樹脂等が挙げられる。

これらの中では、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上の加熱溶融可能な樹脂が好ましく、高温下の環境においても、物性の変化が起こりにくい点からガラス転移温度が１００℃以上の加熱溶融可能な樹脂がより好ましい。そのような高いガラス転移温度を有する加熱溶融可能な樹脂として、アクリル系樹脂であるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、Ｔｇは１００℃）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ、Ｔｇは１４０℃）又はオレフィン−マレイミド共重合樹脂（Ｔｇは１４０℃）が挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化性成分と加熱溶融可能な樹脂との質量比は、活性エネルギー線硬化性成分／加熱溶融可能な樹脂＝７／３〜３／７であることが好ましい。この範囲を外れると、活性エネルギー線硬化性成分及び加熱溶融可能な樹脂の双方の機能をバランス良く発揮することが難しくなる。前記ハードコート性及び加熱接着性を有する層としては、活性エネルギー線を照射して硬化することによって常温でタック感や流動性のない層となり、かつ活性エネルギー線によって硬化した後、加熱溶融することが可能であるような層構成が好ましい。更に、ハードコート性及び加熱接着性を有する層は活性エネルギー線の照射により硬化した後には、加熱溶融しない限り、非常に高い硬度を示すものが好ましい。そのような観点から、前記ハードコート性及び加熱接着性を有する層を形成する組成物の成分設計がなされる。

接着層の屈折率は接着機能を有する限り特に限定されないが、そのような物質の屈折率は１．４６〜１．５５である。また、接着層と高屈折率層とを両方の機能を有する一つの層にしても良い。その場合は、前記高屈折率層を構成する材料に接着層の加熱溶融可能な材料を混合することにより、高屈折率層に接着性を付与することができる。接着層と高屈折率層とが一つの層として形成される場合、その屈折率は普通の高屈折率層の範囲に調整される。

＜積層フィルムの形成＞
積層フィルムの積層方法は特に限定されず、例えば透明基材フィルム上に高屈折率層と低屈折率層とを一層ずつ順に積層することによって得ることも可能である。しかし、生産性の観点から、後述する剥離フィルム上に第２の高屈折率層、低屈折率層、第１の高屈折率層、及び接着層をこの順に積層した反射層ユニットを形成し、その反射層ユニットを加熱接着により積層することが好ましい。

具体的には、接着層側を被着体に密接させた状態で、剥離フィルム側から熱圧を加えることによりその表面に接着層を接着させ、その後、剥離フィルムを剥離する。このような操作により、透明基材フィルムや接着層表面に反射層を接着することができる。

前記剥離フィルム側からの熱圧は、例えばシリコーンゴムロールを用いて行うことができる。この場合、シリコーンゴムロール表面は１００〜３００℃程度の温度、及び４９０〜４９００ＫＰａ程度の圧力が好ましい。加熱処理温度を２５０℃以上にすると、剥離フィルムの支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが溶けてしまうため、シリコーンゴムロール表面は２５０℃以下であることがより好ましい。

＜剥離フィルム＞
本発明において用いられる剥離フィルムは、加熱接着しても後で剥離することができるフィルムであれば良く、特に制限されるものではない。ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン等からなるフィルムや紙類、又はそれらにシリコーン等の離型剤がコーティングされた（剥離処理された）フィルムや紙類等が挙げられる。剥離フィルムは、剥離処理されている方が剥がし易く好ましい。

＜粘着層＞
本発明の積層フィルムは、貼合対象物に対する接着機能を付与する場合は、反射層が積層された面とは反対の面に粘着層を有することが好ましい。粘着層を形成する材料は特に制限されるものではないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の粘着剤が挙げられるが、粘着力を重視する場合はアクリル系、一方、再利用性を重視する場合はシリコーン系粘着剤を使用することが好ましい。

粘着層を形成する方法は特に限定されないが、ウェットコーティング法により塗布膜を形成した後、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化等により硬化膜を得る従来公知の方法を用いることができる。また、この粘着層には機能を損なわない限りその他の機能を有していてもよく、例えば色素や添加剤などを添加して、特定波長域の光の遮断、コントラストの向上、色調の補正等の機能を１種又は２種以上付与することができる。

＜使用法＞
本発明の積層フィルムは、人工光源を用いて内部で植物を栽培するケーシング等に貼付することにより、植物の栽培効率を向上することができる。つまり、被着体であるケーシング等の内面、又は外面に積層フィルムを貼付することにより、ケーシング内部に照射された人工光源の光のうち特定波長の光のみを選択的にケーシング内部に反射することができる。したがって、人工光源の光のうち植物の育成に必要な光は、積層フィルムにより内部へと反射されて外部に漏れる量が少なくなるため、植物に照射される特定波長の光の量を多くすることができる。また、積層フィルムはそれ以外の光に対する透過率が高いため、積層フィルムを介して外部から内部を視認することができる。これにより、ケーシング内部の観察しやすさを保ったまま、植物の栽培に必要な消費電力を低減することができ、結果的に栽培コストを削減できる。

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるものではない。

本発明の評価は下記の方法で実施した。
（Ｉ）反射率波長および反射率
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶした積層フィルムを分光光度計〔日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０〕により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られたスペクトルの極大反射率波長とその反射率を読み取った。
（ＩＩ）全光線透過率
積層フィルムをヘーズメーター〔スガ試験機（株）製、商品名：ＨＺ−Ｖ３〕により測定した。
（ＩＩＩ）植物の育成
株式会社エスキュービズム・アグリエナジーユニティ製箱庭栽培キッチンスタンダードベーシックを使用し壁面の内側に積層フィルムを貼付し育成の観察を行った。結果は積層フィルムを貼付しない場合との比較を記載した。
（ＩＶ）屈折率
各層をアッベ屈折率計〔アタゴ社製ＮＡＲ−４Ｔ〕により測定した。

＜実施例＞
＜製造例１＞
（反射層１の作製）
ｎ＝４、λｍｉｎを５３０として各層の膜厚を設計した。
（第２の接着層の形成）
紫外線硬化性ハードコート剤（主成分：修飾コロイダルシリカ５０質量部、ウレタンアクリレート５０質量部）のメチルエチルケトン溶液（固形分５０質量％）１００質量部に、メタクル酸メチルポリマー〔ｎ≒７０００〜７５００、東京化成工業（株）製〕５０質量部とメチルエチルケトン４５０質量部を加えて、塗布液とした。この塗布液を５０μｍ厚の離型性を有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製の剥離フィルム上に塗布、乾燥後、紫外線照射により硬化し、８８ｎｍ厚の第２の接着層を形成した。第２の接着層の屈折率は１．５０であった。

（第２の高屈折率層の形成）
平均粒子径が約５０ｎｍのＩＴＯ超微粒子９０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部、紫外線重合開始剤Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ−９０７〔２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリンプロパン−１−オン〕３質量部からなる固形分を含むイソブチルアルコール、ジアセトンアルコール、エタノール混合溶媒分散液（固形分３５質量％）６０質量部に、イソプロピルアルコール３４０質量部を加え、高屈折率層塗布液とした。得られた塗布液を前記第２の接着層上に塗布、乾燥後、紫外線照射により硬化し、７９ｎｍ厚の導電性金属酸化物を含有する第２の高屈折率層を形成した。第２の高屈折率層の屈折率は１．６７であった。

（低屈折率層の形成）
ジペンタヘキサアクリレート１０質量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランにより修飾されたコロイダルシリカ９０質量部、紫外線重合開始剤Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ−９０７（２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリンプロパン−１−オン）５質量部に、イソプロピルアルコール２０００質量部を加え、低屈折率層塗布液とした。この塗布液を前記第２の高屈折率層上に塗布、乾燥後、紫外線照射により硬化し、１００ｎｍ厚の低屈折率層を形成した。低屈折率層の屈折率は１．３３であった。

（第１の高屈折率層の形成）
第２の高屈折率層と同じ塗布液を前記低屈折率層上に塗布、乾燥後、紫外線照射により硬化し、７９ｎｍ厚の導電性金属酸化物を含有する第１の高屈折率層を形成した。

（第１の接着層の形成）
第２の接着層と同じ塗布液を前記第１の高屈折率層上に塗布、乾燥後、紫外線照射により硬化し、８８ｎｍ厚の第１の接着層を形成した。以上の手順で反射層１を作製した。

＜製造例２＞
（反射層２の作製）
ｎ＝４、λｍｉｎを５２０として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を８７ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を７８ｎｍ、低屈折率層の膜厚を９８ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を７８ｎｍ、第２の接着層の膜厚を８７ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層２を得た。

＜製造例３＞
（反射層３の作製）
ｎ＝４、λｍｉｎを５６０として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を９３ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を８４ｎｍ、低屈折率層の膜厚を１０５ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を８４ｎｍ、第２の接着層の膜厚を９３ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層３を得た。

＜製造例４＞
（反射層４の作製）
ｎ＝４、λｍｉｎを５００として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を８３ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を７５ｎｍ、低屈折率層の膜厚を９４ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を７５ｎｍ、第２の接着層の膜厚を８３ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層４を得た。

＜製造例５＞
（反射層５の作製）
ｎ＝４、λｍｉｎを６００として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を１００ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を９０ｎｍ、低屈折率層の膜厚を１１３ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を９０ｎｍ、第２の接着層の膜厚を１００ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層５を得た。

＜製造例６＞
（反射層６の作製）
ｎ＝３、λｍｉｎを５３０として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を１２４ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を１１２ｎｍ、低屈折率層の膜厚を１４０ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を１１２ｎｍ、第２の接着層の膜厚を１２４ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層６を得た。

＜製造例７＞
（反射層７の作製）
ｎ＝５、λｍｉｎを５３０として各層の膜厚を設計した。第１の接着層の膜厚を７５ｎｍ、第１の高屈折率層の膜厚を６７ｎｍ、低屈折率層の膜厚を８４ｎｍ、第２の高屈折率層の膜厚を６７ｎｍ、第２の接着層の膜厚を７５ｎｍとした以外は製造例１と同様にして反射層７を得た。

＜実施例１＞
（積層フィルムの作製）
アクリル樹脂板と製造例１で作製した反射層の第１の接着層が接するようにしてステンレス鋼板で挟み込んだ。ステンレス鋼板の上から加圧（３９２３ｋＰａ）し、１３０℃で５分間加熱した。加熱後常温に戻し、剥離フィルムを剥がし、アクリル樹脂板に反射層を１ユニット形成した。同じ手順で反射層を合計で６ユニット積層し、積層フィルム１を作製した。

＜実施例２＞
反射層を合計で３ユニット積層した以外は実施例１と同様にして、積層フィルム２を作製した。

＜実施例３＞
製造例２で作製した反射層２を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム３を作製した。

＜実施例４＞
製造例３で作製した反射層３を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム４を作製した。

＜比較例１＞
反射層を１ユニット積層した以外は実施例１と同様にして、積層フィルム５を作製した。

＜実施例２＞
製造例４で作製した反射層４を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム６を作製した。

＜比較例３＞
製造例５で作製した反射層５を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム７を作製した。

＜比較例４＞
製造例６で作製した反射層６を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム８を作製した。

＜比較例５＞
製造例７で作製した反射層７を用いた以外は実施例１と同様にして積層フィルム９を作製した。

実施例１〜４及び比較例１〜５の積層フィルムを用いて、最大反射率波長、４５０ｎｍ及び６６０ｎｍにおける反射率、全光線透過率、植物の育成について試験を行い、その結果を表１に示す。

実施例１では透明性に優れるため内部の植物を容易に認識することができた。また波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍ付近の光を高効率で反射しているためフィルムを配置しない場合と比較して植物の育成が良かった。また、実施例２〜４では実施例１と同様に透明性に優れ、植物の育成もフィルムを配置しない場合と比較して良かった。一方、比較例１では透明性に優れるため内部の植物は視認できるものの、波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍ付近の光の反射率が低いため、植物の育成がフィルムを配置しない場合と同等であった。また、比較例２および比較例３では膜厚の設計が不適切であるため４５０ｎｍおよび６６０ｎｍ付近の光の反射率が低くなり、植物の育成がフィルムを配置しない場合と同等であった。比較例４では、ｎ＝３で膜厚を設定したため、極大反射率が１個になると共に波長４５０ｎｍ及び６６０ｎｍ付近の光の反射が低くなり、フィルムを配置しない場合と比べて植物の育成が同等であった。比較例５では、ｎ＝５で膜厚を設定したため、全光線透過率が低くなり内部を視認しにくく、更に、波長４５０ｎｍ及び６６０ｎｍ付近の光の反射が低いためにフィルムを設置しない場合と比べて植物の育成が同等であった。

Claims (3)

1. 全光線透過率が８０％以上であり、かつ、可視光領域において２つの極大反射率波長を有し、波長４５０ｎｍおよび６６０ｎｍにおける反射率Ｒ１およびＲ２が３０％以上である積層フィルムであって、
   透明基材フィルムの一方の面に、第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層をこの順に有する反射層が積層されており、
   前記第１の高屈折率層、低屈折率層、及び第２の高屈折率層はいずれも
   膜厚＝λｍｉｎ／ｎ／ｄ
   （式中、λｍｉｎ＝極小反射率波長（５２０〜５６０ｎｍ）、ｎ＝４、ｄ＝屈折率である）
   を満たすことを特徴とする積層フィルム。
2. 前記透明基材フィルムの他方の面に粘着層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の積層フィルム。
3. 請求項１又は２に記載の積層フィルムを貼付したケーシング内部において、人工光源によって植物を栽培する植物栽培方法。