JPH09203809A - 輻射線遮蔽用複合材料 - Google Patents

輻射線遮蔽用複合材料

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JPH09203809A
JPH09203809A JP8238649A JP23864996A JPH09203809A JP H09203809 A JPH09203809 A JP H09203809A JP 8238649 A JP8238649 A JP 8238649A JP 23864996 A JP23864996 A JP 23864996A JP H09203809 A JPH09203809 A JP H09203809A
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materials
layers
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JP8238649A
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Martin Dr Friz
マルティン・フリッツ
Peter Dr Reynders
ペーター・ラインデルス
Tony Leon Filip Daponte
トニー−レオン−フィリップ・ダポンテ
Patrick Corneel Ma Verschaeren
パトリック−コルンエール−マチルデ・フェルシャエレン
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Hyplast NV
Merck Patent GmbH
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Hyplast NV
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    • Y02A40/10—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production in agriculture
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の課題は、入射光の透過および反射に
影響を及ぼす干渉層を有する新規な複合材料を見出すこ
とにある。 【解決手段】 透明な無機質または有機質担体およびこ
の担体上に透明な干渉層システムを有する複合材料であ
って、干渉層システムは、相違する屈折率を有する少な
くとも２つの層を有し、屈折率が高い方の層の次に、屈
折率が低い方の層が存在する構造を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射光の反射およ
び透過に影響を及ぼす複合材料（composite material）
に関し、この材料は透明担体および干渉層を有するシス
テムからなる。好ましくは、本発明の材料は植物栽培お
よび植物成長にかかわり、農業および園芸で使用され
る。さらにまた、本発明の材料は、照明装置と組合わせ
て、照射植物（illuminated plant）、例えば室内保存
の植物の成長を改善するために使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】特別の光条件を確立することによって、
植物の成長および形態形成（morphogenesis）に影響を
及ぼすことができる。例えば温室内において、あるいは
マルチ（ｍｕｌｃｈ：温床用）フィルムが使用される場
合に、閉鎖空間内での、植物を成長させるためのこれら
の光条件に関して多くの因子が特に重要である。これら
の条件には、主として温度ならびに入射光の強度および
スペクトル分布がある。昼と夜の温度差が非常に広い場
合には、植物が温度の変化に対する耐性を強めるため
に、これらの植物は温室内ではそんなに良好な成長はし
ない。従って、この閉鎖空間は、強い太陽照射から、特
にＮＩＲ（近赤外）照射から遮蔽しなければならない。
他方で、夜間には、閉鎖空間内に熱を保つための考慮が
必要である。入射光の強度が強過ぎる場合には、植物の
日焼けを回避するために、入射光の散乱が必要である。
【０００３】植物が利用することができる入射光のスペ
クトルの一部分のみが植物に降りそそがれなければなら
ない。このスペクトル部分は３８０〜７８０ｎｍの可視
部光線のスペクトル範囲にあり、この範囲は光合成的に
活性な輻射線（ＰＡＲ）と称されている。マルチフィル
ムの場合には、反対の効果が望まれる。すなわち、光合
成的に活性な輻射線は反射されなければならず、かつま
た可視部光線の他の部分は、このフィルムを透過しなけ
ればならない。マルチフィルムは、収穫植物の成長条件
を改善するために、およびまた種子の生長を抑制するた
めに、従って化学除草剤の使用を最低にするために使用
される。
【０００４】植物栽培者の一部においてはまた、植物形
態形成に影響を及ぼすことが望まれる。形態形成の用語
は、植物の形状および外観に対する環境因子の影響を意
味するものと理解される。それらの因子の一つにスペク
トルエネルギー分布がある。６６０〜７３０ｎｍのスペ
クトル範囲における赤色対近赤外の比が花および果実の
展開にとって重要であることが知られている。植物形態
形成にとって所望の影響は、この比を変えることによっ
て達成することができる。ガラス製温室は、無機質ガラ
スの本質的な物理的性質および特定の建造手段、例えば
バブルガラスおよび日除け布地を用いることによって、
上記条件の幾つかはすでに叶えられている。
【０００５】DE 25 44 245には、建築物および車両用の
ポリメチルメタアクリレートからなる透明張り材料（gl
azing material）が記載されており、この材料は８００
〜１５００ｎｍの波長を有するＩＲ照射線を遮蔽するた
めの干渉性顔料を含有している。使用されている顔料は
ピンク−赤色を有する。これは、この材料が入射光中で
ピンク−赤色を呈色し、かつまた透過光中で青−緑色を
呈色することを意味する。温室で使用する場合に、この
透明張り材料は、植物が利用することができない可視部
光線の部分を透過させ、他方で植物が利用することがで
きる可視部光線の赤色部分が当該透明張り材料により遮
蔽されるという欠点を有する。さらにまた、透過する緑
色部分は、長波長光線に変換されることによって、温室
を加熱する一因となるという欠点を有する。
【０００６】EP-A-0 428 937には、温室用の灰−白色塗
料が記載されており、この塗料はポリマー担体材料およ
びその中に懸濁されている反射性粒子からなる。これら
の粒子はアルミニウム小片および（または）二酸化チタ
ンで被覆されている雲母小片である。この塗料は苛酷な
天候条件（夏期）における一時的なコーティングに使用
される。冬期には、このコーティングは噴射水を放水す
ることによって取除くことができる。使用される顔料に
関してこれ以上の詳細は示されていない。この塗料で
は、ＩＲ輻射線ばかりでなく、植物が利用することがで
きる可視部光線の相当の部分もまた、その金属粒子によ
って反射され、不利である。透過する光の緑色部分は、
植物が利用することができず、かつまた温室を加熱する
一因となる。
【０００７】WO 94/05 727には、輻射線を選択的に遮蔽
する複合材料が記載されており、この材料はポリマー、
干渉顔料および慣用の安定剤からなり、特定のポリマー
に必要な形成助剤を含有する。意図とする用途に正確に
依存して、相違する干渉顔料が使用される。従って、温
室用のフィルムには４９０〜５８０ｎｍの範囲に主要反
射帯域および１０００〜３０００ｎｍの短波長赤外部に
第二の反射帯域を有する緑色干渉顔料が使用され、そし
てマルチ（温床用）フィルムには３８０〜４８０ｎｍの
範囲に主要反射帯域および６００〜８００ｎｍに第二の
反射帯域を有する赤−青色干渉顔料が使用され、かつま
た植物形態形成に影響を及ぼすフィルムには７００〜８
００ｎｍの範囲に主要反射帯域を有する干渉顔料が使用
されている。
【０００８】これらの干渉顔料は、その反射帯域が非常
に広く、それ故その透過範囲が非常に広く、従って植物
の生長を選択的に充分に制御することができないという
欠点を有する。これらの反射光の強度は小さく、従って
望ましくない光の大部分が依然として植物に降りそそぐ
ことになるという欠点を有する。この主要反射帯域に加
えて、第二の反射帯域がまた存在する。太陽光スペクト
ルのそれらの位置は、干渉顔料を含有する通常三層から
なる構造体により決定される。不幸なことに、この主要
帯域が７００〜８００ｎｍにある場合に、この第二の帯
域は光合成活性輻射線（ＰＡＲ）の範囲にある。要約す
ると、従ってこれらの干渉顔料は透過する光のスペクト
ル分布に関する前記要件を完全に満たすものではないと
言わなければならない。
【０００９】ヨーロッパ特許出願94 111 390.4はすで
に、相違する屈折率を有する２種の相違するポリマーか
らの同時押出し成型により形成される多層フィルムを農
業用フィルムとして使用することを提案している。それ
ぞれ屈折率が低い方の層の次に、屈折率が高い方の層が
存在し、これら２種の屈折率間の差は少なくとも０．０
３でなければならない。これらの多層フィルムは通常、
銀色の輝きを有するか、または虹彩色（irridescent co
lours）を有する。或る許容された層の厚みが観察され
ると、これが各層の数および厚さに依存して変化する
と、干渉により或る種の色を生じさせることができ、こ
のことは最終的に、入射光のスペクトルからの限定範囲
のスペクトルがフィルムにより反射され、そして所望の
スペクトル分布を有する光のみが植物に到着するという
ことを意味する。
【００１０】しかしながら、この同時押出し成型された
多層フィルムは下記の欠点を有する： − 各種材料の屈折率間の差が小さいことから、干渉効
果を得るためには非常に多くの層が必要である。 − 屈折率の小さな差は非常に狭い帯域のみの高反射性
帯域を生じ、従って光学的機能が制限される。 − 充分な精度を有する均一な層厚さを形成するために
は、高度の製造技術が要求される。 − 光学的要求を変えるための多層フィルムの構築のた
めには高額な手段（押し出し成型ラインの改良）によっ
てのみ成し得る。
【００１１】ガラスまたはプラスティックの光学部品の
反射および（または）透過に作用するための干渉層シス
テムは公知である。これらは中でも、反射防止層、フィ
ルターおよびビーム分配器（divider）の製造に広く採
用されている。干渉光学部品の用途分野は、測定技術お
よびプラント工学における新規コーティング方法の開発
および改良に伴い、最近十年間で格別に増加している。
工学部品では、反射低減層が最も頻繁に使用されてい
る。これらは中でも、眼鏡およびレンズに使用されてい
る。
【００１２】しかしながら、干渉システムもまた、高度
に反射性の層としても使用されている。高い屈折率を有
する材料および低い屈折率を有する材料により交互に被
覆することによって、限定されたスペクトル範囲で１０
０％に近い反射力を有するシステムを形成することがで
きる。形成される層に依存して、およびまた各層が一般
にλ／４またはその整数倍数の光学密度を有することか
ら、このような層システムを使用することによって、例
えば特に狭いスペクトル範囲または特に広いスペクトル
範囲で或る種の光学的性質が得られる。これらのシステ
ムでは、低い方の屈折率を有する材料としてＭｇＦ2ま
たはＳｉＯ2が使用され、高い方の屈折率を有する物資
としてＺｎＳまたはＴｉＯ2が使用されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、透過
光のスペクトル分布に関して、前記要件を完全に満たす
複合材料を見出すことにあった。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明による複合材料に
よって、上記課題が解消された。すなわち、本発明によ
って植物成長に影響を与えるための、農業および園芸で
使用することができる干渉層の特別のシステムを、干渉
光学によって知られた方法により担体に適用することが
できることが見出された。干渉層を有するシステムもし
くは干渉層システム（system of interference layer
s）の用語は、相違する屈折率を有する材料からなる少
なくとも２つの層からなり、屈折率の高い方の層の次
に、屈折率の低い方の層が存在するシステムを意味する
ものと理解されるべきである。
【００１５】これらの層を構成する材料は、下記の要件
を満たすものでなければならない： − 屈折率ができるだけ相違する２種の材料を有するこ
と：２〜２．４の高い屈折率を有する材料、１．４〜
１．６３の低い屈折率を有する材料、 − これらの層の透過範囲は、下記の要件に適合するこ
と：０．４〜１５μｍの範囲での低い吸光度、 − これらの層の機械的および化学的安定性が確保され
ること、 − ガラスおよびプラスティックの基板に対する良好な
接着性、 − 水分を含む温い空気の作用の下における安定性； − 入射光の作用の下における安定性、 − 使用中に基板（フィルム）が機械的応力にさらされ
た場合における安定性。
【００１６】好ましく使用される高い屈折率を有する材
料は、ＺｎＳ、ＴｉＯ1-2、Ｔａ2Ｏ5およびＺｒＯ2であ
り、チタンの低次酸化物（ＴｉＯx、ただしｘは１〜
１．７である）は好適である。低い屈折率を有する材料
は、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2およびケイ素の他の酸化物ならび
にＡｌ2Ｏ3であり、ケイ素の低次酸化物（ＳｉＯ）は好
適である。これらの層の厚さは、２０ｎｍ〜５００ｎｍ
の数値、好ましくは６０ｎｍ〜３００ｎｍの数値に調整
する。
【００１７】多層システムにより達成することができる
最大反射は、層の数ならびに層および担体の屈折率に依
存する：
【数１】 この式において、ｎHは屈折率が高い方の層の屈折率で
あり、ｎLは屈折率が低い方の層の屈折率であり、ｎSは
基板の屈性率であり、そしてｚは層数である。
【００１８】最大反射にかかわる層厚はそれぞれ、光波
長λが約５５０ｎｍである場合に、ｎ・ｄ＝λ／４であ
る。精密光学部品、例えば反射防止層、ビーム分配器ま
たはフィルターを製造する場合には、１００またはそれ
以上の数の層が使用される。このような多数の層は、コ
ーティング基板が大面積を有する場合には（フィルムま
たはガラスシート）、経済的に実現することができな
い。これらの用途における層数は多分、実用的には３〜
１１、好ましくは３〜７である。しかしながら、これら
の層数はまた、被覆材料の意図する用途にも依存する。
マルチ材料として使用する場合には、光合成的に活性な
輻射線の最大で可能な反射が望まれる。従って、より多
い数の層が必要である。
【００１９】温室に使用する場合には、光合成的に活性
な輻射線に対しては透過性があり、温室は加熱しなけれ
ばならないことから、熱輻射線を完全には反射しない被
覆材料が要求される。この場合には、より少ない数の干
渉層が必要である。各層は、金属、例えばチタンまたは
ケイ素、あるいはまた合金、例えばインジウム／スズ合
金、およびまた金属酸化物、例えば酸化チタン、酸化ケ
イ素またはインジウム／スズ酸化物のスパッタリングに
より、または金属または金属酸化物の熱蒸着による、公
知方法によって形成される。ケイ素の低次酸化物（Ｓｉ
Ｏ）およびチタンの低次酸化物（ＴｉＯx、ただしｘは
１〜１．７である）からの反応性蒸発による層の形成が
特に有利である。プラントにおいてフィルム蒸着するに
は、この方法により高蒸着を達成することができる。
【００２０】干渉層システムを支持することができる担
体は、無機材料または有機材料であることができるが、
これらは特定の意図する用途、例えば温室の覆いとして
使用するか、またはマルチフィルムとして使用するかに
関連して、光学的および機械的性質について適合してい
なければならない。透明ガラスは適した無機材料であ
る。適する有機材料としては、透明有機質ポリマー、例
えばポリオレフィン類；コポリマーおよびターポリマー
類、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）および低密
度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）；ビニルエステルコポリマ
ー類、例えばエチレン／酢酸ビニルコポリマー（ＥＶ
Ａ）；フッ素ポリマー類；コポリマーおよびターポリマ
ー類、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
およびポリビニリデンクロライド（ＰＶＤＣ）、ポリビ
ニルクロライド（ＰＶＣ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリ
プロピレン（ＰＰ）、ポリエステル（ＰＥＴ）またはこ
れらのポリマーの混合物である。ポリプロピレン、ポリ
エステルおよび高密度ポリエチレンが好適である。
【００２１】担体は、フィルム状、シート状、プロファ
イル状のものまたは布地であることができる。担体はま
た、一層または数層であることができる。それにはま
た、付加的成分、例えばカオリンまたは雲母などを含有
させて、入射光を散乱させることもできる。長波長赤外
線を遮断しなければならない場合には、ＰＰまたはＨＤ
ＰＥ用の添加剤として、カオリンおよび雲母をまた使用
する。蒸着による干渉層の適用を、以下でさらに詳細に
説明する。蒸着法では、蒸発させる材料を加熱し、減圧
で蒸発させる。この蒸気を冷たい基板表面上で凝縮し
て、所望の薄層を得る。この蒸発は、金属容器（タング
ステンまたはモリブデンのボート状容器あるいはシート
状タンタル）に電流を通すことにより直接加熱すること
によるかまたは電子ビームの射突（bombardment）によ
って行う。
【００２２】精密光学部品のコーティングの形成にもま
た広く使用されている装置のような蒸着装置を、ガラス
またはプラスティックの担体上に干渉層の形成にもまた
使用することができる。このような蒸着装置は、慣用の
部品、例えば真空タンク、真空ポンプ系、圧力測定およ
び制御装置、気化装置、例えば耐圧気化器（ボート状容
器）および電子ビーム気化器、層厚さ測定および制御
系、被覆する基板のホルダー、特定の圧力条件をなすた
めの装置および酸素用の気体導入および制御系からな
る。層の性質（接着性、硬度、密度および安定性）を改
良するために、基板のプラズマによる予備処理のため
の、追加の装置［グロー放電装置（glow device)］、あ
るいはイオン−補助コーティングのための追加の装置
［イオン補助沈着（IonAssisted Deposition）］がしば
しば使用される。
【００２３】上記担体材料は、慣用のベルト式蒸着装置
で被覆する。高減圧蒸着技術は、Vakuum-Beschichtung
［真空コーティング］、１〜５巻；Frey、KienelおよびL
obl編集、VDI出版社、１９９５に詳細に記載されてい
る。スパッター法による層の適用は、下記の方法で行
う：スパッター法または陰極スパッタリング法では、シ
ートの形態（標的）である基板とコーティング材料との
間で、放出気体（プラズマ）を燃焼させる。コーティン
グ材料はこのプラズマからの高エネルギーイオン、例え
ばアルゴンイオンにより射突（bombard）させる。この
方法でコーティング材料は食刻され、次いで霧化され
る。霧化されたコーティング材料の原子または分子は基
板上に沈析し、所望の薄膜を形成する。
【００２４】スパッタリング法には、金属または合金が
特に適している。これらの材料は、比較的高速で、特に
いわゆるＤＣ−マグネトロン法により霧化することがで
きる。酸化物または低次酸化物などの化合物もしくは酸
化物の混合物はまた、高周波スパッタリング法により霧
化することができる。これらの層の化学組成は、コーテ
ィング材料（標的）の組成により決定される。しかしな
がら、プラズマを形成する気体に添加することによっ
て、影響され得る。特に、酸化物または亜硝酸塩層は、
気体空間に酸素または窒素を添加することによって生成
させることができる。これらの層の構造には、適当な手
段、例えばプラズマからのイオンによる成長する層の射
突により影響され得る。このスパッタリング法は、個々
の成分とフィルムないしシート状基板に採用される。
【００２５】このスパッタリング法はまた、Vakuum-Bes
chichtung［真空コーティング］、１〜５巻；Frey、 Kie
nelおよびLobl編集、VDI出版社、1995に記載されてい
る。温室フィルムとして使用する場合には、本発明の干
渉層は下記の要件に適合していなければならない：北
部、中部ヨーロッパ諸国などの寒冷で、太陽光の弱い所
での使用には、以下の性質を持つ層システムが要求され
る。 − 約４００〜７００ｎｍ（ＰＡＲスペクトル）の可視
部スペクトル範囲における高い透過性、 − ７００〜１２００ｎｍの近赤外部（ＮＩＲ）におけ
る高い透過性、および − ５〜１５μｍの赤外部（ＩＲ）における高い反射
性。
【００２６】入射太陽光は、このような層システムによ
り植物成長（ＰＡＲスペクトル）、および温室の加熱
（ＮＩＲ輻射線）を最適にし、利用することができる。
輻射による熱の損失、特に夜間の熱の損失は、このコー
テングのＩＲ部分の反射により防止される。さらに強い
太陽光照射の下では、例えば夏期または南ヨーロッパ地
域におけるさらに強い太陽光照射の下では、本発明の干
渉層の下記の性質によって、温室内部の過度の加熱を防
止することができる： − ＶＩＳのＰＡＲスペクトルにおける高い透過性、 − ＮＩＲにおける高い反射性、および − ＩＲににおける低い反射性。
【００２７】結果として、光合成に必要な光が温室およ
び植物に到達する。ＮＩＲにある太陽の熱輻射線は反射
される；温室の過熱は赤外部輻射線の反射により防止さ
れる。マルチフイルム用の干渉層には下記の要件が課せ
られる： − ＶＩＳのＰＡＲスペクトルにおける高い反射性、 − ＮＩＲにおける高い透過性、 − ＩＲにおける高い反射性。 ＰＡＲスペクトルの高い反射性は、光合成に必要な光に
よる収穫植物の強力な輻射を生じさせる。同時に、この
フィルムの下の種子の成長は防止される。ＮＩＲにおけ
る高い透過性は、このマルチフィルムの下の地面の急速
な加熱を生じさせる。ＩＲにおける高い反射性は、地面
からの長波長熱線輻射の照射を防止し、従って夜間にお
ける地面の冷却が防止される。
【００２８】植物の形態形成に影響を及ぼすための干渉
層を有するシステムに対しては、下記の要件が課せられ
る： − ＰＡＲ（４００〜７００ｎｍ）における高い透過
性、 − ＮＩＲ（７００〜１３００ｎｍ）における高い反射
性、 − 青色光線（４００〜５００ｎｍ）における高い透過
性、および − 赤色光線（６００〜７００ｎｍ）における高い反射
性。 層の透過性または反射性を適合させることによって、或
る所望の成長体を促進させる光の部分を、収穫植物に好
ましいように導くことができる。本発明による複合材料
は、フィルム状、シート状、プロファイル状または布地
の形態で、種々の方法により農業および園芸で使用する
ことができる。本発明による複合材料を用いることによ
って、開花時期、収穫時期および果実の品質および量に
関して、花および野菜の成長に直接的に作用することが
できる。
【００２９】
【実施例】下記の例は、本発明を説明するものであっ
て、本発明を制限するものではない。 例１ この例の温室フィルムとして特に適する複合材料として
は、担体としてのフィルム上に、二酸化ケイ素の層と二
酸化チタンの層とを交互に６層有する。このフィルム
は、ポリプロピレンホモポリマーから形成されており、
０．６重量％のＨＡＬＳ［ホスタビン（Ｈｏｓｔａｖｉ
ｎ Ｎ ３０）］により安定化されている。このフィル
ムは４０〜５０μｍの厚さを有する。干渉層を有するシ
ステムは、下記のように構成される：
【００３０】
【表１】 この担体の屈折率は、１．５である。このフィルムの透
過性を、波長の関数として図１に示す。
【００３１】透過性測定値を示す表：
【表２】
【００３２】
【表３】
【００３３】フィルムの透過性は、市販の分光光度計を
用いて測定する。比較媒体は空気である。この温室用フ
ィルムは、４００〜７００ｎｍの範囲の可視部領域にお
いて高い透過性と低い反射性とを有し、かつまた７００
〜１３００ｎｍの範囲の近赤外部領域において低い透過
性と高い反射性とを有する。この干渉層を有するシステ
ムは、下記の方法によりフィルム上に形成させることが
できる：被覆しようとするフィルムを、蒸着装置内の基
板保持装置に取り付け、さらにこの蒸着層の光学的測定
のためにガラス基板に付着させる。蒸着材料、例えば酸
化チタンＳおよび二酸化ケイ素を、電子ビーム蒸発装置
の蒸発ルツボ中に導入する。
【００３４】この装置を次いで閉鎖し、約２×１０-5ミ
リバールの圧力に到達するまで脱気させる。その後に、
このフィルムをグロー放電にさらして、層の接着性を改
良する。この処理は、光学用途のレンズの被覆に慣用で
ある。このフィルムを次いで、約８０℃の温度にまで加
熱する。この処理もまた、層の品質にとって有利であ
る。次いで、この装置内を約２×１０-4ミリバールの酸
素圧（圧力調整または流量調整）とする。第一層は酸化
チタンから形成させる。このためには、酸化チタンをダ
イヤフラムの下の蒸発装置内で、その蒸発温度にまでゆ
っくりと加熱する。このダイヤフラムを次いで、開き、
予め定められている層成長速度、例えば０．２〜０．４
ｎｍ／秒で、所望の層厚さが得られるまで、蒸発を行
う。層厚さが達成された後に、気化器供給源をダイヤフ
ラムで覆い、次いで気化器電源のスイッチを切ることに
よって蒸発を止める。
【００３５】第二層は、酸化ケイ素から形成する。この
ためには、酸化ケイ素をダイヤフラムの下の蒸発装置内
で、その蒸発温度にまで同様にゆっくりと加熱する。こ
のダイヤフラムを次いで、開き、予め定められている層
成長速度、例えば０．２〜０９．４ｎｍ／秒で、所望の
層厚さが得られるまで蒸発を行う。層厚さが達成された
後に、気化供給源をダイヤフラムにより覆い、次いで気
化器電源のスイッチを切ることによって蒸発を止める。
その他の層も、同様に形成させる。最後の層が完成され
た時点で、気体供給および基板加熱のスイッチを切る。
装置を室温まで冷却させた後に、空気を導入し、被覆さ
れたフィルムを取出すことができる。コーティングは、
高減圧蒸着装置で行う。例えば、Leybold AGからの蒸着
装置Ａ７００Ｑが適当である。
【００３６】例２ この例のマルチフィルムとして特に適する複合材料は、
例１に記載のフィルム上に、二酸化チタン層と二酸化ケ
イ素層とを交互に５層有する。干渉層を有するシステム
は、下記のように構成される：
【表４】 この担体の屈折率は、１．５２である。このフィルムの
反射性を波長の関数として図２に示す。
【００３７】このマルチフィルムは、４００〜７００ｎ
ｍの範囲の可視部領域において高い反射性と低い透過性
とを有し、かつまた７００〜１３００ｎｍの範囲の近赤
外部領域における低い反射性と高い透過性とを有する。
これにより、地面における可視部光線の入射が防止さ
れ、従って種子の成長が防止される。同時に、このマル
チフィルムの下の地面は、透過する熱線輻射により加熱
される。このフィルムにより反射される可視部光線が、
植物によって使用することができる。この複合材料は、
例１に従って製造する。
【００３８】例３ この例の植物形態形成に影響を及ぼすのに特に適する複
合材料は、例１にさらに詳細に記載されているフィルム
上に、二酸化チタンの層と二酸化ケイ素の層とを交互に
５層有する。この干渉層システムは、下記のように構成
される：
【表５】 この担体の屈折率は、１．５２である。このフィルムの
透過性を波長の関数として図３に示す。
【００３９】この植物形態形成に作用するフィルムは、
ＰＡＲ（４００〜７００ｎｍ）において高い透過性を有
し、ＮＩＲ（７００〜１３００ｎｍ）において低い透過
性を有し、青色光線（４００〜５００ｎｍ）において高
い透過性を有し、かつまた赤色光線（６００〜７００ｎ
ｍ）において低い透過性を有する。この複合材料は、例
１に従って製造する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 例１のフィルムの透過性を波長の関数として
示すグラフ。
【図２】 例２のフィルムの反射性を波長の関数として
示すグラフ。
【図３】 例３のフィルムの透過性を波長の関数として
示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 9/00 Ｂ３２Ｂ 9/00 Ａ 17/06 17/06 27/32 27/32 Ｚ (71)出願人 591032596 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． 250, Ｄ−64293 Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄ ｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅ ｒｍａｎｙ (71)出願人 596132547 ハイプラスト エヌ．ブイ. ベルギー王国2320 ホークストラーテン ザンクト レナールトゥゼヴェーク26 (72)発明者 マルティン・フリッツ ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 ペーター・ラインデルス ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 トニー−レオン−フィリップ・ダポンテ ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 パトリック−コルンエール−マチルデ・フ ェルシャエレン ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 透明担体およびこの担体上に透明な干渉
    層システムを有する輻射線遮蔽用複合材料。
  2. 【請求項２】 担体が無機材料または有機材料であるこ
    とを特徴とする、請求項１に記載の複合材料。
  3. 【請求項３】 無機材料がガラスであることを特徴とす
    る、請求項１および２のいずれか１項に記載の複合材
    料。
  4. 【請求項４】 有機材料が有機ポリマーであることを特
    徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合材
    料。
  5. 【請求項５】 有機材料がポリプロピレン、ポリエステ
    ルまたは高密度ポリエチレンであることを特徴とする、
    請求項１〜４のいずれか１項に記載の複合材料。
  6. 【請求項６】 干渉層を有するシステムが相違する屈折
    率を有する材料からなる少なくとも２つの層を有し、屈
    折率が高い方の層の次に屈折率が低い方の層が存在する
    システムであることを特徴とする、請求項１〜５のいず
    れか１項に記載の複合材料。
  7. 【請求項７】 屈折率が高い方の材料が、ＺｎＳ、Ｔａ
    2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2またはチタンの低次酸化物（Ｔ
    ｉＯx、ただしｘは１〜１．７である）であることを特
    徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の複合材
    料。
  8. 【請求項８】 屈折率が低い方の材料が、ＭｇＦ2、Ａ
    ｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2またはケイ素の低次酸化物であること
    を特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の複
    合材料。
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