JP2015052430A - クリーンルーム内に設置された高清浄度低露点設備における製造部品の搬入方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記ストッカー空間及び中間ブースは、空間内が仕切られることによりリターンチャンバが形成されるとともに、このリターンチャンバにファン・フィルタ・ユニットが設置され、前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が前記リターンチャンバを通じてファン・フィルタ・ユニットに導入され、フィルタを経て同空間内に循環換気されることによって高清浄度化され、かつ低露点空気製造装置で製造された低露点空気が前記リターンチャンバに供給され空間内に供給されることにより前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が低露点化され、
前記中間ブースにおいて、中間ブース空間とリターンチャンバとを仕切る仕切り部に、ファン・フィルタ・ユニットのファン稼動時はリターンチャンバ内が減圧されることにより開口して空気の循環を許容し、ファン停止時は前記開口を封鎖することにより空気の循環を阻止する空気流通制御手段を配設したことを特徴とする高清浄度低露点空間設備が提供される。
(1)前記中間ブースのファン・フィルタ・ユニットのファンを停止する第1手順と、
(2)前記クリーンルームと中間ブースとの間の仕切り扉を開けて、製造部品を中間ブース内に搬入した後、前記仕切り扉を閉じる第2手順と、
(3)前記低露点空気製造装置から低露点空気の供給を継続し、中間ブース内の露点が供給される低露点空気の露点と同等となった時点または前記中間ブース内の露点と前記ストッカー空間の露点とが等しくなった時点で、ファン・フィルタ・ユニットのファンを再稼動する第3手順と、
(4)前記中間ブースとストッカー空間との間の仕切り扉を開けて、製造部品をストッカー空間に搬入する第4手順と、
からなることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の高清浄度低露点空間設備における製造部品の搬入方法が提供される。
<中間ブース3及びストッカー空間2の圧力管理>
本発明におけるシステムの運転に際しては、中間ブース3、リターンチャンバー11、及び隣接するストッカー空間2、クリーンルーム1の差圧管理に配慮する必要がある。
図1に示されるように、前記中間ブース3において、FFU12が稼動するとともに、前記低露点空気製造装置25から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態とされ、かつストッカー空間2においても、FFU8,9が稼動するとともに、前記低露点空気製造装置25から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態で、前記クリーンルーム1から製造部品22をストッカー空間3を経てストッカー空間2に搬入する手順は以下の要領によって行われる。
(1)先ず、仕切り扉4を開く前に、電動ダンパー17,18を調整し、低露点空気製造装置25からの低露点空気の増量を図るとともに、前記中間ブース3のFFU12のファンを停止する(第1手順)。
(2)前記クリーンルーム1と中間ブース3との間の仕切り扉4を開けて、製造部品22を中間ブース3内に搬入した後、前記仕切り扉4を閉じる(第2手順)。
(3)前記低露点空気製造装置25から低露点空気の供給を継続し、中間ブース3内の露点が供給される低露点空気の露点と同等となった時点または前記中間ブース3内の露点と前記ストッカー空間2の露点とが等しくなった時点で、FFU12のファンを再稼動する(第3手順)。
(4)前記中間ブース3とストッカー空間2との間の仕切り扉5を開けて、製造部品22をストッカー空間に搬入する(第4手順)。
<清浄度と露点の推移>
前記逆流防止開閉板13(空気流通制御手段)を設けずに、製造部品22が中間ブース3に搬入された際にもFFU12のファンの運転を継続して行うようにした従来の方法と、本発明とによる中間ブース3の清浄度と露点の推移は図4のようになる。
(1)上記形態例では、上記第1手順において、電動ダンパー17,18を調整し、低露点空気製造装置25からの低露点空気の増量を図るとともに、前記中間ブース3のFFU12のファンを停止するようにしたが、電動ダンパー17,18は無操作とし、低露点空気の供給量は変えずに、FFU12のファンを停止するようにしてもよい。
(2)上記形態例では、前記逆流防止開閉板13(空気流通制御手段)は、天井側の垂直仕切り壁部に設けるようにしたが、図7及び図8に示されるように、水平天井水平面に逆流防止開閉板13や差圧ダンパ23等を設けることも可能である。前記逆流防止開閉板13は、FFU12の稼働時に容易に開くように、軽量で動作が敏感なものが望ましい。そのため、図9に示されるように、小型の逆流防止開閉板13や差圧ダンパ23等を複数を配設するのが望ましい。
前記ストッカー空間及び中間ブースは、空間内が仕切られることによりリターンチャンバが形成されるとともに、このリターンチャンバにファン・フィルタ・ユニットが設置され、前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が前記リターンチャンバを通じてファン・フィルタ・ユニットに導入され、フィルタを経て同空間内に循環換気されることによって高清浄度化され、かつ低露点空気製造装置で製造された低露点空気が前記リターンチャンバに供給され空間内に供給されることにより前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が低露点化され、
前記中間ブースにおいて、中間ブース空間とリターンチャンバとを仕切る仕切り部に、ファン・フィルタ・ユニットのファン稼動時はリターンチャンバ内が減圧されることにより開口して空気の循環を許容し、ファン停止時は前記開口を封鎖することにより空気の循環を阻止する空気流通制御手段を配設し、
前記中間ブース及びストッカー空間において、ファン・フィルタ・ユニットが稼動するとともに、前記低露点空気製造装置から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態で、前記クリーンルームから製造部品をストッカー空間に搬入するに当たり、
(1)前記中間ブースのファン・フィルタ・ユニットのファンを停止する第1手順と、
(2)前記クリーンルームと中間ブースとの間の仕切り扉を開けて、製造部品を中間ブース内に搬入した後、前記仕切り扉を閉じる第2手順と、
(3)前記低露点空気製造装置から低露点空気の供給を継続し、中間ブース内の露点が供給される低露点空気の露点と同等となった時点または前記中間ブース内の露点と前記ストッカー空間の露点とが等しくなった時点で、ファン・フィルタ・ユニットのファンを再稼動する第3手順と、
(4)前記中間ブースとストッカー空間との間の仕切り扉を開けて、製造部品をストッカー空間に搬入する第4手順と、
からなることを特徴とする高清浄度低露点空間設備における製造部品の搬入方法が提供される。
<中間ブース3及びストッカー空間2の圧力管理>
本発明におけるシステムの運転に際しては、中間ブース3、リターンチャンバー11、及び隣接するストッカー空間2、クリーンルーム1の差圧管理に配慮する必要がある。
図1に示されるように、前記中間ブース3において、FFU12が稼動するとともに、前記低露点空気製造装置25から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態とされ、かつストッカー空間2においても、FFU8,9が稼動するとともに、前記低露点空気製造装置25から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態で、前記クリーンルーム1から製造部品22をストッカー空間3を経てストッカー空間2に搬入する手順は以下の要領によって行われる。
(1)先ず、仕切り扉4を開く前に、電動ダンパー17,18を調整し、低露点空気製造装置25からの低露点空気の増量を図るとともに、前記中間ブース3のFFU12のファンを停止する(第1手順)。
(2)前記クリーンルーム1と中間ブース3との間の仕切り扉4を開けて、製造部品22を中間ブース3内に搬入した後、前記仕切り扉4を閉じる(第2手順)。
(3)前記低露点空気製造装置25から低露点空気の供給を継続し、中間ブース3内の露点が供給される低露点空気の露点と同等となった時点または前記中間ブース3内の露点と前記ストッカー空間2の露点とが等しくなった時点で、FFU12のファンを再稼動する(第3手順)。
(4)前記中間ブース3とストッカー空間2との間の仕切り扉5を開けて、製造部品22をストッカー空間に搬入する(第4手順)。
<清浄度と露点の推移>
前記逆流防止開閉板13(空気流通制御手段)を設けずに、製造部品22が中間ブース3に搬入された際にもFFU12のファンの運転を継続して行うようにした従来の方法と、本発明とによる中間ブース3の清浄度と露点の推移は図4のようになる。
(1)上記形態例では、上記第1手順において、電動ダンパー17,18を調整し、低露点空気製造装置25からの低露点空気の増量を図るとともに、前記中間ブース3のFFU12のファンを停止するようにしたが、電動ダンパー17,18は無操作とし、低露点空気の供給量は変えずに、FFU12のファンを停止するようにしてもよい。
(2)上記形態例では、前記逆流防止開閉板13(空気流通制御手段)は、天井側の垂直仕切り壁部に設けるようにしたが、図7及び図8に示されるように、水平天井水平面に逆流防止開閉板13や差圧ダンパ23等を設けることも可能である。前記逆流防止開閉板13は、FFU12の稼働時に容易に開くように、軽量で動作が敏感なものが望ましい。そのため、図9に示されるように、小型の逆流防止開閉板13や差圧ダンパ23等を複数を配設するのが望ましい。
Claims (6)
- クリーンルーム内に、製造部品を一時的にストックするための空間として高清浄度低露点環境のストッカー空間が設置されるとともに、前記クリーンルームと前記ストッカー空間との間に介在し、それぞれの空間に対して仕切り扉によって出入り可能とされた高清浄度低露点環境の中間ブースが設置された高清浄度低露点空間設備において、
前記ストッカー空間及び中間ブースは、空間内が仕切られることによりリターンチャンバが形成されるとともに、このリターンチャンバにファン・フィルタ・ユニットが設置され、前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が前記リターンチャンバを通じてファン・フィルタ・ユニットに導入され、フィルタを経て同空間内に循環換気されることによって高清浄度化され、かつ低露点空気製造装置で製造された低露点空気が前記リターンチャンバに供給され空間内に供給されることにより前記ストッカー空間及び中間ブース内の空気が低露点化され、
前記中間ブースにおいて、中間ブース空間とリターンチャンバとを仕切る仕切り部に、ファン・フィルタ・ユニットのファン稼動時はリターンチャンバ内が減圧されることにより開口して空気の循環を許容し、ファン停止時は前記開口を封鎖することにより空気の循環を阻止する空気流通制御手段を配設したことを特徴とする高清浄度低露点空間設備。 - 前記空気流通制御手段は、ヒンジによって支持されリターンチャンバ側にのみ揺動可能とした逆流防止開閉板、差圧を検知して自動的にリターンチャンバ側にのみ開く差圧ダンパ、リターンチャンバ側にのみ開く逆流防止ダンパのいずれかである請求項1記載の高清浄度低露点空間設備。
- 前記中間ブース空間に排気口を設置するとともに、前記低露点空気製造装置からリターンチャンバまでの供給路の中間、及び前記排気口からの排気路の中間にぞれぞれ低露点空気の供給量を調整するための電動式ダンパーを配設してある請求項1,2いずれかに記載の高清浄度低露点空間設備。
- 露点計測のために、前記低露点空気製造装置からリターンチャンバまでの供給路及び前記中間ブース内、或いは前記中間ブース内及び前記ストッカー空間内にそれぞれ露点計測器を配置してある請求項1〜3いずれかに記載の高清浄度低露点空間設備。
- 前記中間ブース及びストッカー空間において、ファン・フィルタ・ユニットが稼動するとともに、前記低露点空気製造装置から低露点空気が供給され、空間内が高清浄度低露点環境に維持された状態で、前記クリーンルームから製造部品をストッカー空間に搬入するに当たり、
(1)前記中間ブースのファン・フィルタ・ユニットのファンを停止する第1手順と、
(2)前記クリーンルームと中間ブースとの間の仕切り扉を開けて、製造部品を中間ブース内に搬入した後、前記仕切り扉を閉じる第2手順と、
(3)前記低露点空気製造装置から低露点空気の供給を継続し、中間ブース内の露点が供給される低露点空気の露点と同等となった時点または前記中間ブース内の露点と前記ストッカー空間の露点とが等しくなった時点で、ファン・フィルタ・ユニットのファンを再稼動する第3手順と、
(4)前記中間ブースとストッカー空間との間の仕切り扉を開けて、製造部品をストッカー空間に搬入する第4手順と、
からなることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の高清浄度低露点空間設備における製造部品の搬入方法。 - 前記第1手順において、ファン・フィルタ・ユニットのファンを停止するとともに、前記低露点空気製造装置からの低露点空気の増量を図る請求項5記載の高清浄度低露点空間設備における製造部品の搬入方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6164313A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-02 | Toyo Netsu Kogyo Kk | フアンフイルタ−ユニツト |
JP2005030628A (ja) * | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリーンルーム |
JP2006125812A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | クリーンルーム設備及びクリーンルームの室圧制御方法 |
JP2009186127A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 清浄空気循環システム、及び清浄空気循環方法 |
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- 2013-09-09 JP JP2013185854A patent/JP5712258B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6164313A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-02 | Toyo Netsu Kogyo Kk | フアンフイルタ−ユニツト |
JP2005030628A (ja) * | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリーンルーム |
JP2006125812A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | クリーンルーム設備及びクリーンルームの室圧制御方法 |
JP2009186127A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 清浄空気循環システム、及び清浄空気循環方法 |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2019156694A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 信越半導体株式会社 | シリコン多結晶充填作業用のクリーンブース |
WO2019176424A1 (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 信越半導体株式会社 | シリコン多結晶充填作業用のクリーンブース |
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