JP2005030628A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005030628A JP2005030628A JP2003193684A JP2003193684A JP2005030628A JP 2005030628 A JP2005030628 A JP 2005030628A JP 2003193684 A JP2003193684 A JP 2003193684A JP 2003193684 A JP2003193684 A JP 2003193684A JP 2005030628 A JP2005030628 A JP 2005030628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- room
- booth
- entrance
- exit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
【課題】室内にCMPなどの金属取扱装置が設けられたクリーンルームにおいて、室内における金属微粒子による金属汚染を効果的に防止できるクリーンルームを提供する。
【解決手段】クリーンルーム10において、CMP装置24aは室内16をパーテーション22で区分けした専用のエア循環手段を有するブース26に設けられ、ブース26には専用のエア循環手段を有する出入ブース28が設けられる。また、クリーンルーム入口18とは別に専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口20が設けられる。これらにより、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。また、クリーンルーム出口20及び出入ブース28に備えられた金属微粒子除去手段により、作業者に付着した金属微粒子は除去される。
【選択図】 図1
【解決手段】クリーンルーム10において、CMP装置24aは室内16をパーテーション22で区分けした専用のエア循環手段を有するブース26に設けられ、ブース26には専用のエア循環手段を有する出入ブース28が設けられる。また、クリーンルーム入口18とは別に専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口20が設けられる。これらにより、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。また、クリーンルーム出口20及び出入ブース28に備えられた金属微粒子除去手段により、作業者に付着した金属微粒子は除去される。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はクリーンルームに係り、特に室内にCMP(化学機械研磨)などの金属取扱装置が設けられたクリーンルームに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、半導体製造ラインのウェハ処理工程では、(1)ウェハ表面へのフォトレジスト(感光剤)塗布、(2)フォトマスクを用いた露光、(3)現像及びエッチング、(4)酸化・拡散・CVD・イオン注入などによるウェハ表面の不純物拡散、(5)CMPによるウェハ表面の平坦化、を行うことにより、ウェハ表面にチップ領域が形成される。半導体の複雑な回路を形成するには(1)〜(5)の作業を繰り返し行う必要があるとともに、(1)〜(5)は特に塵埃により影響し易い作業であるため、(1)〜(5)の作業を行う各装置は同一のクリーンルーム内に設けられるのが一般的である。
【0003】
クリーンルームでは、外部から塵埃が進入しないように配慮することはもとより、室内で従事する作業者の人体からの発塵も防止する手段が講じられている。即ち、作業者は更衣室にて無塵衣及び除塵靴に着替え、エアシャワーを備えたクリーンルーム入口を通過して付着した塵埃を除去してから室内へ入室する、という手段が従来において用いられている。
【0004】
また、クリーンルームのエア清浄度を向上させるために、室外からエア清浄フィルタを通して清浄したエアを室内へ供給し、室内の床面、床下、又は壁面下部の何れかから汚染されたエアを集塵ダクトなどを用いて排気することにより、クリーンルーム内のエア清浄度を上げる方法が採用されている。
【0005】
特に、特許文献1で開示されているクリーンルームでは、床面と製造機器などを支持するスラブとの間の空間に設けられた機器や配管などの空間と区分けするための、上面に多数の孔を有するリターンダクトが設けられている。これにより、ダウンフローされて室内に供給されたエアは、スラブの上面に設けられたアッセンブルフロアとスラブとの隙間を介してリターンダクトへ排気される。そのため、排気されたエアが床面に設けられた機器や配管などに接触せずに循環するので、機器や配管などからの塵埃混入を防止し、クリーンルームのエア清浄度を向上させることができる。
【0006】
【特許文献1】
特開平5−146688号広報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、(5)のCMP作業により金属微粒子や高濃度の金属微粒子を含む廃液が発生し、メンテナンスなどで作業者がCMP装置の内部に触れたりすると、この金属微粒子が室内の床、装置、及び部材に付着して、作業者の無塵衣や無塵靴の裏や側面に付着する可能性がある。それに、無塵衣及び無塵靴に付着した作業者が室内を移動すると、室内全体に金属微粒子が飛散して室内のエアが金属汚染される。この金属汚染により、(1)〜(5)の作業でウェハ表面に金属微粒子が付着して、ウェハ表面のゲート酸化膜の劣化及び寿命低下などの製品の品質的な問題が発生する。加えて、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子が更衣室まで持ち込まれてしまうと、更衣室全体や他の無塵衣及び無塵靴を金属汚染する可能性がある。クリーンルーム入口にはエアシャワーが設けられているが、エアシャワーのみでは金属微粒子を除去しきれない。
【0008】
従来のクリーンルームでは、金属汚染された室内のエアを清浄化することは極めて困難である。また、特許文献1のクリーンルームにおいても、スラブの下に設けられた装置や配線からの汚染は防止することはできるが、飛散した金属微粒子を除去したり、室内の金属汚染を防止したりすることは極めて難しい。
【0009】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、室内にCMPなどの金属取扱装置が設置されたクリーンルームにおいて、室内における金属微粒子による金属汚染を効果的に防止できるクリーンルームを提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1は前記目的を達成するために、エア循環手段によって室内のエアが循環されて清浄雰囲気に保持されるクリーンルームにおいて、前記室内に設置された金属取扱装置は、ブースに格納されるとともに、該ブースにはブース専用エア循環手段が設けられ、前記ブースには、前記室内と連通した出入ブースが設けられるとともに、該出入ブースには、出入ブース専用エア循環手段が設けられたことを特徴とする。
【0011】
本発明の請求項1によれば、クリーンルームの室内に設けられたCMPなどの金属微粒子を発生する金属取扱装置は、専用のエア循環手段が備えられたブースに設けられる。これにより、金属取扱装置から飛散した金属微粒子が直接拡散することを抑えることができる上、たとえブース内が金属汚染されても室内がエア循環によって金属汚染されるのを防止することができる。
【0012】
各ブースには、作業者が内部へ出入りするための出入ブースが設けられており、出入ブースには専用のエア循環手段が備えられている。これにより、作業者がブースに出入する際には必ず出入ブースを通過するので金属微粒子による金属汚染を抑えることができる上、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。
【0013】
本発明の請求項2は、請求項1の出入ブースには、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段が備えられたことを特徴とする。
【0014】
ブース内の作業で作業者の無塵衣及び無塵靴に金属微粒子が付着すると、作業者が出入ブースを通過するだけでは除去しきれない可能性がある。そこで、出入ブースに金属微粒子除去手段を設けることにより、作業者は出入ブースの中で金属微粒子除去手段を使用して無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去することができるので、作業者による室内への金属微粒子の持ち込みがなくなり、室内における金属汚染の拡大を効果的に防止することができる。
【0015】
本発明の請求項3は、請求項1又は2の前記クリーンルームにおいて、無塵衣及び無塵靴の着脱を行う更衣室との間に、前記室内へ入るためのクリーンルーム入口とは別の、出口専用のクリーンルーム出口が設けられ、前記クリーンルーム出口には、クリーンルーム出口専用循環手段と、前記作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段と、が備えられたことを特徴とする。
【0016】
請求項3によれば、ブース及び出入ブースで作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子が除去できなかった場合には、退室時にそのまま更衣室へ入室できるため、更衣室や更衣室内にある他の無塵衣及び無塵靴を金属汚染する可能性がある。そこで、更衣室とクリーンルームとの間に、クリーンルーム入口とは別に、専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口を設けることにより、金属微粒子による金属汚染を抑えることができる上、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。
【0017】
また、クリーンルーム出口に金属微粒子除去手段が設けられることにより、退室する際に作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子をクリーンルーム出口で除去できるので、更衣室を介した室内の金属汚染の拡大を効果的に防止することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下添付図面に従って、本発明に係るクリーンルームの好ましい実施の形態について詳説する。
【0019】
図1は本発明の実施の形態である半導体製造ラインが設けられたクリーンルーム10を上方から見た概略構成図である。
【0020】
図1に示すように、クリーンルーム10は主に玄関12、更衣室14、室内16、クリーンルーム入口18、クリーンルーム出口20で構成される。各出入口には開閉式のドア11,11…が設けられ、作業者はドア11,11…を介して入退室する。なお、ドア11としては、密閉性が高いものであればスライド式でもよい。
【0021】
作業者がクリーンルーム10へ入室するには、まず玄関12に入って靴を脱いで更衣室14へ入室する。更衣室14で作業者は用意された無塵衣及び無塵靴に着替えて、必要であれば消毒を行う。着替えと消毒が終わったら、クリーンルーム入口18へ入室する。クリーンルーム入口18には、図示しないエアシャワー及びチャンバが設けられ、作業者はクリーンルーム入口18内に一定時間留まる。すると、エアシャワーから清浄エアが吹き付けられて作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した塵埃が除去される。一定時間経過後、作業者は室内16へ入室する。
【0022】
室内16には半導体の様々な工程を行うための各装置24,24…が多数設置されており、作業者は従事する作業に従って室内16内を移動する。各装置24,24…としては、作業中にCu又はFeなどの金属微粒子を発生する装置であるCMP装置24a,24a…が含まれる。これらCMP装置24a,24a…は、他の各装置24,24…とは別に、パーテーション22により区分けされた各ブース26,26…内に設けられる。また、各ブース26,26…には作業者が出入りするための各出入ブース28,28…がパーテーション22により室内16及びブース26と区分けされて設けられている。
【0023】
図2は、本発明の実施の形態であるクリーンルーム10の側面から見た概略構成図である。なお、白色矢印はエアの流れる方向を示しており、本発明に関連しないものは省略した。
【0024】
図2に示すように、ダウンフロー式のクリーンルーム10には、パーテーション22、天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、ダクト40、空調器44を配置することにより、クリーンルーム10にエア循環手段が形成される。クリーンルーム10は密閉性の高いパーテーション22によって外部と室内16とが区切られている。室内16の上部を形成する天井部32には多数のファンフィルタユニット38が設けられる。ファンフィルタユニット38では、天井部32のエアを吸引して付属するHEPAなどの高機能フィルタを通過させることにより、除塵された清浄エアが室内16へダウンフローされる。室内16内へダウンフローされたエアは、室内16の床部に設けられた多数の孔を有するチャンバ36を通過して床下部34へ流入する。床下部34に流入したエアは、送風ファン39,39により室内16の両脇に設けられたダクト40を通過して天井部32へ返送されて循環する。また、クリーンルーム10には空調器44が設けられており、クリーンルーム10のエアを換気するとともにクリーンルーム10内のエアの湿度及び温度が調整される。
【0025】
室内16に点在する各CMP装置24a,24a…は、室内16内をパーテーション22により区切られた各ブース26,26…内に設けられる。ブース26に、室内16とは別の天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、及びダクト40を配置することにより、ブース26にブース専用エア循環手段が備えられる。
【0026】
また、各ブース26,26…には、パーテーション22によって仕切られた、室内16と連通するための各出入ブース28,28…が設けられる。出入ブース28に、室内16及びブース26とは別に、天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、エア配管46、及びエアポンプ48を配置することにより、出入ブース28に出入ブース専用エア循環手段が備えられる。
【0027】
作業者が更衣室14から室内16に入室するためのクリーンルーム入口18には室内16のダウンフローが用いられる。したがって、クリーンルーム入口18は、天面にはチャンバが設置されるとともに、床は室内16のチャンバ36と共用することにより構成される。そして、両脇に設けられたエアシャワー装置50により、洗浄エアが作業者に一定時間吹き付けられる構造となっている。
【0028】
一方、作業者が室内16から更衣室14へ退室するためのクリーンルーム出口20がパーテーション22で周囲が仕切られた状態で設けられる。クリーンルーム出口20に、室内16とは別の天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、エア配管46、及びエアポンプ48を配置することにより、クリーンルーム出口20にクリーンルーム出口専用エア循環手段が備えられる。
【0029】
図3は、本発明の実施の形態であるクリーンルーム10におけるクリーンルーム出口20及び出入ブース28の概略構成図である。
【0030】
図3に示すように、パーテーション22で箱型を形成したクリーンルーム出口20及び出入ブース28は、上部をパーテーション22で仕切ることによって天井部32が形成されるとともに、下部に専用チャンバ52が設置されることによって床下部34が形成される。天井部32と床下部34とはエアポンプ48を備えたエア配管46が設置される。天井部32に設置されたファンフィルタユニット38からダウンフローされた清浄エアがエアポンプ48により専用チャンバ52から吸引されて、エア配管46を介して床下部34から天井部32へとエアが返送されることにより、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…における専用のエア循環経路が形成されて、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…内部における清浄雰囲気が保持される。
【0031】
専用チャンバ52は、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…の床面や側面の一部を形成するように設けられ、エアポンプ48の吸引力により、表面に設けられた多数の孔から作業者の無塵靴裏面や側面に付着した金属微粒子が吸引されて除去される。また、専用チャンバ52には吸引機54が備えられる。吸引機54は吸引ノズル56、吸引ホース58、吸引ポンプ60、吸引エア配管62で構成される。クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…に入室した作業者が装着する無塵衣及び無塵靴に吸引ノズル56を当てると、付着した金属微粒子が吸引ポンプ60の吸引力により吸い取られて吸引ホース58及び吸引エア配管62を介して天井部32へ返送される。なお、吸引ホース58には伸縮自在の軟性のチューブホースを使用し、吸引ポンプ60としてはエアポンプ48よりも強い吸引力のあるものを使用することが好ましい。
【0032】
次に、上記の如く構成されたクリーンルーム10におけるクリーンルームの作用について説明する。
【0033】
室内16にCMP24aなどの金属微粒子を発生させる金属取扱装置が設けられる場合には、金属取扱装置のメンテナンスや不具合などにより作業者の無塵衣及び無塵靴、床などに金属微粒子が付着して、室内が金属汚染される可能性がある。
【0034】
そこで、金属取扱装置を室内16とパーテーション22で区分けされた各ブース26,26…に設けて、室内16とは別にファンフィルタユニット38、チャンバ36、ダクト40などを設けて専用のエア循環手段を形成することにより、各ブース26,26…のエアはブース26,26…内でのみ循環するため、金属取扱装置から発生した金属微粒子がエアの循環を介して室内16全体へ拡散することを効果的に防止することができる。
【0035】
また、各ブース26,26…に作業者が出入りするための出入ブース28,28…を形成して、出入ブース28専用のファンフィルタユニット38、専用チャンバ52、エア配管46などを設けて独立したエア循環手段を形成することにより、作業者は必ず出入ブース28を介して室内16とブース26の間を移動するので、たとえ出入ブース28で付着した金属微粒子の除去が行われても出入ブース28内のエアはブース26内でのみ循環するため、室内16への金属汚染を抑えることができる。
【0036】
さらに、出入ブース28に金属微粒子除去手段である専用チャンバ52及び吸引機54を備えることにより、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を効果的に除去できるので、作業者の移動による室内16への金属微粒子の拡散を積極的に防止することができる。
【0037】
加えて、クリーンルーム入口18とは別に、専用チャンバ52及び吸引機54を備えたクリーンルーム出口20を設けて、クリーンルーム出口20専用のエア循環手段を設けることにより、たとえブース26及び出入ブース28で金属微粒子が除去できなくても、クリーンルーム出口20で作業者が無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子に対する除去作業が行うことができる上、金属汚染されたエアはクリーンルーム出口20内で循環するため、更衣室14を介した室内16全体への金属微粒子の拡散を確実に防止することができる。
【0038】
なお、上述したクリーンルーム10において、各部材及び装置の個数、形状、材質などは特に限定するものではない。
【0039】
クリーンルーム10としてダウンフロー式を一例として挙げたが、特に限定するものではない。本発明のクリーンルーム10の機能を満たしていればよい。
【0040】
また、クリーンルーム出口20、各ブース26,26…、及び各出入ブース28,28…でもダウンフロー式のクリーンルーム構造を一例として挙げたが、特に限定するものではない。他の区域とは独立して清浄エアの循環を行える構造であればよい。
【0041】
さらに、クリーンルーム出口20及び出入ブース28,28…において金属微粒子除去手段として専用チャンバ52及び吸引機54を設けたが、特に限定するものではない。他に問題が生じないのであれば、無塵靴底面に付着した金属微粒子を払い取るための自動回転型のブラシなどを専用チャンバ52の床面に設けてもよい。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係るクリーンルームによれば、金属取扱装置を専用のエア循環手段を有するブースと、各ブースに出入りするための専用のエア循環手段を有する出入ブースとを設けることにより、室内への金属汚染の拡大を抑制することができる。また、クリーンルーム入口とは別に、専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口を設けることにより、更衣室を介した金属汚染の拡大を防止することができる。さらに、出入ブース及びクリーンルーム出口に金属微粒子除去手段を備えることにより、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去できるので、作業者の移動による金属汚染の拡大を効果的に防止できる。
【0043】
これらにより、CMPなどの金属取扱装置がクリーンルーム内に存在しても、発生した金属微粒子による室内の金属汚染を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態であるクリーンルームを上方から見た概略構成図
【図2】本発明の実施の形態であるクリーンルームを側面から見た概略断面図
【図3】本発明の実施の形態であるクリーンルームにおけるクリーンルーム出口及び各出入ブースを側面から見た概略断面図
【符号の説明】
10…クリーンルーム、11…ドア、12…玄関、14…更衣室、16…室内、18…クリーンルーム入口、20…クリーンルーム出口、22…パーテーション、24…装置、24a…CMP装置、26…ブース、28…出入ブース、32…天井部、34…床下部、36…チャンバ、38…ファンフィルタユニット、40…ダクト、44…空調器、46…エア配管、48…エアポンプ、50…エアシャワー装置、52…専用チャンバ、54…吸引機、56…吸引ノズル、58…吸引ホース、60…吸引ポンプ、62…吸引エア配管
【発明の属する技術分野】
本発明はクリーンルームに係り、特に室内にCMP(化学機械研磨)などの金属取扱装置が設けられたクリーンルームに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、半導体製造ラインのウェハ処理工程では、(1)ウェハ表面へのフォトレジスト(感光剤)塗布、(2)フォトマスクを用いた露光、(3)現像及びエッチング、(4)酸化・拡散・CVD・イオン注入などによるウェハ表面の不純物拡散、(5)CMPによるウェハ表面の平坦化、を行うことにより、ウェハ表面にチップ領域が形成される。半導体の複雑な回路を形成するには(1)〜(5)の作業を繰り返し行う必要があるとともに、(1)〜(5)は特に塵埃により影響し易い作業であるため、(1)〜(5)の作業を行う各装置は同一のクリーンルーム内に設けられるのが一般的である。
【0003】
クリーンルームでは、外部から塵埃が進入しないように配慮することはもとより、室内で従事する作業者の人体からの発塵も防止する手段が講じられている。即ち、作業者は更衣室にて無塵衣及び除塵靴に着替え、エアシャワーを備えたクリーンルーム入口を通過して付着した塵埃を除去してから室内へ入室する、という手段が従来において用いられている。
【0004】
また、クリーンルームのエア清浄度を向上させるために、室外からエア清浄フィルタを通して清浄したエアを室内へ供給し、室内の床面、床下、又は壁面下部の何れかから汚染されたエアを集塵ダクトなどを用いて排気することにより、クリーンルーム内のエア清浄度を上げる方法が採用されている。
【0005】
特に、特許文献1で開示されているクリーンルームでは、床面と製造機器などを支持するスラブとの間の空間に設けられた機器や配管などの空間と区分けするための、上面に多数の孔を有するリターンダクトが設けられている。これにより、ダウンフローされて室内に供給されたエアは、スラブの上面に設けられたアッセンブルフロアとスラブとの隙間を介してリターンダクトへ排気される。そのため、排気されたエアが床面に設けられた機器や配管などに接触せずに循環するので、機器や配管などからの塵埃混入を防止し、クリーンルームのエア清浄度を向上させることができる。
【0006】
【特許文献1】
特開平5−146688号広報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、(5)のCMP作業により金属微粒子や高濃度の金属微粒子を含む廃液が発生し、メンテナンスなどで作業者がCMP装置の内部に触れたりすると、この金属微粒子が室内の床、装置、及び部材に付着して、作業者の無塵衣や無塵靴の裏や側面に付着する可能性がある。それに、無塵衣及び無塵靴に付着した作業者が室内を移動すると、室内全体に金属微粒子が飛散して室内のエアが金属汚染される。この金属汚染により、(1)〜(5)の作業でウェハ表面に金属微粒子が付着して、ウェハ表面のゲート酸化膜の劣化及び寿命低下などの製品の品質的な問題が発生する。加えて、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子が更衣室まで持ち込まれてしまうと、更衣室全体や他の無塵衣及び無塵靴を金属汚染する可能性がある。クリーンルーム入口にはエアシャワーが設けられているが、エアシャワーのみでは金属微粒子を除去しきれない。
【0008】
従来のクリーンルームでは、金属汚染された室内のエアを清浄化することは極めて困難である。また、特許文献1のクリーンルームにおいても、スラブの下に設けられた装置や配線からの汚染は防止することはできるが、飛散した金属微粒子を除去したり、室内の金属汚染を防止したりすることは極めて難しい。
【0009】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、室内にCMPなどの金属取扱装置が設置されたクリーンルームにおいて、室内における金属微粒子による金属汚染を効果的に防止できるクリーンルームを提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1は前記目的を達成するために、エア循環手段によって室内のエアが循環されて清浄雰囲気に保持されるクリーンルームにおいて、前記室内に設置された金属取扱装置は、ブースに格納されるとともに、該ブースにはブース専用エア循環手段が設けられ、前記ブースには、前記室内と連通した出入ブースが設けられるとともに、該出入ブースには、出入ブース専用エア循環手段が設けられたことを特徴とする。
【0011】
本発明の請求項1によれば、クリーンルームの室内に設けられたCMPなどの金属微粒子を発生する金属取扱装置は、専用のエア循環手段が備えられたブースに設けられる。これにより、金属取扱装置から飛散した金属微粒子が直接拡散することを抑えることができる上、たとえブース内が金属汚染されても室内がエア循環によって金属汚染されるのを防止することができる。
【0012】
各ブースには、作業者が内部へ出入りするための出入ブースが設けられており、出入ブースには専用のエア循環手段が備えられている。これにより、作業者がブースに出入する際には必ず出入ブースを通過するので金属微粒子による金属汚染を抑えることができる上、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。
【0013】
本発明の請求項2は、請求項1の出入ブースには、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段が備えられたことを特徴とする。
【0014】
ブース内の作業で作業者の無塵衣及び無塵靴に金属微粒子が付着すると、作業者が出入ブースを通過するだけでは除去しきれない可能性がある。そこで、出入ブースに金属微粒子除去手段を設けることにより、作業者は出入ブースの中で金属微粒子除去手段を使用して無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去することができるので、作業者による室内への金属微粒子の持ち込みがなくなり、室内における金属汚染の拡大を効果的に防止することができる。
【0015】
本発明の請求項3は、請求項1又は2の前記クリーンルームにおいて、無塵衣及び無塵靴の着脱を行う更衣室との間に、前記室内へ入るためのクリーンルーム入口とは別の、出口専用のクリーンルーム出口が設けられ、前記クリーンルーム出口には、クリーンルーム出口専用循環手段と、前記作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段と、が備えられたことを特徴とする。
【0016】
請求項3によれば、ブース及び出入ブースで作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子が除去できなかった場合には、退室時にそのまま更衣室へ入室できるため、更衣室や更衣室内にある他の無塵衣及び無塵靴を金属汚染する可能性がある。そこで、更衣室とクリーンルームとの間に、クリーンルーム入口とは別に、専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口を設けることにより、金属微粒子による金属汚染を抑えることができる上、エア循環による金属微粒子の拡散を防止できる。
【0017】
また、クリーンルーム出口に金属微粒子除去手段が設けられることにより、退室する際に作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子をクリーンルーム出口で除去できるので、更衣室を介した室内の金属汚染の拡大を効果的に防止することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下添付図面に従って、本発明に係るクリーンルームの好ましい実施の形態について詳説する。
【0019】
図1は本発明の実施の形態である半導体製造ラインが設けられたクリーンルーム10を上方から見た概略構成図である。
【0020】
図1に示すように、クリーンルーム10は主に玄関12、更衣室14、室内16、クリーンルーム入口18、クリーンルーム出口20で構成される。各出入口には開閉式のドア11,11…が設けられ、作業者はドア11,11…を介して入退室する。なお、ドア11としては、密閉性が高いものであればスライド式でもよい。
【0021】
作業者がクリーンルーム10へ入室するには、まず玄関12に入って靴を脱いで更衣室14へ入室する。更衣室14で作業者は用意された無塵衣及び無塵靴に着替えて、必要であれば消毒を行う。着替えと消毒が終わったら、クリーンルーム入口18へ入室する。クリーンルーム入口18には、図示しないエアシャワー及びチャンバが設けられ、作業者はクリーンルーム入口18内に一定時間留まる。すると、エアシャワーから清浄エアが吹き付けられて作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した塵埃が除去される。一定時間経過後、作業者は室内16へ入室する。
【0022】
室内16には半導体の様々な工程を行うための各装置24,24…が多数設置されており、作業者は従事する作業に従って室内16内を移動する。各装置24,24…としては、作業中にCu又はFeなどの金属微粒子を発生する装置であるCMP装置24a,24a…が含まれる。これらCMP装置24a,24a…は、他の各装置24,24…とは別に、パーテーション22により区分けされた各ブース26,26…内に設けられる。また、各ブース26,26…には作業者が出入りするための各出入ブース28,28…がパーテーション22により室内16及びブース26と区分けされて設けられている。
【0023】
図2は、本発明の実施の形態であるクリーンルーム10の側面から見た概略構成図である。なお、白色矢印はエアの流れる方向を示しており、本発明に関連しないものは省略した。
【0024】
図2に示すように、ダウンフロー式のクリーンルーム10には、パーテーション22、天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、ダクト40、空調器44を配置することにより、クリーンルーム10にエア循環手段が形成される。クリーンルーム10は密閉性の高いパーテーション22によって外部と室内16とが区切られている。室内16の上部を形成する天井部32には多数のファンフィルタユニット38が設けられる。ファンフィルタユニット38では、天井部32のエアを吸引して付属するHEPAなどの高機能フィルタを通過させることにより、除塵された清浄エアが室内16へダウンフローされる。室内16内へダウンフローされたエアは、室内16の床部に設けられた多数の孔を有するチャンバ36を通過して床下部34へ流入する。床下部34に流入したエアは、送風ファン39,39により室内16の両脇に設けられたダクト40を通過して天井部32へ返送されて循環する。また、クリーンルーム10には空調器44が設けられており、クリーンルーム10のエアを換気するとともにクリーンルーム10内のエアの湿度及び温度が調整される。
【0025】
室内16に点在する各CMP装置24a,24a…は、室内16内をパーテーション22により区切られた各ブース26,26…内に設けられる。ブース26に、室内16とは別の天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、及びダクト40を配置することにより、ブース26にブース専用エア循環手段が備えられる。
【0026】
また、各ブース26,26…には、パーテーション22によって仕切られた、室内16と連通するための各出入ブース28,28…が設けられる。出入ブース28に、室内16及びブース26とは別に、天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、エア配管46、及びエアポンプ48を配置することにより、出入ブース28に出入ブース専用エア循環手段が備えられる。
【0027】
作業者が更衣室14から室内16に入室するためのクリーンルーム入口18には室内16のダウンフローが用いられる。したがって、クリーンルーム入口18は、天面にはチャンバが設置されるとともに、床は室内16のチャンバ36と共用することにより構成される。そして、両脇に設けられたエアシャワー装置50により、洗浄エアが作業者に一定時間吹き付けられる構造となっている。
【0028】
一方、作業者が室内16から更衣室14へ退室するためのクリーンルーム出口20がパーテーション22で周囲が仕切られた状態で設けられる。クリーンルーム出口20に、室内16とは別の天井部32、床下部34、チャンバ36、ファンフィルタユニット38、エア配管46、及びエアポンプ48を配置することにより、クリーンルーム出口20にクリーンルーム出口専用エア循環手段が備えられる。
【0029】
図3は、本発明の実施の形態であるクリーンルーム10におけるクリーンルーム出口20及び出入ブース28の概略構成図である。
【0030】
図3に示すように、パーテーション22で箱型を形成したクリーンルーム出口20及び出入ブース28は、上部をパーテーション22で仕切ることによって天井部32が形成されるとともに、下部に専用チャンバ52が設置されることによって床下部34が形成される。天井部32と床下部34とはエアポンプ48を備えたエア配管46が設置される。天井部32に設置されたファンフィルタユニット38からダウンフローされた清浄エアがエアポンプ48により専用チャンバ52から吸引されて、エア配管46を介して床下部34から天井部32へとエアが返送されることにより、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…における専用のエア循環経路が形成されて、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…内部における清浄雰囲気が保持される。
【0031】
専用チャンバ52は、クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…の床面や側面の一部を形成するように設けられ、エアポンプ48の吸引力により、表面に設けられた多数の孔から作業者の無塵靴裏面や側面に付着した金属微粒子が吸引されて除去される。また、専用チャンバ52には吸引機54が備えられる。吸引機54は吸引ノズル56、吸引ホース58、吸引ポンプ60、吸引エア配管62で構成される。クリーンルーム出口20及び各出入ブース28,28…に入室した作業者が装着する無塵衣及び無塵靴に吸引ノズル56を当てると、付着した金属微粒子が吸引ポンプ60の吸引力により吸い取られて吸引ホース58及び吸引エア配管62を介して天井部32へ返送される。なお、吸引ホース58には伸縮自在の軟性のチューブホースを使用し、吸引ポンプ60としてはエアポンプ48よりも強い吸引力のあるものを使用することが好ましい。
【0032】
次に、上記の如く構成されたクリーンルーム10におけるクリーンルームの作用について説明する。
【0033】
室内16にCMP24aなどの金属微粒子を発生させる金属取扱装置が設けられる場合には、金属取扱装置のメンテナンスや不具合などにより作業者の無塵衣及び無塵靴、床などに金属微粒子が付着して、室内が金属汚染される可能性がある。
【0034】
そこで、金属取扱装置を室内16とパーテーション22で区分けされた各ブース26,26…に設けて、室内16とは別にファンフィルタユニット38、チャンバ36、ダクト40などを設けて専用のエア循環手段を形成することにより、各ブース26,26…のエアはブース26,26…内でのみ循環するため、金属取扱装置から発生した金属微粒子がエアの循環を介して室内16全体へ拡散することを効果的に防止することができる。
【0035】
また、各ブース26,26…に作業者が出入りするための出入ブース28,28…を形成して、出入ブース28専用のファンフィルタユニット38、専用チャンバ52、エア配管46などを設けて独立したエア循環手段を形成することにより、作業者は必ず出入ブース28を介して室内16とブース26の間を移動するので、たとえ出入ブース28で付着した金属微粒子の除去が行われても出入ブース28内のエアはブース26内でのみ循環するため、室内16への金属汚染を抑えることができる。
【0036】
さらに、出入ブース28に金属微粒子除去手段である専用チャンバ52及び吸引機54を備えることにより、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を効果的に除去できるので、作業者の移動による室内16への金属微粒子の拡散を積極的に防止することができる。
【0037】
加えて、クリーンルーム入口18とは別に、専用チャンバ52及び吸引機54を備えたクリーンルーム出口20を設けて、クリーンルーム出口20専用のエア循環手段を設けることにより、たとえブース26及び出入ブース28で金属微粒子が除去できなくても、クリーンルーム出口20で作業者が無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子に対する除去作業が行うことができる上、金属汚染されたエアはクリーンルーム出口20内で循環するため、更衣室14を介した室内16全体への金属微粒子の拡散を確実に防止することができる。
【0038】
なお、上述したクリーンルーム10において、各部材及び装置の個数、形状、材質などは特に限定するものではない。
【0039】
クリーンルーム10としてダウンフロー式を一例として挙げたが、特に限定するものではない。本発明のクリーンルーム10の機能を満たしていればよい。
【0040】
また、クリーンルーム出口20、各ブース26,26…、及び各出入ブース28,28…でもダウンフロー式のクリーンルーム構造を一例として挙げたが、特に限定するものではない。他の区域とは独立して清浄エアの循環を行える構造であればよい。
【0041】
さらに、クリーンルーム出口20及び出入ブース28,28…において金属微粒子除去手段として専用チャンバ52及び吸引機54を設けたが、特に限定するものではない。他に問題が生じないのであれば、無塵靴底面に付着した金属微粒子を払い取るための自動回転型のブラシなどを専用チャンバ52の床面に設けてもよい。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係るクリーンルームによれば、金属取扱装置を専用のエア循環手段を有するブースと、各ブースに出入りするための専用のエア循環手段を有する出入ブースとを設けることにより、室内への金属汚染の拡大を抑制することができる。また、クリーンルーム入口とは別に、専用のエア循環手段を有するクリーンルーム出口を設けることにより、更衣室を介した金属汚染の拡大を防止することができる。さらに、出入ブース及びクリーンルーム出口に金属微粒子除去手段を備えることにより、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去できるので、作業者の移動による金属汚染の拡大を効果的に防止できる。
【0043】
これらにより、CMPなどの金属取扱装置がクリーンルーム内に存在しても、発生した金属微粒子による室内の金属汚染を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態であるクリーンルームを上方から見た概略構成図
【図2】本発明の実施の形態であるクリーンルームを側面から見た概略断面図
【図3】本発明の実施の形態であるクリーンルームにおけるクリーンルーム出口及び各出入ブースを側面から見た概略断面図
【符号の説明】
10…クリーンルーム、11…ドア、12…玄関、14…更衣室、16…室内、18…クリーンルーム入口、20…クリーンルーム出口、22…パーテーション、24…装置、24a…CMP装置、26…ブース、28…出入ブース、32…天井部、34…床下部、36…チャンバ、38…ファンフィルタユニット、40…ダクト、44…空調器、46…エア配管、48…エアポンプ、50…エアシャワー装置、52…専用チャンバ、54…吸引機、56…吸引ノズル、58…吸引ホース、60…吸引ポンプ、62…吸引エア配管
Claims (3)
- エア循環手段によって室内のエアが循環されて清浄雰囲気に保持されるクリーンルームにおいて、
前記室内に設置された金属取扱装置は、ブースに格納されるとともに、該ブースにはブース専用エア循環手段が設けられ、
前記ブースには、前記室内と連通した出入ブースが設けられるとともに、該出入ブースには、出入ブース専用エア循環手段が設けられたことを特徴とするクリーンルーム。 - 前記出入ブースには、作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段が備えられたことを特徴とする請求項1のクリーンルーム。
- 前記クリーンルームにおいて、
無塵衣及び無塵靴の着脱を行う更衣室との間に、前記室内へ入るためのクリーンルーム入口とは別の、出口専用のクリーンルーム出口が設けられ、
該クリーンルーム出口には、クリーンルーム出口専用循環手段と、前記作業者の無塵衣及び無塵靴に付着した金属微粒子を除去するための金属微粒子除去手段と、が備えられたことを特徴とする請求項1又は2のクリーンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003193684A JP2005030628A (ja) | 2003-07-08 | 2003-07-08 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003193684A JP2005030628A (ja) | 2003-07-08 | 2003-07-08 | クリーンルーム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005030628A true JP2005030628A (ja) | 2005-02-03 |
Family
ID=34205082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003193684A Pending JP2005030628A (ja) | 2003-07-08 | 2003-07-08 | クリーンルーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005030628A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009513923A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | スペングラー・チャールズ・ダブリュー | 複数のクリーンルームの運転方法 |
JP2015052430A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 新日本空調株式会社 | クリーンルーム内に設置された高清浄度低露点設備における製造部品の搬入方法 |
WO2023170808A1 (ja) * | 2022-03-09 | 2023-09-14 | 日立グローバルライフソリューションズ株式会社 | クリーンルーム施設 |
-
2003
- 2003-07-08 JP JP2003193684A patent/JP2005030628A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009513923A (ja) * | 2005-10-26 | 2009-04-02 | スペングラー・チャールズ・ダブリュー | 複数のクリーンルームの運転方法 |
JP2015052430A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 新日本空調株式会社 | クリーンルーム内に設置された高清浄度低露点設備における製造部品の搬入方法 |
WO2023170808A1 (ja) * | 2022-03-09 | 2023-09-14 | 日立グローバルライフソリューションズ株式会社 | クリーンルーム施設 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW484001B (en) | Cleanroom and cleanroom ventilation method | |
US6926017B2 (en) | Wafer container washing apparatus | |
JP4124665B2 (ja) | 清浄空気ダクト及び清浄室用空気提供装置 | |
US20060045669A1 (en) | Clean room, local cleaning system, methods of use thereof, and clean room monitoring system | |
US7258728B2 (en) | Apparatus and method for cleaning air | |
US7216655B2 (en) | Wafer container washing apparatus | |
JP2002147811A (ja) | クリーンルーム | |
JP2008075945A (ja) | 局所清浄化装置 | |
US20150314418A1 (en) | Substrate polishing apparatus | |
JPH02126912A (ja) | 空気清浄装置及びこれを用いたクリーンルーム | |
JP3353197B2 (ja) | クリーンルーム用衣服とその付属品の除塵,乾燥及び滅菌方法及び該装置 | |
JPH1174168A (ja) | 処理システム | |
JP2005030628A (ja) | クリーンルーム | |
JP3427921B2 (ja) | 半導体装置生産用クリーンルームおよび半導体装置の生産方法 | |
JP3697275B2 (ja) | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム | |
JP5839887B2 (ja) | 加工装置 | |
JP4743379B2 (ja) | クリーンルーム | |
JP4531246B2 (ja) | エアシャワー装置 | |
JP2006162090A (ja) | 局所清浄化装置及びクリーンルーム | |
JP2014034068A (ja) | 加工装置 | |
KR20090056137A (ko) | 클린룸의 강제배기구조 | |
JP5968185B2 (ja) | 加工装置 | |
JP3879052B2 (ja) | 発塵対策用部材加工ブース | |
JPH10238833A (ja) | クリーンルーム | |
JP2000074436A (ja) | クリーンルーム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050913 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080812 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20090217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |