JP2015047783A - 液体吐出ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 187
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 80
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 40
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 21
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 17
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 16
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 11
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 7
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1642—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by CVD [chemical vapor deposition]
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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Abstract
Description
基体と、前記基体の上に、液体を吐出する吐出口及び該吐出口に連通する液体流路を形成する流路形成部材と、を少なくとも有する液体吐出ヘッドであって、前記流路形成部材は、前記液体流路の側面を構成する流路側壁部を少なくとも含み、前記流路側壁部の内壁の基体側端部を覆う部材を有することを特徴とする液体吐出ヘッドである。である。
まず、図3(a)に示すように、エネルギー発生素子3を表面(第一の面)側に備える基体1を用意する。基体1は、基板11と、該基板の上に配置された絶縁膜12と、該絶縁膜12の上に配置されたエネルギー発生素子3と、該エネルギー発生素子3を覆うように配置された保護膜13と、を含む。なお、図において、回路や配線は図示していない。
まず、図4(a)に示すように、エネルギー発生素子3を表面側に備える基体1を用意する。そして、基体1の上に、液体流路の流路パターンよりも寸法が内側に小さいマスクパターン41を形成する。マスクパターン41の寸法は、例えば、液体流路の流路パターンよりも内側に1〜3μm小さい寸法とすることができる。
まず、図5(a)に示すように、エネルギー発生素子3を備える基体1を用意する。
まず、図3(a)に示すように、エネルギー発生素子3として発熱抵抗体を表面側に備える基体1を用意した。基体1は、基板11の上に絶縁膜12を形成し、該絶縁膜12の上にエネルギー発生素子3を配置し、該エネルギー発生素子3を覆うように保護膜13を形成することにより、作製した。なお、図において、回路や配線は図示していない。
まず、図4(a)に示すように、エネルギー発生素子3として発熱抵抗体を表面側に備える基体1を用意した。そして、基体1の上に、液体流路の流路パターンよりも寸法が5μm内側に小さいマスクパターン41を形成した。マスクパターン41にはポジレジストを用いた。
まず、図5(a)に示すように、エネルギー発生素子3として発熱抵抗体を備える基体1を用意した。
11 基板
12 絶縁膜
13 保護膜
2 流路形成部材
21 流路上壁部
22 流路側壁部
23 基体接地部
3 エネルギー発生素子
4 部材
5 液体流路
6 吐出口
7 液体供給口
8 保護膜
9 絶縁膜
Claims (19)
- 基体と、前記基体の上に、液体を吐出する吐出口及び該吐出口に連通する液体流路を形成する流路形成部材と、を少なくとも有する液体吐出ヘッドであって、
前記流路形成部材は、前記液体流路の側面を構成する流路側壁部を少なくとも含み、
前記流路側壁部の内壁の基体側端部を覆う部材を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記部材は、前記液体流路からの液漏れを防止する部材である請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記部材は、前記基体及び前記流路側壁部の内壁に接して配置されている請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記部材は、前記内壁の下端から少なくとも0.1μmの範囲の内壁部分を覆っている請求項1乃至3のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記部材は、前記基体の第一の面上に形成されている請求項1乃至4のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記内壁の基体側端部は、前記基体の第一の面に形成された第一の凹部に配置されている請求項1乃至5のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記部材は、前記第一の凹部に配置され、前記内壁の基体側端部は、該部材に設けられた第二の凹部に配置されている請求項6に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記部材の上端面と前記基体の第一の面が同一面上に配置されている請求項7に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記基体は、基板と、該基板の上に形成された絶縁膜及び保護膜の少なくとも1つと、を有し、前記絶縁膜及び保護膜の少なくとも1つが前記部材として前記内壁の基体側端部を覆っている請求項6に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記基体は、前記液体を吐出させるためのエネルギーを発生させるエネルギー発生素子を複数有し、
前記流路形成部材は、それぞれ隣接する前記エネルギー発生素子の間に配置される隔壁を含み、
前記部材は、前記流路側壁部の内壁のうち少なくとも前記隔壁を構成する部分の基体側端部を覆っている請求項1乃至9のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。 - 前記流路形成部材は、無機材料又は金属で形成されている請求項1乃至10のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 前記流路形成部材は、化学気相成長法もしくは物理気相成長法により形成されている請求項11に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記流路形成部材と、前記部材とが同一材料から形成されている請求項1乃至12のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(1)前記基体の上に前記部材の材料を形成する工程と、
(2)前記部材の材料の上に、犠牲層を形成する工程と、
(3)前記犠牲層および前記部材の材料をエッチングして、前記液体流路の流路パターンを有する流路型材及び前記部材を形成する工程と、
(4)前記流路型材の上に前記流路形成部材を形成する工程と、
を含む、液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記工程(3)において、前記犠牲層および前記部材の材料を反応性イオンエッチングにより一括でエッチングする請求項14に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項8に記載の液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(1)前記基体に前記第一の凹部を形成する工程と、
(2)前記第一の凹部を含む前記基体の上に前記部材の材料を形成する工程と、
(3)前記部材の材料の表面を前記基体の第一の面が露出するまで後退させる工程と、
(4)前記部材の材料及び前記基体の上に、犠牲層を形成する工程と、
(5)前記犠牲層および前記部材の材料をエッチングして、前記液体流路の流路パターンを有する流路型材及び前記第二の凹部を有する前記部材を形成する工程と、
(6)前記流路型材の上に前記流路形成部材を形成する工程と、
を含む、液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記工程(4)において、前記犠牲層および前記部材の材料を反応性イオンエッチングにより一括でエッチングする請求項16に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 請求項9に記載の液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(1)前記基体の上に犠牲層を形成する工程と、
(2)前記犠牲層並びに前記保護膜及び絶縁膜の少なくとも1つをエッチングして、前記液体流路の流路パターンを有する流路型材及び前記第一の凹部を形成する工程と、
(3)前記流路型材の上に流路形成部材を形成する工程と、
を含む、液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記工程(2)において、前記犠牲層並びに前記保護膜及び前記絶縁膜の少なくとも1つを反応性イオンエッチングにより一括でエッチングする請求項18に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013181148A JP6214284B2 (ja) | 2013-09-02 | 2013-09-02 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
US14/460,555 US9132636B2 (en) | 2013-09-02 | 2014-08-15 | Liquid ejection head and production process thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013181148A JP6214284B2 (ja) | 2013-09-02 | 2013-09-02 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015047783A true JP2015047783A (ja) | 2015-03-16 |
JP6214284B2 JP6214284B2 (ja) | 2017-10-18 |
Family
ID=52582635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013181148A Active JP6214284B2 (ja) | 2013-09-02 | 2013-09-02 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9132636B2 (ja) |
JP (1) | JP6214284B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US9132636B2 (en) | 2015-09-15 |
US20150062253A1 (en) | 2015-03-05 |
JP6214284B2 (ja) | 2017-10-18 |
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