JP2015039668A - 塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 - Google Patents
塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015039668A JP2015039668A JP2013172147A JP2013172147A JP2015039668A JP 2015039668 A JP2015039668 A JP 2015039668A JP 2013172147 A JP2013172147 A JP 2013172147A JP 2013172147 A JP2013172147 A JP 2013172147A JP 2015039668 A JP2015039668 A JP 2015039668A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- squeegee
- discharge port
- head
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
【課題】短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置を提供する。【解決手段】塗布装置1は、塗布ヘッド23と、スキージ41と、塗布ヘッド23とスキージ41とを相対的に移動させる第1駆動機構と、当該第1駆動機構の動作を制御する制御部とを備える。塗布ヘッド23は、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有し、制御部は、塗布ヘッド23をクリーニングするに際し、スキージ41によって塗布ヘッド23から余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、リップ面にスキージ41を接触させつつ、吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けてスキージ41を移動させるように、第1駆動機構の動作を制御する。【選択図】図1
Description
本発明は、ワークに対して塗布液を塗布するためのスリット状の吐出口を有する塗布ヘッドを備えた塗布装置および当該塗布装置に設けられた塗布ヘッドのクリーニング方法に関する。
ワークに対して塗布液を塗布する塗布装置としては、各種のものが存在する。その一つに、スリット状の吐出口を有する塗布ヘッドを備えたスリットコータと称される塗布装置がある。
スリットコータは、塗布ヘッドの下方を通過するようにワークを移動させつつ、塗布ヘッドに設けられたスリット状の吐出口から塗布液をワークに向けて吐出することにより、ワークの表面に所定の厚みを有する塗布膜を形成するものである。
このスリットコータは、ワークとしての各種基板(たとえば半導体基板や配線基板、ガラス基板等)の表面に塗布膜(たとえばレジスト膜や着色膜、配向膜等)を形成する場合に特に好適に用いられる。
スリットコータを用いて複数のワークに対して塗布膜を順次形成する場合には、塗布液の塗布動作が断続的に行なわれることになる。その場合には、塗布動作を停止した後であって次の塗布動作を開始するまでの待機時間中において、塗布液が自重および残留圧力によって吐出口から徐々に垂れ下がることになり、これがワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となってしまう問題がある。
また、スリット状の吐出口の周囲に位置するリップ面に何らかの理由によって塗布液が付着した場合には、これが吐出口から吐出される塗布液とともにワークに供給されてしまうことにより、ワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となってしまう問題もある。
これらに起因してワークの表面に均一な膜厚の塗布膜が形成されなかった場合には、その後に実施される各種の工程において不具合を誘発したり、あるいは製品性能の低下を招いたりする。そのため、上述した待機時間中において塗布ヘッドのクリーニングが行なわれることが一般的である。
たとえば、特許文献1(特開2002−177848号公報)には、塗布ヘッドのリップ面に合成樹脂製またはゴム製の清掃部材(スキージ)を摺接させて当該リップ面に付着した塗布液を掻き取ることにより、待機時間中において塗布ヘッドのクリーニングを行なうクリーニング方法が開示されている。より詳細には、当該特許文献1には、スキージをリップ面に接触させた状態としつつ、当該スキージをスリット状の吐出口が延在する方向(すなわち、吐出口の長手方向)に沿って移動させることにより、塗布ヘッドのクリーニングを行なうことが開示されている。
しかしながら、上記特許文献1に開示されたクリーニング方法を採用した場合には、スキージをスリット状の吐出口が延在する方向に沿って移動させるため、塗布ヘッドのクリーニングに相当程度の時間を要し、タクトタイムが長くなってしまう問題があった。
加えて、上記特許文献1に開示されたクリーニング方法を採用した場合には、スリット状の吐出口が延在する方向において塗布液が掻き取られるタイミングに大きな時間差が発生するため、当該方向に沿った吐出口の部位ごとにクリーニングから塗布までの間の時間に大きな差が生じてしまう。
そのため、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口が延在する方向において自重および残留圧力によって吐出口から垂れ下がる塗布液の量に差が発生してしまうことになり、当該方向に沿って塗布動作の初期段階においてワークに供給される塗布液の量に差が生じてしまう。
したがって、上記特許文献1に開示されたクリーニング方法では、ワークの表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することが困難となってしまう問題の解決が十分には達成できていない問題があった。
そこで、本発明は、上述した問題を解決すべくなされたものであり、短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法を提供することを目的とする。
本発明に基づく塗布装置は、ワークに対して塗布液を塗布する塗布ヘッドと、上記塗布ヘッドをクリーニングするスキージと、上記塗布ヘッドと上記スキージとを相対的に移動させる第1駆動機構と、上記第1駆動機構の動作を制御する制御部とを備えている。上記塗布ヘッドは、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有している。上記制御部は、上記塗布ヘッドをクリーニングするに際し、上記スキージによって上記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、上記リップ面に上記スキージを接触させつつ、上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記スキージを移動させるように、上記第1駆動機構の動作を制御する。
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記吐出口が延在する方向に沿った上記スキージの長さが、上記吐出口が延在する方向に沿った上記吐出口の長さよりも長いことが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置は、さらに、上記スキージによって掻き取られた余剰の塗布液を溜め受ける回収容器を備えていることが好ましく、その場合には、上記スキージと上記回収容器とが、一体的に移動するように構成されていることが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記吐出口が設けられた上記リップ面が、先細り形状を有していてもよい。その場合には、上記第1駆動機構が、上記塗布ヘッドおよび上記スキージの水平方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第1位置調節機構と、上記塗布ヘッドおよび上記スキージの鉛直方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第2位置調節機構とを含んでいることが好ましく、上記制御部が、先細り形状を有する上記リップ面に沿って上記スキージを移動させるように、上記第1位置調節機構および上記第2位置調節機構の動作を制御することが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置は、上記スキージを単数備えていてもよく、その場合には、上記制御部が、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する一端側から上記吐出口を横断して上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する他端側に向けて上記単数のスキージを移動させるように、上記第1駆動機構の動作を制御することが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置は、上記スキージを一対備えていてもよく、その場合には、上記制御部が、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する一端側から上記吐出口に向けて上記一対のスキージの一方を移動させるとともに、上記リップ面の上記吐出口に隣接して位置する他端側から上記吐出口に向けて上記一対のスキージの他方を移動させるように、上記第1駆動機構の動作を制御することが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置は、さらに、ワークが載置されるワーク載置部と、上記ワーク載置部と上記塗布ヘッドとを相対的に移動させる第2駆動機構とを備えていてもよい。その場合には、上記第2駆動機構が、上記制御部によってその動作が制御されることが好まく、上記制御部が、ワークに対して塗布液を塗布するに際し、ワークの表面上に塗布膜が形成されることとなるように、上記吐出口から塗布液が吐出された状態を維持しつつ、上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を移動するように、上記第2駆動機構の動作を制御することが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、上記スキージと上記ワーク載置部とが、一体的に移動するように構成されていることが好ましい。
上記本発明に基づく塗布装置にあっては、ワークに対して塗布液を塗布するために上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を移動するに際して、上記ワーク載置部が上記吐出口の下方を通過するに先だって上記塗布ヘッドがクリーニングされることとなるように、上記スキージおよび上記ワーク載置部が移動を開始する前の状態において、上記スキージが、上記ワーク載置部から見て上記塗布ヘッドが位置する側に配置されていることが好ましい。
本発明に基づく塗布ヘッドのクリーニング方法は、塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有する塗布ヘッドをスキージを用いてクリーニングする方法であって、上記スキージを上記リップ面に接触させつつ上記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて上記スキージを移動させることにより、上記スキージによって上記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られるようにすることを特徴とする。
本発明によれば、短時間に塗布ヘッドのクリーニングが可能であり、また吐出口の部位ごとにワークに供給される塗布液の量に差が発生してしまうことが抑制された塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることができる。
以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における塗布装置の概略斜視図である。図2は、図1に示す塗布装置の駆動機構の構成を示す図であり、図3は、図1に示す塗布ヘッドの底面図である。また、図4は、図1に示す塗布ヘッドの塗布液の吐出後の状態を示す図であり、図3中に示したIV−IV線に沿った模式断面図である。まず、これら図1ないし図4を参照して、本実施の形態における塗布装置について説明する。
図1は、本発明の実施の形態1における塗布装置の概略斜視図である。図2は、図1に示す塗布装置の駆動機構の構成を示す図であり、図3は、図1に示す塗布ヘッドの底面図である。また、図4は、図1に示す塗布ヘッドの塗布液の吐出後の状態を示す図であり、図3中に示したIV−IV線に沿った模式断面図である。まず、これら図1ないし図4を参照して、本実施の形態における塗布装置について説明する。
図1に示す本実施の形態における塗布装置1は、複数のワークに対して塗布膜を順次形成するものであり、ワークに塗布液を塗布する塗布動作と、塗布ヘッドをクリーニングするクリーニング動作とが交互に繰り返し実施されるものである。より詳細には、塗布装置1においては、まずワークがセットされ、次に塗布ヘッドのクリーニングが行なわれ、つづいてワークに対して塗布液が塗布され、その後ワークが取り外されるという一連の処理が、ワークを交換して順次繰り返される。
図1に示すように、塗布装置1は、ベース10と、ステージ12と、塗布部20と、ワーク載置部30と、クリーニング部40とを主として備えている。
ベース10は、塗布装置1の基台となる部位であり、その上面上にステージ12、塗布部20、ワーク載置部30およびクリーニング部40が設けられている。
ステージ12は、図中に示すY軸方向に沿って移動可能となるようにベース10上に設けられている。より詳細には、ベース10の上面には、Y軸方向に沿って延在する一対のガイドレール11が設けられており、ステージ12を支持するステージ支持部13(図5等参照)が当該ガイドレール11上を移動することにより、ステージ12がY軸方向に沿って移動する。
塗布部20は、ガントリ21と、ヘッド支持部22と、塗布ヘッド23とを有している。ガントリ21は、ベース10上に位置するステージ12の軌道を跨ぐように設けられている。ヘッド支持部22は、塗布ヘッド23を支持するとともに、ガントリ21に移動可能に組み付けられている。これにより、塗布ヘッド23は、ステージ12の軌道上に配置されている。
塗布ヘッド23は、塗布液をワークに対して塗布するための部位であり、図中に示すX軸方向に沿って延在している。また、塗布ヘッド23は、図中に示すZ軸方向に沿って移動可能となるようにガントリ21に設けられている。より詳細には、ガントリ21に移動可能に組み付けられたヘッド支持部22が昇降することにより、塗布ヘッド23がZ軸方向に沿って移動する。
図3および図4に示すように、塗布ヘッド23は、下端に先細り形状を有するリップ面23a,23bを有しており、その先端部に塗布液200(図4参照)を吐出するためのスリット状の吐出口24を有している。吐出口24は、X軸方向に沿って延在しており、塗布ヘッド23の内部に形成された吐出路25に連通している。吐出路25は、外部に設けられた図示しない塗布液供給手段にチューブを介して接続されている。これにより、塗布液供給手段から吐出路25に供給された塗布液200は、吐出口24から塗布ヘッド23の外部に吐出される。
図1に示すように、ワーク載置部30は、ワーク100が載置される部位であり、ステージ12上に設けられたテーブル31によって構成されている。テーブル31上には、図示しない位置決め機構が設けられており、ワーク100を保持する保持板32がテーブル31上に載置されて当該位置決め機構によって位置決めされて固定されることにより、ワーク100がテーブル31上に移動不能に載置される。なお、テーブル31に対する保持板32の固定方法としては、たとえば真空吸着が利用できる。
クリーニング部40は、単数(すなわち1つ)のスキージ41と、スキージ支持部42と、回収容器43とを有している。これらクリーニング部40を構成するスキージ41、スキージ支持部42および回収容器43は、いずれもステージ12上に設けられている。
スキージ41は、塗布ヘッド23のリップ面23a,23bに接触して当該リップ面23a,23b上を移動することにより、塗布ヘッド23から余剰の塗布液200を掻き取ることで塗布ヘッド23をクリーニングする部材であり、X軸方向に沿って延在する長尺板状の部材にて構成されている。
ここで、X軸方向に沿ったスキージ41の長さは、好ましくはX軸方向に沿った吐出口24の長さよりも長く構成され、より好ましくはX軸方向に沿ったリップ面23a,23bの長さと同等の長さとされる。このように構成することにより、Y軸方向に沿った一度の移動で塗布ヘッド23のクリーニングが完了することになる。
スキージ41は、塗布ヘッド23のリップ面23a,23bに接触した状態において適度に撓むことが望ましく、そのため弾性変形可能な部材にて構成されていることが好ましい。当該観点から、スキージ41は、合成樹脂際またはゴム製の部材にて構成されていることが好ましく、また金属製の薄板からなる芯材の表面を合成樹脂製またはゴム製の部材によって覆ったものにてスキージ41を構成してもよい。
スキージ41は、Z軸方向に沿って移動可能となるようにスキージ支持部42によって支持されている。より詳細には、スキージ41は、スキージ支持部42を介してステージ12上に設けられており、当該スキージ支持部42が昇降することにより、スキージ41がZ軸方向に沿って移動する。
回収容器43は、スキージ41によって掻き取られた塗布液200を溜め受けるものであり、スキージ41から落下する塗布液200を受け止めることが可能となるように、スキージ41の下方に設置されている。
なお、スキージ41は、テーブル31とともにステージ12上に設けられることにより、テーブル31とともにY軸方向に沿って一体的に移動する。また、回収容器43は、スキージ41とともにステージ12上に設けられることにより、スキージ41とY軸方向に沿って一体的に移動する。
図2に示すように、塗布装置1は、上述したベース10、ステージ12、塗布部20、ワーク載置部30およびクリーニング部40に加え、さらに制御部50と、ステージ駆動機構51と、塗布ヘッド駆動機構52と、スキージ駆動機構53とを備えている。
制御部50は、塗布装置1の全体の動作を制御する部位であり、主として、塗布ヘッド23の塗布動作、ステージ12の移動動作、塗布ヘッド23の移動動作、スキージ41の移動動作を同期的に制御する。なお、塗布ヘッド23をスキージ41を用いてクリーニングするクリーニング動作は、制御部50がステージ12の移動動作、塗布ヘッド23の移動動作およびスキージ41の移動動作を同期的に制御することで行なわれる。
ステージ駆動機構51は、制御部50からの指令に基づいて駆動することにより、ステージ12をY軸方向に沿って移動させるものである。塗布ヘッド駆動機構52は、制御部50からの指令に基づいて駆動することにより、塗布ヘッド23をZ軸方向に沿って移動させるものである。スキージ駆動機構53は、制御部50からの指令に基づいて駆動することにより、スキージ41をZ軸方向に沿って移動させるものである。
これらステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53としては、各種のものが利用できるが、たとえばサーボモータ、リニアモータ、ステッピングモータ、エアシリンダ、油圧シリンダ等を駆動源とした駆動機構が利用できる。なお、ステージ駆動機構51および塗布ヘッド駆動機構52としては、好適にはサーボモータとボールねじとの組み合わせが利用でき、スキージ駆動機構53としては、好適にはエアシリンダまたは油圧シリンダを駆動源とした駆動機構が利用できる。
ここで、本実施の形態における塗布装置1にあっては、ステージ駆動機構51が駆動することで塗布ヘッド23およびスキージ41の水平方向(すなわちY軸方向)に沿った相対的な位置が可変に調節されることになるため、当該ステージ駆動機構51が第1位置調節機構に該当することになる。
また、本実施の形態における塗布装置1にあっては、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53が駆動することで塗布ヘッド23およびスキージ41の鉛直方向(すなわちZ軸方向)に沿った相対的な位置が可変に調節されることになるため、これら塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53が第2位置調節機構に該当することになる。
また、本実施の形態における塗布装置1にあっては、上記第1位置調節機構としてのステージ駆動機構51と、上記第2位置調節機構としての塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53とが駆動することにより、塗布ヘッド23とスキージ41とが相対的に移動させられることになるため、これらステージ駆動機構51と、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53とが第1駆動機構に該当することになる。
また、本実施の形態における塗布装置1にあっては、ステージ駆動機構51と塗布ヘッド駆動機構52とが駆動することにより、ワーク載置部30としてのステージ12と塗布ヘッド23とが相対的に移動させられることになるため、これらステージ駆動機構51と塗布ヘッド駆動機構52とが第2駆動機構に該当することになる。
図4に示すように、本実施の形態における塗布装置1においては、塗布動作を停止した後であって次の塗布動作を開始するまでの待機時間中において、塗布液200が自重および残留圧力によって吐出口24から垂れ下がった状態となる。この垂れ下がった部分の塗布液200が、ワーク100の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となる余剰部分となる。
また、本実施の形態における塗布装置1において何らかの理由によってリップ面23a,23bに塗布液200が付着した場合には、このリップ面23a,23bに付着した部分の塗布液200も、ワーク100の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することの障害となる余剰部分となり得る。
そのため、本実施の形態における塗布装置1および塗布ヘッドのクリーニング方法においては、以下に示す態様のクリーニング動作を行なうことにより、これを短時間にかつムラなく除去し、これによりワーク100の表面に均一な膜厚の塗布膜を形成することを可能にしている。以下、当該クリーニング動作を含め、本実施の形態における塗布装置1を用いて1つのワークに対して実施される一連の処理について、順を追って詳細に説明する。
図5は、図1に示す塗布装置の一連の処理の初期状態を示す模式側面図である。図6は、図1に示す塗布装置のクリーニング動作を示す模式側面図であり、図7は、図6に示すクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。図8は、図1に示す塗布装置の塗布動作を示す模式側面図であり、図9は、図8に示す塗布動作時における塗布部およびワーク載置部の状態を示す図である。また、図10は、図1に示す塗布装置の一連の処理の終了状態を示す模式側面図である。
図5に示すように、初期状態においては、Y軸方向に沿って塗布部20とワーク載置部30との間にクリーニング部40が位置した状態にあり、当該状態においてワーク載置部30であるテーブル31上に、保持板32に保持されたワーク100がセットされる。すなわち、当該初期状態においては、ワーク載置部30から見てスキージ41が塗布ヘッド23が位置する側に配置されている。
次に、図6および図7に示すように、ステージ12がY軸方向に沿って移動することにより、クリーニング部40が塗布部20の下方に移動し、これによりクリーニング動作が開始する。
ここで、制御部50は、スキージ41によって塗布ヘッド23から余剰の塗布液200が掻き取られることとなるように、リップ面23a,23bにスキージ41を接触させつつ、吐出口24が延在する方向であるX軸方向と直交する方向であるY軸方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に向けてスキージ41を移動させるように、第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御する。
より詳細には、図7に示すように、制御部50は、リップ面23a,23bのうちのY軸方向において吐出口24に隣接して位置する一端側のリップ面23aから、吐出口24を横断して、リップ面23a,23bのうちのY軸方向において吐出口24に隣接して位置する他端側のリップ面23bに向けてスキージ41を移動させる。
このとき、制御部50は、上述した第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御することにより、スキージ41がリップ面23a,23bの表面に沿って移動するように(すなわち、スキージ41が塗布ヘッド23に対して相対的に図7中において矢印Aで示す軌跡上を移動することとなるように)、スキージ41および塗布ヘッド23の位置を調節する。これにより、スキージ41が適度な圧接力をもってリップ面23a,23bに接触しつつリップ面23a,23b上を移動することになり、余剰の塗布液200が確実にスキージ41によって掻き取られることになる。
なお、スキージ41によって掻き取られた塗布液200は、スキージ41を伝って移動し、スキージ41から下方に向けて落下することで回収容器43によって回収される。
その後、ステージ12がY軸方向に沿ってさらに移動してクリーニング部40が塗布部20の下方を通過することにより、クリーニング動作が終了する。
次に、図8および図9に示すように、ステージ12がY軸方向に沿ってさらに移動することでワーク載置部30が塗布部20の下方に達し、所定のタイミングで吐出口24から塗布液200が吐出されることにより、塗布動作が開始する。
ここで、図8に示すように、制御部50は、ワーク100の表面上に塗布膜201が形成されることとなるように、吐出口24から塗布液200が吐出された状態を維持しつつ、吐出口24が延在する方向であるX軸方向と直交する方向であるY軸方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に向けてワーク載置部30が移動するように、第2駆動機構としてのステージ駆動機構51および塗布ヘッド駆動機構52の動作を制御する。
これにより、ワーク100の表面上に供給された塗布液200が当該ワーク100の表面上に付着することになり、所定の厚みの塗布膜201が形成されることになる。
その後、所定のタイミングで吐出口24から塗布液200が吐出されることが停止され、ステージ12がY軸方向に沿ってさらに移動してワーク載置部30が塗布部20の下方を通過することにより、塗布動作が終了する。
次に、図10に示すように、ステージ12がY軸方向に沿ってさらに移動することにより、終了状態に至る。当該終了状態においては、Y軸方向に沿ってクリーニング部40と塗布部20との間にワーク載置部30が位置した状態にあり、当該状態においてワーク載置部30であるテーブル31上から保持板32ごとワーク100が取り外される。
その後、ステージ12が、Y軸方向に沿って移動して元の位置(すなわち、上記初期状態の位置)に復帰することにより、1つのワーク100に対して実施される一連の処理が完了する。なお、塗布装置1においては、ワーク100が交換されることで上述した一連の処理が順次繰り返される。
以上において説明したように、本実施の形態における塗布装置1および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、スキージ41をスリット状の吐出口24が延在する方向と直交する方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に沿って移動させるため、塗布ヘッド23のクリーニングが短時間で終了することになる。
加えて、本実施の形態における塗布装置1および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、スキージ41をスリット状の吐出口24が延在する方向と直交する方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に沿って移動させるため、当該方向に沿って塗布液200が掻き取られるタイミングに大きな時間差が発生しないことになり、吐出口24の部位ごとにクリーニングから塗布までの間の時間に大きな差が生じないことになる。
そのため、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口24の部位ごとに自重および残留圧力によって吐出口24から垂れ下がる塗布液200の量に差が発生することが抑制され、塗布動作の初期段階においてワーク100に供給される塗布液200の量に差が生じることが低減される。
したがって、本実施の形態における塗布装置1および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることにより、クリーニング動作のタクトタイムが非常に短くて済むことになるとともに、ワーク100の表面に均一な膜厚の塗布膜201を形成することが可能になる。
さらには、本実施の形態における塗布装置1および塗布ヘッドのクリーニング方法にあっては、上述した初期状態においてスキージ41がワーク載置部30であるテーブル31から見て塗布ヘッド23が位置する側に配置される構成であるため、ワーク100に対して塗布液200を塗布するためにテーブル31が吐出口24の下方を移動するに際して、テーブル31が吐出口24の下方を通過するに先だって塗布ヘッド23がクリーニングされることになる。そのため、クリーニング動作が完了した時点から塗布動作を開始する時点までの時間が短くなり、塗布動作の開始時点において吐出口24から垂れ下がる塗布液200の量を非常に僅少にすることができ、ワーク100の表面により均一な膜厚の塗布膜201を形成することが可能になる。
なお、上記においては、塗布ヘッド23のリップ面23a,23bが先細り形状を有している場合を例示して説明を行なったが、塗布ヘッド23のリップ面23a,23bの形状は、これに限定されるものではない。図11は、本実施の形態に基づいた変形例に係る塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。
図11に示すように、変形例にかかる塗布装置の塗布ヘッド23は、リップ面23a,23bが同一平面上に位置するように、その底面が平面形状を有している。この場合においても、制御部50が、スキージ41によって塗布ヘッド23から余剰の塗布液200が掻き取られることとなるように、リップ面23a,23bにスキージ41を接触させつつ、吐出口24が延在する方向であるX軸方向と直交する方向であるY軸方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に向けてスキージ41を移動させるように、第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御すればよい。
すなわち、制御部50が、上述した第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御することにより、スキージ41が同一平面上に位置するリップ面23a,23bの表面に沿って移動するように(すなわち、スキージ41が塗布ヘッド23に対して相対的に図11中において矢印Bで示す軌跡上を移動することとなるように)、スキージ41および塗布ヘッド23の位置を調節する。これにより、スキージ41が適度な圧接力をもってリップ面23a,23bに接触しつつリップ面23a,23b上を移動することになり、余剰の塗布液200が確実にスキージ41によって掻き取られることになる。
このように、塗布ヘッド23のリップ面23a,23bの形状は、基本的にどのような形状であってもよく、上述した第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御部50において適切に制御することにより、スキージ41をリップ面23a,23bに沿って移動させることで余剰の塗布液200を短時間にムラなく確実に除去することができる。
(実施の形態2)
図12は、本発明の実施の形態2における塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。以下、この図12を参照して、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法について説明する。
図12は、本発明の実施の形態2における塗布装置のクリーニング動作時における塗布部およびクリーニング部の状態を示す図である。以下、この図12を参照して、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法について説明する。
図12に示すように、本実施の形態における塗布装置にあっては、クリーニング部が一対(すなわち2つ)のスキージ41A,41Bを有している。スキージ41Aは、塗布ヘッド23のリップ面23aに接触して当該リップ面23a上を移動するものであり、スキージ41Bは、塗布ヘッド23のリップ面23bに接触して当該リップ面23b上を移動するものである。なお、一対のスキージ41A,41Bは、図示しない第1位置調節機構および第2位置調節機構によってそれぞれ塗布ヘッド23に対する相対的な位置が個別に調節されるものである。
ここで、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法においては、クリーニング動作時において、制御部50が、スキージ41A,41Bによって塗布ヘッド23から余剰の塗布液200が掻き取られることとなるように、リップ面23a,23bにスキージ41A,41Bをそれぞれ対応づけて接触させつつ、吐出口24が延在する方向であるX軸方向と直交する方向であるY軸方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に向けてスキージ41A,41Bをそれぞれ移動させるように、第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御する。
より詳細には、制御部50は、リップ面23a,23bのうちのY軸方向において吐出口24に隣接して位置する一端側のリップ面23aから吐出口24に向けてスキージ41Aを移動させるとともに、リップ面23a,23bのうちのY軸方向において吐出口24に隣接して位置する他端側のリップ面23bから吐出口24に向けてスキージ41Bを移動させ、これら一対のスキージ41A,41Bが最終的に吐出口24の開口面上において突き当たるようにその移動を制御する。
このとき、制御部50は、上述した第1駆動機構としてのステージ駆動機構51、塗布ヘッド駆動機構52およびスキージ駆動機構53の動作を制御することにより、スキージ41A,41Bがそれぞれリップ面23a,23bの表面に沿って移動するように(すなわち、スキージ41A,41Bがそれぞれ塗布ヘッド23に対して相対的に図12中において矢印Cで示す軌跡上を移動することとなるように)、スキージ41A,41Bおよび塗布ヘッド23の位置を調節する。これにより、スキージ41A,41Bが適度な圧接力をもってそれぞれリップ面23a,23bに接触しつつリップ面23a,23b上をそれぞれ移動することになり、余剰の塗布液200が確実にスキージ41によって掻き取られることになる。
なお、スキージ41A,41Bによって掻き取られた塗布液200は、下方に向けて落下することで回収容器43によって回収される。
このように、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法においても、上述した実施の形態1の場合と同様に、スキージ41A,41Bをスリット状の吐出口24が延在する方向と直交する方向(すなわち、吐出口24の短手方向)に沿ってそれぞれ移動させるものであるため、塗布ヘッド23のクリーニングが短時間で終了することになるとともに、クリーニング動作後であって塗布動作までの間において、スリット状の吐出口24の部位ごとに自重および残留圧力によって吐出口24から垂れ下がる塗布液200の量に差が発生することが抑制され、塗布動作の初期段階においてワーク100に供給される塗布液200の量に差が生じることが低減される。
したがって、本実施の形態における塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法とすることにより、上述した実施の形態1の場合と同様に、クリーニング動作のタクトタイムが非常に短くて済むことになるとともに、ワーク100の表面に均一な膜厚の塗布膜201を形成することが可能になる。
なお、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部とクリーニング部とがY軸方向に沿って一体的に移動するように構成した場合を例示したが、これに限定されるものではなく、ワーク載置部とクリーニング部とがY軸方向に沿って個別に移動するように構成してもよい。
また、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部およびクリーニング部がY軸方向に沿って移動するように構成するとともに、塗布部がY軸方向に沿って移動しないように構成した場合を例示したが、これに限定されるものではなく、塗布部がY軸方向に沿って移動するように構成するとともに、ワーク載置部およびクリーニング部がY軸方向に沿って移動しないように構成してもよい。
また、上述した本発明の実施の形態においては、スキージのY軸方向およびZ軸方向の位置のみが可変に調節されるように構成した場合を例示したが、スキージがX軸方向を回転中心に回転可能に構成されていてもよい。この場合には、以下の2通りの構成が想定される。
第1の構成は、スキージを回転自在に支持するとともに所定の付勢力をもってこれを付勢する構成である。当該第1の構成を採用した場合には、スキージを塗布ヘッドのリップ面に接触させた状態においてスキージをリップ面にならわせることが可能になり、より安定的に余剰の塗布液を掻き取ることが可能になる。
第2の構成は、スキージの角度を可変に調節する角度調節機構をスキージ支持部に付設するとともに、当該角度調節機構の動作を制御部にて制御する構成である。当該第2の構成を採用した場合には、塗布ヘッドのリップ面に対して接触するスキージの角度を任意の角度に調節することが可能になるため、リップ面が非平面形状である場合等においてリップ面の形状にあわせてクリーニング動作中(すなわち、リップ面上をスキージが移動する際)にスキージの角度が変わるように制御することにより、より確実に余剰の塗布液を掻き取ることが可能になる。
また、上述した本発明の実施の形態においてはその詳細な説明は省略したが、クリーニング動作時においてスキージによってクリーニングされる塗布ヘッドのリップ面の領域は、吐出口から垂れ下がった余剰の塗布液およびリップ面に付着した余剰の塗布液が除去される限りにおいて、リップ面の全域であってもよいし、リップ面の一部の領域であってもよい。当該領域の設定は、余剰の塗布液がリップ面に付着する範囲を見極めて適宜設定すればよい。
ただし、塗布ヘッドに付着した余剰の塗布液がクリーニング動作によって確実に塗布ヘッドから除去されるようにするためには、塗布ヘッドのスキージによる掻き取り完了側の端部において、スキージが塗布ヘッドを通り越してオーバーランするように制御することが好ましい。このようにすれば、余剰の塗布液が塗布ヘッドからスキージにより確実に載り移るようになるため、繰り返しのクリーニング動作によって塗布液が塗布ヘッドの上記掻き取り完了側の端部に残留して蓄積してしまうことが防止できる。
また、上述した本発明の実施の形態においては、その詳細な説明は省略したが、仕様の変更等に伴って塗布ヘッドのリップ面の形状や塗布液の粘度等が変わった場合には、スキージによる掻き取りの最適条件も変わるため、スキージの塗布ヘッドに対する相対的な移動速度やスキージの塗布ヘッドに対する押し付け圧力、スキージのリップ面に対する角度等は、これらが任意に変更できる構成とすることが好ましい。また、これらを可変に調節可能に構成して最適条件に設定することにより、スキージの摩耗粉の発生を抑制したり、スキージの寿命が向上したりする効果を得ることもできる。
また、上述した本発明の実施の形態においては、ワーク載置部と塗布部とが相対的に移動するように構成されたスリットコータに本発明を適用した場合を例示したが、これらが相対的に移動しないように構成されたスリットタイプのディスペンサに本発明を適用することも可能である。すなわち、スリットコータは、ワークの表面に塗布液を広げることで塗布膜を形成するものであるが、スリットタイプのディスペンサは、ワークの表面に塗布液(たとえば接着剤等)を線状に塗布するものであり、当該ディスペンサにおいてもクリーニングに要するタクトタイムの短縮や塗布量を均一にする観点から、本発明の適用が可能である。
このように、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって画定され、また特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
1 塗布装置、10 ベース、11 ガイドレール、12 ステージ、13 ステージ支持部、20 塗布部、21 ガントリ、22 ヘッド支持部、23 塗布ヘッド、23a,23b リップ面、24 吐出口、25 吐出路、30 ワーク載置部、31 テーブル、32 保持板、40 クリーニング部、41,41A,41B スキージ、42 スキージ支持部、43 回収容器、50 制御部、51 ステージ駆動機構、52 塗布ヘッド駆動機構、53 スキージ駆動機構、100 ワーク、200 塗布液、201 塗布膜。
Claims (10)
- ワークに対して塗布液を塗布する塗布ヘッドと、
前記塗布ヘッドをクリーニングするスキージと、
前記塗布ヘッドと前記スキージとを相対的に移動させる第1駆動機構と、
前記第1駆動機構の動作を制御する制御部とを備え、
前記塗布ヘッドは、塗布液を吐出するスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有し、
前記制御部は、前記塗布ヘッドをクリーニングするに際し、前記スキージによって前記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られることとなるように、前記リップ面に前記スキージを接触させつつ、前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記スキージを移動させるように、前記第1駆動機構の動作を制御する、塗布装置。 - 前記吐出口が延在する方向に沿った前記スキージの長さが、前記吐出口が延在する方向に沿った前記吐出口の長さよりも長い、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記スキージによって掻き取られた余剰の塗布液を溜め受ける回収容器をさらに備え、
前記スキージと前記回収容器とが、一体的に移動するように構成されている、請求項1または2に記載の塗布装置。 - 前記吐出口が設けられた前記リップ面は、先細り形状を有し、
前記第1駆動機構は、前記塗布ヘッドおよび前記スキージの水平方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第1位置調節機構と、前記塗布ヘッドおよび前記スキージの鉛直方向に沿った相対的な位置を可変に調節する第2位置調節機構とを含み、
前記制御部は、先細り形状を有する前記リップ面に沿って前記スキージを移動させるように、前記第1位置調節機構および前記第2位置調節機構の動作を制御する、請求項1から3のいずれかに記載の塗布装置。 - 前記スキージを単数備え、
前記制御部は、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する一端側から前記吐出口を横断して前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する他端側に向けて前記単数のスキージを移動させるように、前記第1駆動機構の動作を制御する、請求項1から4のいずれかに記載の塗布装置。 - 前記スキージを一対備え、
前記制御部は、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する一端側から前記吐出口に向けて前記一対のスキージの一方を移動させるとともに、前記リップ面の前記吐出口に隣接して位置する他端側から前記吐出口に向けて前記一対のスキージの他方を移動させるように、前記第1駆動機構の動作を制御する、請求項1から4のいずれかに記載の塗布装置。 - ワークが載置されるワーク載置部と、
前記ワーク載置部と前記塗布ヘッドとを相対的に移動させる第2駆動機構とをさらに備え、
前記第2駆動機構は、前記制御部によってその動作が制御され、
前記制御部は、ワークに対して塗布液を塗布するに際し、ワークの表面上に塗布膜が形成されることとなるように、前記吐出口から塗布液が吐出された状態を維持しつつ、前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を移動するように、前記第2駆動機構の動作を制御する、請求項1から6のいずれかに記載の塗布装置。 - 前記スキージと前記ワーク載置部とが、一体的に移動するように構成されている、請求項7に記載の塗布装置。
- ワークに対して塗布液を塗布するために前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を移動するに際して、前記ワーク載置部が前記吐出口の下方を通過するに先だって前記塗布ヘッドがクリーニングされることとなるように、前記スキージおよび前記ワーク載置部が移動を開始する前の状態において、前記スキージが、前記ワーク載置部から見て前記塗布ヘッドが位置する側に配置されている、請求項8に記載の塗布装置。
- 塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口が設けられたリップ面を下端に有する塗布ヘッドをスキージを用いてクリーニングする、塗布ヘッドのクリーニング方法であって、
前記スキージを前記リップ面に接触させつつ前記吐出口が延在する方向と略直交する方向に向けて前記スキージを移動させることにより、前記スキージによって前記塗布ヘッドから余剰の塗布液が掻き取られるようにする、塗布ヘッドのクリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013172147A JP2015039668A (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | 塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013172147A JP2015039668A (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | 塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015039668A true JP2015039668A (ja) | 2015-03-02 |
Family
ID=52694140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013172147A Pending JP2015039668A (ja) | 2013-08-22 | 2013-08-22 | 塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015039668A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115802637A (zh) * | 2023-02-08 | 2023-03-14 | 苏州康尼格电子科技股份有限公司 | Pcba封装设备 |
-
2013
- 2013-08-22 JP JP2013172147A patent/JP2015039668A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115802637A (zh) * | 2023-02-08 | 2023-03-14 | 苏州康尼格电子科技股份有限公司 | Pcba封装设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102688830B (zh) | 涂布装置和涂布方法 | |
KR101005955B1 (ko) | 예비 토출장치 및 예비 토출방법 | |
JP6331192B2 (ja) | 接着剤を基材上に吐出するデバイス | |
TWI544968B (zh) | 塗布方法及塗布裝置 | |
KR20060098332A (ko) | 잉크젯 도포 장치 및 잉크젯 헤드의 클리닝 방법 | |
JP6093480B2 (ja) | 塗布装置、塗布ヘッド及び塗布方法 | |
JP2009172571A (ja) | ペーストディスペンサのペースト塗布方法及びこれに使われる空気圧供給装置 | |
CN104487252A (zh) | 模板擦拭器污渍清洁器组件及其相关方法 | |
JP2017209633A (ja) | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 | |
TWI671208B (zh) | 具有網板穿梭組件的網板打印機 | |
JP2015039668A (ja) | 塗布装置および塗布ヘッドのクリーニング方法 | |
KR20070113524A (ko) | 슬릿 다이 노즐부 세정 장치 | |
TWI276474B (en) | Manufacturing method for substrates with resist films | |
KR101705941B1 (ko) | 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 롤 프린팅 방법 | |
JP2014144386A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP2018187599A (ja) | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 | |
JP6223221B2 (ja) | 光学接続部品製造装置および高分子材料被膜形成装置 | |
JP5999517B2 (ja) | ディスペンシング用のジェットバルブのノズル掃除ブレード | |
JP5160953B2 (ja) | 予備塗布装置、塗布装置及び予備塗布装置の洗浄方法 | |
JP5413727B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP7199507B2 (ja) | 成膜装置及び実装機 | |
TWI554336B (zh) | Plate cleaning and thickening device | |
KR101705931B1 (ko) | 연속 공정이 가능한 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 롤 프린팅 방법 | |
CN217017201U (zh) | 一种简易滴胶喷头更换装置 | |
JP2010155226A (ja) | 予備塗布装置及びそれを備える塗布装置 |