JP2015032731A - 化合物薄膜太陽電池の製造方法及び化合物薄膜太陽電池 - Google Patents
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Abstract
Description
前記パルスレーザー光の1パルスあたりのパルスエネルギー密度(単位J/cm2)と、次パルスがどの程度の時間間隔後に照射されるかを決めるパルス繰り返し(単位Hz)と、次パルスが前のパルスとどの程度重なった箇所に照射されるかを決める下記で定義されるビーム重なり(単位%)
[{(ビーム直径)−(次パルスの移動距離)}/(ビーム直径)]×100
ただし、上記においてビーム直径はパルスレーザー光の試料照射面におけるレーザービームスポットの直径
との計三つの主因子の積で表される数値が、前記光吸収層を含む積層構造部分の溝の側面上部が盛り上がって形成されるリムが前記パルスレーザー光の未照射部位の前記透明導電膜層の表面から高さ100nmより大となるときの値を上限値とし、0を下限値とする範囲で表される条件であることを特徴とする。ここで、第6の発明の化合物薄膜太陽電池の製造方法では、第5の発明におけるパルスエネルギー密度は、前記光吸収層のレーザーアブレーションが起こる閾値以上で、かつ、1J/cm2以下であり、前記パルス繰り返しは、100Hz以上で1MHz以下であることを特徴とする。
図1は、本発明に係る化合物薄膜太陽電池の一実施形態の断面図を示す。同図において、本実施形態の化合物薄膜太陽電池10は、基板11上に、背面電極層12、化合物半導体からなる化合物半導体光吸収層13、バッファ層14、高抵抗バッファ層15及び透明導電膜16がこの順で積層された多層膜構造である。また、この化合物薄膜太陽電池10には、いずれもレーザー光線を走査してライン状の溝を形成する3種類のレーザースクライブ工程により別々に3種類の分割溝が形成されている。すなわち、背面電極層除去レーザースクライブ工程(以下、第1のレーザースクライブ工程という)で所定の溝幅の分割溝(以下、これを「第一分割溝」という)17が形成され、高抵抗バッファ/バッファ/光吸収層除去レーザースクライブ工程(以下、第2のレーザースクライブ工程という)で所定の溝幅の分割溝(以下、これを「第二分割溝」という)18が形成され、透明導電膜/高抵抗バッファ/バッファ/光吸収層除去レーザースクライブ工程(以下、第3のレーザースクライブ工程という)で所定の溝幅の分割溝(以下、これを「第三分割溝」という)19が形成され、複数の領域(複数の太陽電池セル)に分離されている。
[{(ビーム直径)−(次パルスの移動距離)}/(ビーム直径)]×100
で定義される。また、「ビーム直径」はレーザー光の試料照射面におけるレーザービームスポット(集光痕)の直径である。
[実施例1]
[実施例2]
[比較例1]
[比較例2]
11、11a、11b、11c 基板
12、12a、12b、12c 背面電極層
13、13a、13b、13c 化合物半導体光吸収層
14、14a、14b、14c バッファ層
15、15a、15b、15c 高抵抗バッファ層
16、16a、16b、16c 透明導電膜層
17 第一分割溝
18 第二分割溝
19 第三分割溝
21a、21b、21c、21d スクライブ後の背面電極層領域
22a、22b、22c、22d スクライブ後の化合物半導体光吸収層及びバッフ ァ層からなる積層部分領域
23a、23b、23c スクライブ後の化合物半導体光吸収層から透明導 電膜までの積層構造部分領域
31 レーザースクライブにより削除された端部
32 導線
33、34 電極
100 レーザースクライビング装置
101 制御用コンピュータ
102 パルスレーザー光源
103 アッテネータ
104 ミラー
105 ガルバノ走査ミラー
106 f-θレンズ
107 試料
Claims (8)
- 基板上に少なくとも背面電極層と化合物半導体からなる光吸収層と透明導電膜層との順で積層された積層構造を有する構造体に対し、パルスレーザー光を前記積層構造の最上層の所定箇所に照射しつつライン状に走査するとともに、1回のライン走査では溝形成が達成されない程度に1パルスあたりのレーザーエネルギー密度を低減させた状態で、かつ、次パルスがどの程度の時間間隔後に照射されるかを決めるパルス繰り返しと、照射面における前記パルスレーザー光のビーム重なりとを一定値以下に抑えた所定の照射条件で、前記積層構造の最上層の同じ箇所を複数回ライン走査することにより、前記積層構造のうち少なくとも前記光吸収層から前記透明導電膜層までの積層構造部分の前記所定箇所にライン状の所定幅の溝を形成して除去するレーザースクライブを行う工程を少なくとも有するレーザースクライブ工程を含み、
前記溝の部分が除去された前記積層構造部分を有し、かつ、前記基板上の前記背面電極層を含む構造体を薄膜太陽電池セルとし、複数の前記薄膜太陽電池セルが互いに電気的に接続された化合物薄膜太陽電池を製造することを特徴とする化合物薄膜太陽電池の製造方法。 - 前記レーザースクライブ工程は、
前記基板上に形成された前記背面電極層にレーザー光を走査して前記背面電極層のみにライン状の第一分割溝を形成して前記背面電極層を第1の複数の領域に分割する第1のレーザースクライブ工程と、
前記第一分割溝が形成された前記背面電極層上に、前記化合物半導体からなる光吸収層、バッファ層及び高抵抗バッファ層の順で積層された、又は前記光吸収層のみが積層された構造体の最上層に、前記パルスレーザー光を前記所定の照射条件により照射しつつライン状に走査して、前記構造体のうち前記背面電極層以外の第1の積層構造部分にライン状の第二分割溝を形成して前記第1の積層構造部分を第2の複数の領域に分割する第2のレーザースクライブ工程と、
前記第二分割溝が形成された前記第1の積層構造部分と露出している前記背面電極層との上に前記透明導電膜層が製膜された構造体の前記透明導電膜層に、前記パルスレーザー光を前記所定の照射条件により照射しつつライン状に走査して、前記背面電極層を残して前記第二分割溝が形成された前記第1の積層構造部分と前記透明導電膜層とからなる第2の積層構造部分にライン状の第三分割溝を形成して前記第2の積層構造部分を第3の複数の領域に分割する第3のレーザースクライブ工程と、
からなることを特徴とする請求項1記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法。 - 前記レーザースクライブ工程は、
前記基板上の前記背面電極層の上に、前記化合物半導体からなる光吸収層、バッファ層及び高抵抗バッファ層の順で積層された、又は前記光吸収層のみが積層された構造体の上面に前記透明導電膜層が製膜された積層構造を有する構造体に対し、前記パルスレーザー光を前記所定の照射条件により前記透明導電膜層の端部を含む前記所定箇所に照射しつつライン状に走査することにより、前記光吸収層から前記透明導電膜層までの積層構造部分の端部に前記所定幅の溝を形成して当該積層構造部分の前記所定幅の端部を除去する単一のレーザースクライブ工程であることを特徴とする請求項1記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法。 - 前記パルスレーザー光は、パルス幅がピコ秒又はフェムト秒オーダーの超短パルスレーザーであることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか一項記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法。
- 前記所定の照射条件は、
前記パルスレーザー光の前記1パルスあたりのパルスエネルギー密度(単位J/cm2)と、次パルスがどの程度の時間間隔後に照射されるかを決める前記パルス繰り返し(単位Hz)と、次パルスが前のパルスとどの程度重なった箇所に照射されるかを決める下記で定義される前記ビーム重なり(単位%)
[{(ビーム直径)−(次パルスの移動距離)}/(ビーム直径)]×100
ただし、上記においてビーム直径は前記パルスレーザー光の試料照射面におけるレーザービームスポットの直径
との計三つの主因子の積で表される数値が、前記光吸収層を含む積層構造部分の溝の側面上部が盛り上がって形成されるリムが前記パルスレーザー光の未照射部位の前記最上層の表面から高さ100nmより大となるときの値を上限値とし、0を下限値とする範囲で表される条件であることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法。 - 前記パルスエネルギー密度は、前記光吸収層のレーザーアブレーションが起こる閾値以上で、かつ、1J/cm2以下であり、前記パルス繰り返しは、100Hz以上で1MHz以下であることを特徴とする請求項5記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法。
- 基板上に少なくとも背面電極層と化合物半導体からなる光吸収層と透明導電膜層との順で積層された積層構造を有し、
前記積層構造のうち少なくとも前記光吸収層から前記透明導電膜層までの積層構造部分の最上層の所定箇所に、パルス幅がピコ秒又はフェムト秒オーダーの超短パルスレーザー光を1回のライン走査では溝形成が達成されない程度の1パルスあたりのレーザーエネルギー密度で、前記最上層の同じ箇所を複数回ライン走査して前記所定箇所にライン状の所定幅の溝を形成して除去するレーザースクライブを行う工程を少なくとも有するレーザースクライブ工程を含み、
前記溝の部分が除去された前記積層構造部分を有し、かつ、前記基板上の前記背面電極層を含む構造体を薄膜太陽電池セルとし、複数の前記薄膜太陽電池セルが互いに電気的に接続されており、
前記溝の溝幅は10μm〜40μmであり、前記溝の側面上部が盛り上がって形成されるリムが前記超短パルスレーザー光の未照射部位の前記透明導電膜層の表面から高さ0〜100nmであることを特徴とする化合物薄膜太陽電池。 - 請求項1乃至6のうちいずれか一項記載の化合物薄膜太陽電池の製造方法により製造された化合物薄膜太陽電池であって、
前記溝の溝幅は10μm〜40μmであり、前記溝の側面上部が盛り上がって形成されるリムが前記パルスレーザー光の未照射部位の前記透明導電膜層の表面から高さ0〜100nmであることを特徴とする化合物薄膜太陽電池。
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