JP2015023094A - 円形ウェーハの加工方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 12
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 12
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 10
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
Description
11a 表面
11b 裏面
13 ストリート(分割予定ライン)
15 デバイス
17 マーク
19 表面保護テープ
21 基材
23 糊層
25 印
25a,25b 直線
27 フレーム
29 ダイシングテープ
L レーザービーム
L1 集光点(焦点)
2 レーザー照射装置
4 チャックテーブル
6 撮像ユニット
8 レーザー照射ユニット
10 集光レンズ
12 研削装置
14 スピンドル
16 ホイールマウント
18 研削ホイール(研削手段)
18a ホイール基台
18b 研削砥石
20 ボルト
22 保持テーブル(保持手段)
Claims (2)
- 裏面に結晶方位を示すマークが形成された円形ウェーハの加工方法であって、
円形ウェーハの表面に基材と糊層とからなる表面保護テープを貼着する貼着ステップと、
該貼着ステップを実施した後、該基材に対して透過性を有するとともに該糊層に対して吸収性を有する波長のレーザービームを円形ウェーハの該マークに対応した位置の該表面保護テープに照射して該表面保護テープの該糊層を変質させることで該表面保護テープに円形ウェーハの結晶方位を示す印を形成する印形成ステップと、
該印形成ステップを実施した後、円形ウェーハの該表面保護テープを保持手段で保持して円形ウェーハの裏面を研削手段で研削する研削ステップと、を備え、
該研削ステップで該マークが除去された後も該表面保護テープに形成された該印で円形ウェーハの結晶方位を判別可能としたことを特徴とする円形ウェーハの加工方法。 - 円形ウェーハは、シリコンウェーハであり、
前記印形成ステップで照射されるレーザービームは、炭酸ガスをレーザー媒質として発振されたレーザービームであることを特徴とする請求項1に記載の円形ウェーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013148773A JP6116421B2 (ja) | 2013-07-17 | 2013-07-17 | 円形ウェーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013148773A JP6116421B2 (ja) | 2013-07-17 | 2013-07-17 | 円形ウェーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015023094A true JP2015023094A (ja) | 2015-02-02 |
JP6116421B2 JP6116421B2 (ja) | 2017-04-19 |
Family
ID=52487316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013148773A Active JP6116421B2 (ja) | 2013-07-17 | 2013-07-17 | 円形ウェーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6116421B2 (ja) |
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- 2013-07-17 JP JP2013148773A patent/JP6116421B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6116421B2 (ja) | 2017-04-19 |
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