JP2014534607A5 - - Google Patents

Description

好ましい実施の形態の動作を例証するために上の記載がなされており、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解される。上の説明から、当業者にとって、本発明の意図及び範囲に包含される多くの変形例があることが自明である。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項をそのまま付記しておく。
［１］
ターゲットに１以上のビームを投影するための投影システムであって、この投影システムは、
フレームと、
前記１以上のビームを与えるためのビーム源と、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するための投影光学系とを有する投影モジュールと、
前記ターゲットを運ぶためのキャリアと、前記ターゲットを運んで位置決めするためのステージとを有するターゲット位置決めモジュールと、
前記キャリアに対する前記投影モジュールの位置を測定するための測定システムと、
前記測定された位置に基づいて前記投影モジュールの下に前記ターゲットを位置決めするために前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用された制御器とを具備し、
前記投影モジュールは、前記フレームから前記投影モジュールへの振動の伝搬を緩衝するためのフレキシブルカップリングを介して前記フレームに接続され、前記制御器は、前記測定システムによって測定されるような残余振動を補正するために前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用され、前記フレキシブルカップリングは、前記水平面に沿った前記ターゲット位置決めモジュールに対する前記投影モジュールの移動を与えるために、ほぼ水平面に沿って実質的に緩いことを特徴とする投影システム。
［２］
前記投影モジュールは、前記フレキシブルカップリングの下に実質的に完全に配置されている請求項１の投影システム。
［３］
前記フレキシブルカップリングは、吊るされているようにして、好ましくは、前記光学モジュールが前記フレームから自由に吊るされているように、前記フレームから垂下されている請求項１又は２の投影システム。
［４］
前記フレキシブルカップリングは、前記フレームの内部に配置された可撓性部分を有する請求項１ないし３のいずれか１の投影システム。
［５］
前記投影モジュールは、前記フレームによりも前記ターゲットに実質的に近くに位置された質量中心を有する請求項１ないし４のいずれか１の投影システム。
［６］
前記フレキシブルカップリングは、その中心線に沿って第１の所定の長さを有し、前記投影モジュールは、前記フレキシブルカップリングの前記中心線にほぼ平行にその中心線に沿った第２の所定の長さを有し、前記第２の所定の長さは、好ましくは、少なくとも４倍、第１の所定の長さよりも実質的に短い請求項１ないし５のいずれか１の投影システム。
［７］
前記フレーム、投影モジュール、フレキシブルカップリング及びターゲット位置決めシステムを囲む真空チャンバをさらに具備する請求項１ないし６のいずれか１の投影システム。
［８］
前記フレキシブルカップリングは、緩いカップリングであるか、緩いカップリングを有する請求項１ないし７のいずれか１の投影システム。
［９］
前記フレキシブルカップリングは、前記水平面に垂直な方向に沿って実質的に硬質である請求項１ないし７のいずれか１の投影システム。
［１０］
前記フレキシブルカップリングは、高周波振動を緩衝するように適用され、前記制御器は、残余の低周波振動を補正するように適用される請求項１ないし９のいずれか１の投影システム。
［１１］
前記フレキシブルカップリングは、５Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも大きい、好ましくは、３．５Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも大きい、より好ましくは１Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも大きい周波数を有する振動を緩衝するように適用される請求項１ないし１０のいずれか１の投影システム。
［１２］
前記キャリアは、前記フレームから前記キャリアへの振動から実質的に分離される請求項１ないし１１のいずれか１の投影システム。
［１３］
前記ターゲット位置決めモジュールは、前記キャリアを運んで移動させるためのローレンツモータを有する請求項１２の投影システム。
［１４］
前記ターゲット位置決めモジュールは、残余振動を補正するために６の自由度でステージに対するターゲットの移動を与えるように適用される請求項１ないし１３のいずれか１の投影システム。
［１５］
前記フレームから前記フレキシブルカップリングへの、及びその逆の振動を緩衝するための緩衝装置をさらに具備し、前記フレキシブルカップリングは、前記緩衝装置を介して前記フレームに接続されている請求項１ないし１４のいずれか１の投影システム。
［１６］
前記緩衝装置は、好ましくは前記キャリアの運搬面にほぼ垂直な平面内に曲がるように配置された１以上の板ばねを有する請求項１ないし１５のいずれか１の投影システム。
［１７］
前記フレキシブルカップリングは、サスペンションを有する請求項１ないし１６のいずれか１の投影システム。
［１８］
前記サスペンションは、１以上のサスペンションロッドを、好ましくは、３つのほぼ平行なサスペンションロッドを有する請求項１７の投影システム。
［１９］
前記１以上のサスペンションロッドの各々は、単一ピースとして、好ましくはアルミニウムのような金属から実質的に形成されている請求項１８の投影システム。
［２０］
前記サスペンションは、径方向の振動周波数を有する振り子式サスペンションであり、前記振り子式サスペンションは、前記径方向の振動周波数よりも高い周波数を有する振動の前記フレームから前記投影モジュールへの伝搬を緩衝するように適用される請求項１７ないし１９のいずれか１の投影システム。
［２１］
前記径方向の振動周波数は、５Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも小さい、より好ましくは、３．５Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも小さい、最も好ましくは、１Ｈｚに実質的に等しい請求項２０の投影システム。
［２２］
前記残留振動を測定するための測定システムは、前記投影モジュールに含まれるか、前記投影モジュールに固定して接続される請求項１ないし２１のいずれか１の投影システム。
［２３］
前記測定システムは、前記残留振動を少なくとも測定するための１以上の干渉計を有する請求項２２の投影システム。
［２４］
前記投影モジュールが前記フレームに対して移動している間、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するように適用される請求項１ないし２３のいずれか１の投影システム。
［２５］
前記投影モジュールは、好ましくは、前記フレームに対して前記ターゲットの移動の間、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するためのマスクレスマルチプルビーム投影モジュールを有する請求項１ないし２４のいずれか１の投影システム。
［２６］
前記フレキシブルカップリングは、ほぼ一定の長さを保持するように適用される請求項１ないし２５のいずれか１の投影システム。
［２７］
ターゲットに１以上のビームを投影するための投影システムであって、この投影システムは、
フレームと、
前記１以上のビームを与えるためのビーム源と、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するための投影光学系とを有する投影モジュールと、
前記ターゲットを運ぶためのキャリアと、前記ターゲットを運んで位置決めするためのステージとを有するターゲット位置決めモジュールと、
前記キャリアに対して前記投影モジュールの位置を測定するための測定システムと、
前記所定の位置に基づいて前記投影モジュールの下に前記ターゲットを位置決めするために前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用された制御器とを具備し、
前記投影モジュールは、前記フレームから前記投影モジュールへの振動の伝搬を緩衝するために可撓性の（緩い）フレキシブルカップリングを介して前記フレームに接続され、
前記制御器は、前記測定システムによって測定されるような残余振動を補正するために前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用されることを特徴とする投影システム。
［２８］
請求項１ないし２７のいずれか１の投影システムを具備するリソグラフィシステム。
［２９］
前記１以上のビームは、前記ターゲットをパターニングするための描画ビームであり、好ましくは、前記ビーム源は、荷電粒子ビーム源である請求項２８のリソグラフィシステム。

Claims (29)

1. ターゲット（１０）に１以上のビームを投影するための投影システム（１）であって、この投影システムは、
   フレーム（２）と、
   前記１以上のビーム（ｂ）を与えるためのビーム源と、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するための投影光学系とを有する投影モジュール（２０）と、
   前記ターゲットを運ぶためのキャリア（３１）と、前記ターゲットを運んで位置決めするためのステージとを有するターゲット位置決めモジュール（３０）と、
   前記キャリア（３１）に対する前記投影モジュール（２０）の位置を測定するための測定システム（２４）と、
   前記測定された位置に基づいて前記投影モジュールの下に前記ターゲットを位置決めするために前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用された制御器（８０）とを具備し、
   前記投影モジュール（２０）は、前記フレーム（２）から前記投影モジュール（２０）への振動の伝搬を緩衝するためのフレキシブルカップリング（６１，６２，６３）を介して前記フレームに接続され、
   前記ビーム源を含む前記投影モジュール（２０）は、前記キャリアのターゲット支持表面と平行な平面で前記フレームに対して移動可能であり、
   前記制御器は、前記測定システムによって測定されるような残余振動を補正するために、前記フレーム（２）に対して前記ターゲット（１０）を移動させるための前記ターゲット位置決めモジュールを制御するように適用されることを特徴とする、投影システム。
2. 前記投影モジュールは、前記フレキシブルカップリングの下に完全に配置されている、請求項１に記載の投影システム。
3. 前記フレキシブルカップリングは、吊るされているようにして、前記光学モジュールが前記フレームから自由に吊るされているように、前記フレームから垂下されている、請求項１又は２に記載の投影システム。
4. 前記フレキシブルカップリングは、前記フレームの内部に配置された可撓性部分を有する、請求項１ないし３のいずれか１に記載の投影システム。
5. 前記投影モジュールは、前記フレームによりも前記ターゲットに近くに位置された質量中心を有する、請求項１ないし４のいずれか１に記載の投影システム。
6. 前記フレキシブルカップリングは、その中心線に沿って第１の所定の長さを有し、前記投影モジュールは、前記フレキシブルカップリングの前記中心線に平行にその中心線に沿った第２の所定の長さを有し、前記第２の所定の長さは、少なくとも４倍、第１の所定の長さよりも短い、請求項１ないし５のいずれか１に記載の投影システム。
7. 前記フレーム、投影モジュール、フレキシブルカップリング及びターゲット位置決めモジュールを囲む真空チャンバをさらに具備する、請求項１ないし６のいずれか１に記載の投影システム。
8. 前記フレキシブルカップリングは、緩いカップリングであるか、緩いカップリングを有する、請求項１ないし７のいずれか１に記載の投影システム。
9. 前記フレキシブルカップリングは、前記水平面に垂直な方向に沿って硬質である、請求項１ないし７のいずれか１に記載の投影システム。
10. 前記フレキシブルカップリングは、前記測定システムによって測定された前記残余振動に基づいた前記投影光学系の下で前記キャリアを移動させるように、前記ターゲット位置決めモジュールを制御することによって、高周波振動を緩衝するように適用され、前記制御器は、残余の低周波振動を補正するように適用される、請求項１ないし９のいずれか１に記載の投影システム。
11. 前記フレキシブルカップリングは、５Ｈｚに実質的に等しいかそれよりも大きい周波数を有する振動を緩衝するように適用される、請求項１ないし１０のいずれか１に記載の投影システム。
12. 前記キャリアは、前記フレームから前記キャリアへの振動から分離される、請求項１ないし１１のいずれか１に記載の投影システム。
13. 前記ターゲット位置決めモジュールは、前記キャリアを運んで移動させるためのローレンツモータを有する、請求項１２に記載の投影システム。
14. 前記ターゲット位置決めモジュールは、前記キャリアが配置される微小動きステージを備え、前記ターゲット位置決めモジュールの前記微小動きステージは、前記残余振動を補正するために６の自由度でステージに対するターゲットの移動を与えるように適用される、請求項１ないし１３のいずれか１に記載の投影システム。
15. 前記フレームから前記フレキシブルカップリングへの、及びその逆の振動を緩衝するための緩衝装置をさらに具備し、前記フレキシブルカップリングは、前記緩衝装置を介して前記フレームに接続されている、請求項１ないし１４のいずれか１に記載の投影システム。
16. 前記緩衝装置は、前記キャリアの運搬面に垂直な平面内に曲がるように配置された１以上の板ばね（７３）を有する、請求項１ないし１５のいずれか１に記載の投影システム。
17. 前記フレキシブルカップリングは、サスペンションを有する、請求項１ないし１６のいずれか１に記載の投影システム。
18. 前記サスペンションは、３つの平行なサスペンションロッドを有する、請求項１７に記載の投影システム。
19. 前記３つサスペンションロッドの各々は、単一ピースとして形成されている、請求項１８に記載の投影システム。
20. 前記サスペンションは、径方向の振動周波数を有する振り子式サスペンションであり、前記振り子式サスペンションは、前記径方向の振動周波数よりも高い周波数を有する振動の前記フレームから前記投影モジュールへの伝搬を緩衝するように適用される、請求項１７ないし１９のいずれか１に記載の投影システム。
21. 前記径方向の振動周波数は、５Ｈｚに等しいかそれよりも小さい、請求項２０に記載の投影システム。
22. 前記残留振動を測定するための測定システムは、前記投影モジュールに含まれるか、前記投影モジュールに固定して接続される、請求項１ないし２１のいずれか１に記載の投影システム。
23. 前記測定システムは、前記残留振動を少なくとも測定するための１以上の干渉計を有する、請求項２２に記載の投影システム。
24. 前記投影モジュールが前記フレームに対して移動している間、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するように適用される、請求項１ないし２３のいずれか１に記載の投影システム。
25. 前記投影モジュールは、前記フレームに対して前記ターゲットの移動の間、前記ターゲットに前記１以上のビームを投影するためのマスクレスマルチプルビーム投影モジュールを有する、請求項１ないし２４のいずれか１に記載の投影システム。
26. 前記フレキシブルカップリングは、一定の長さを保持するように適用される、請求項１ないし２５のいずれか１に記載の投影システム。
27. 前記フレキシブルカップリングは、水平面に沿った前記ターゲット位置決めモジュールに対する前記投影モジュールの移動を与えるために、水平面に沿って緩い、請求項１ないし２６のいずれか１に記載の投影システム。
28. 請求項１ないし２７のいずれか１に記載の投影システムを具備する、リソグラフィシステム。
29. 前記１以上のビームは、前記ターゲットをパターニングするための描画ビームである、請求項２８に記載のリソグラフィシステム。