JP2014529568A - 消耗電極真空アーク再溶解法によるメタロイドの精製 - Google Patents
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Abstract
Description
この出願は、2011年8月26日付け出願の米国仮出願第61/527,799の利益を主張する。該出願は全体として参照によりここに組み込まれる。
本発明は、消耗電極真空アーク再溶解法によるシリコン等の精製したメタロイドの製造に関する。
(1)金属電極が溶解され、CEVAR炉内の真空に晒しながら、不純物を蒸発させ、(2)溶解されている金属電極よりも低い比重を有する液体(溶解した)金属不純物を浮き出させ、(3)電極の下端部と形成されているインゴット上方の溶解した(液体)金属のプールとの間のアーク域の高エネルギープラズマに分子不純物を晒すことにより分子不純物を分離し、(4)凝固偏析、これは、固体インゴットが形成されている隣接液体金属の不純物レベルよりもある成分では低い、インゴットの固化金属の不純物レベルをもたらす。
最初のプロセスステップは、CEVAR法で使用されることとなるシリコン電極の予熱である。シリコンの固有抵抗は、温度の上昇に伴って急速に低下する。そのため、固体のままであるように(CEVAR溶解法にとって必要な条件)溶解温度未満に留まりながらも十分高温に予熱されたシリコン電極は、十分なアーク電流の通過を許容してCEVAR法が始動することを可能にする。特定のCEVAR溶解法での該電極に対する必要な予熱温度は、該特定のCEVAR溶解法に対するプロセスパラメータによって確定するCEVAR法固有抵抗(CEVAR法抵抗率)に指定され得る。そのような予熱温度は、少なくとも摂氏数百度になることが必要であろう。加えて、電極の予熱温度の増長は電極の初期電圧降下を下げ、そのため、これは、より低電圧、低コストの電源の使用を可能にする。
11 気密CEVAR炉室
12 短CEVAR底部開放型るつぼ
22 インゴットヒータ
24 インゴットヒータコントローラ
32 ベース
34 駆動アクチュエータ
90 電極
92、94 導電
96 ホット固化インゴット
98 プール
Claims (14)
- CEVAR炉に配置された短CEVAR底部開放型るつぼで実行されるCEVAR精製法においてシリコン電極からシリコンインゴットを製造する方法であって、
CEVAR法固有抵抗を有する予熱されたシリコン電極を形成するため、CEVAR精製法の開始前にシリコン電極の溶解点未満の温度にシリコン電極を加熱するステップと、
短CEVAR底部開放型るつぼの開放底部における上昇した温度でのシリコンインゴットの形成のために、CEVAR精製法により前記予熱されたシリコン電極を溶解するステップと、
前記上昇した温度のシリコンインゴットを、短CEVAR底部開放型るつぼに隣接する加熱システムに通過させるステップと、
シリコンインゴットをひび割れを伴うことなく冷却するため、シリコンインゴットが底部開放型るつぼを出る際、前記上昇した温度のシリコンインゴットに対し温度管理された熱環境を提供するために前記加熱システムを調整するステップとを含む方法。 - 前記シリコン電極を加熱するステップは、前記予熱されたシリコン電極をCEVAR炉に配置する前に外部加熱室で行われ、前記予熱されたシリコン電極の外部加熱室からCEVAR炉への移動が管理された環境で成し遂げられる請求項1の方法。
- 前記シリコン電極を加熱するステップは、シリコン電極をCEVAR炉内にシリコン電極に配置した後に行われる請求項1の方法。
- 前記シリコン電極を加熱するステップは、前記予熱されたシリコン電極を形成するため、シリコン電極を摂氏800から1,200度の範囲内の温度に加熱することを更に含む請求項1の方法。
- CEVAR精製法により前記予熱されたシリコン電極を溶解する間、該予熱されたシリコン電極を断熱するステップを更に含む請求項1の方法。
- CEVAR精製法中、前記予熱されたシリコン電極を加熱するための、CEVAR炉内に配置された補助ヒータ装置を更に含む請求項1の方法。
- シリコン電極から精製されたシリコンインゴットを製造するためのCEVAR炉システムであって、
予熱されたシリコン電極を形成すべくシリコン電極を予熱するためのシリコン電極加熱装置と、
気密CEVAR炉室と、
前記予熱されたシリコン電極を溶解するCEVAR精製法からのアーク域の閉じ込めのための短CEVAR底部開放型るつぼにして、気密CEVAR炉室に配置される短CEVAR底部開放型るつぼと、
前記予熱されたシリコン電極の下端部がCEVAR精製法で溶解する際、短CEVAR底部開放型るつぼ内の前記予熱されたシリコン電極を降下させるための予熱シリコン電極駆動システムと、
短CEVAR底部開放型るつぼの開放底部に隣接して配置されるインゴット加熱装置にして、CEVAR精製法で形成されたシリコンインゴットが通過するインゴット加熱装置と、
インゴット加熱装置を通過するシリコンインゴットに温度管理された熱環境を提供すべく、インゴット加熱装置を制御するためのインゴット加熱コントローラと、
CEVAR精製法の定常状態の間、短CEVAR底部開放型るつぼからシリコンインゴットをシリコンインゴットの垂直成長速度で引き出すか、又は短CEVAR底部開放型るつぼを上昇させるためのインゴット引き出し駆動システムにして、シリコン電極及びインゴット加熱装置は、CEVAR精製法の定常状態の間、シリコンインゴットの垂直成長速度にあるインゴット引き出し駆動システムとを備えるCEVAR炉システム。 - 前記短CEVAR底部開放型るつぼの室内高は、CEVAR精製法で形成されるシリコンインゴットの直径の少なくとも60パーセントでかつ120パーセント未満である請求項7のCEVAR炉システム。
- 前記シリコン電極加熱装置から気密CEVAR炉室への移動中、前記予熱されたシリコン電極の空気への露出を防ぐため、シリコン電極加熱装置とCEVAR炉内の短CEVAR底部開放型るつぼとの間に接続される真空ロック室を更に備える請求項7のCEVAR炉システム。
- CEVAR精製法中に予熱されたシリコン電極を加熱するため、気密CEVAR炉室内に配置される補助電極ヒータを更に備える請求項7のCEVAR炉システム。
- 前記インゴット引き出し駆動システムは、シリコンインゴットの底部が着座するベースと、シリコンインゴットを短CEVAR底部開放型るつぼから引き出す速度を制御するために前記ベースに接続される駆動アクチュエータとを更に備える請求項7のCEVAR炉システム。
- 前記ベースは、シリコンインゴットの底部とインターロッキング接続するための外形を有する請求項7のCEVAR炉システム。
- 前記予熱されたシリコン電極とベース又は駆動アクチュエータとに接続される第1出力及び第2出力を有するDC電源を更に備える請求項11のCEVAR炉システム。
- 前記短CEVAR底部開放型るつぼは矩形断面の内壁を有し、 短CEVAR底部開放型るつぼの室内高は、CEVAR精製法で形成されるシリコンインゴットの矩形側部の少なくとも60パーセントでかつ120パーセント未満である請求項7のCEVAR炉システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161527799P | 2011-08-26 | 2011-08-26 | |
US61/527,799 | 2011-08-26 | ||
PCT/US2012/050890 WO2013032703A2 (en) | 2011-08-26 | 2012-08-15 | Purification of a metalloid by consumable electrode vacuum arc remelt process |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014529568A true JP2014529568A (ja) | 2014-11-13 |
JP5945601B2 JP5945601B2 (ja) | 2016-07-05 |
Family
ID=47741677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014527183A Expired - Fee Related JP5945601B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-08-15 | 消耗電極真空アーク再溶解法によるメタロイドの精製 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9340896B2 (ja) |
EP (1) | EP2748355B1 (ja) |
JP (1) | JP5945601B2 (ja) |
KR (1) | KR20140059823A (ja) |
CN (1) | CN103764880B (ja) |
ES (1) | ES2592814T3 (ja) |
HK (1) | HK1197278A1 (ja) |
SG (1) | SG2014013692A (ja) |
TW (1) | TWI547451B (ja) |
WO (1) | WO2013032703A2 (ja) |
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-
2012
- 2012-08-15 KR KR1020147007908A patent/KR20140059823A/ko active IP Right Grant
- 2012-08-15 US US13/586,149 patent/US9340896B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 EP EP12827111.1A patent/EP2748355B1/en not_active Not-in-force
- 2012-08-15 CN CN201280041741.3A patent/CN103764880B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 JP JP2014527183A patent/JP5945601B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 SG SG2014013692A patent/SG2014013692A/en unknown
- 2012-08-15 WO PCT/US2012/050890 patent/WO2013032703A2/en active Application Filing
- 2012-08-15 ES ES12827111.1T patent/ES2592814T3/es active Active
- 2012-08-23 TW TW101130711A patent/TWI547451B/zh active
-
2014
- 2014-10-24 HK HK14110681.7A patent/HK1197278A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2016
- 2016-05-15 US US15/155,045 patent/US20160258684A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103764880A (zh) | 2014-04-30 |
SG2014013692A (en) | 2014-05-29 |
EP2748355B1 (en) | 2016-08-10 |
CN103764880B (zh) | 2016-10-26 |
EP2748355A2 (en) | 2014-07-02 |
WO2013032703A2 (en) | 2013-03-07 |
KR20140059823A (ko) | 2014-05-16 |
WO2013032703A3 (en) | 2013-05-10 |
JP5945601B2 (ja) | 2016-07-05 |
TWI547451B (zh) | 2016-09-01 |
US9340896B2 (en) | 2016-05-17 |
US20130047670A1 (en) | 2013-02-28 |
HK1197278A1 (en) | 2015-01-09 |
US20160258684A1 (en) | 2016-09-08 |
TW201313631A (zh) | 2013-04-01 |
EP2748355A4 (en) | 2015-05-20 |
ES2592814T3 (es) | 2016-12-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150811 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |