JP2014525360A - クリシェおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
溝部パターンを含むクリシェであって、
前記溝部パターンが、互いに交差しない線状パターンからなる領域を含み、
前記線状パターンからなる領域は、その領域内で線状パターンの線を2本以上含むスクエア領域であり、前記線状パターンの線幅(W)と深さ(D)、前記スクエア領域のうち、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)、および前記線状パターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および2を満足する領域を含むことを特徴とするクリシェを提供する。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式2]
D≧42.9exp(−R/0.35)−1.5
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
溝部パターンを含むクリシェであって、
前記溝部パターンが、網状パターンからなる領域を含み、
前記網状パターンからなる領域は、その領域内で網状パターンを構成する線の交差点を3個以上含むスクエア領域であり、前記網状パターンの線幅(W)と深さ(D)、前記スクエア領域のうち、前記網状パターンが具備されない領域の比(R)、および前記網状パターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および4を満足する領域を含むことを特徴とするクリシェを提供する。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式4]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
溝部パターンを含むクリシェであって、
前記溝部パターンが、網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンからなる領域を含み、
前記領域は、その領域内で網状パターンを構成する線の交差点を3個以上含むスクエア領域であり、前記網状パターンの線幅(W)と深さ(D)、前記スクエア領域のうち、前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンが具備されない領域の比(R)、および前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および4を満足する領域を含むことを特徴とするクリシェを提供する。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式4]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
本明細書において、「底接触現象」とは、クリシェ上に印刷ロールを用いてインクを転写する場合、クリシェの溝部パターン内部の底に印刷ロールのインクが接触してインクが転写され、これによって、最終印刷物パターンの不良をもたらす現象を意味する。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式2]
D≧42.9exp(−R/0.35)−1.5
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
[関係式3]
R=P(P−W)/P2=(P−W)/P
ここで、W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式4]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
[関係式5]
R=(P−W)2/P2=(1−W/P)2
ここで、W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
[関係式1]
W=2D+W0+X
[関係式4]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82
ここで、Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
[関係式5]
R=(P−W)2/P2=(1−W/P)2
ここで、W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。
図5に、本発明の一具体例による反射層を含むクリシェを示した。より具体的には、図5によるクリシェは、LCD用ガラス(0.63mm)を用いたもので、溝部パターンの深さ5μm、線幅13μm、ピッチ300μmのメッシュ形態のクリシェである。また、反射層は、Cr(1,300Å)/CrOx(400Å)で構成されており、前記Cr/CrOxでガラスと接する部分はCrOxである。前記反射層は、クリシェ上に2cm×1cmの四角形4個で構成した。
Claims (26)
- 溝部パターンを備えたクリシェであって、
前記溝部パターンが、互いに交差しない線状パターンからなる領域を含んでなり、
前記線状パターンからなる領域が、該領域内で線状パターンの線を2本以上含むスクエア領域であり、前記線状パターンの線幅(W)、前記線状パターンの深さ(D)、前記スクエア領域とのうち、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)、および前記線状パターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および関係式2を満足する領域を含むことを特徴とする、クリシェ。
W=2D+W0+X [関係式1]
D≧42.9exp(−R/0.35)−1.5 [関係式2]
〔上記式中、
Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記スクエア領域において、前記線状パターンの線幅(W)、前記線状パターンのピッチ(P)、および前記スクエア領域のうち、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)が、下記関係式3を追加的に満足することを特徴とする、請求項1に記載のクリシェ。
R=P(P−W)/P2=(P−W)/P [関係式3]
〔上記式中、
W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記線状パターンが、規則または不規則パターンであることを特徴とする、請求項1又は2に記載のクリシェ。
- 前記線状パターンが、直線、曲線、ジグザグ線又はこれらの組み合わせを含むことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記関係式1および関係式2を満足する領域が、全体溝部パターン領域のうち、50%以上であることを特徴とする、請求項1〜4の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記溝部パターンが、前記スクエア領域のうち、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)が互いに異なる2以上のパターンを含んでなり、
前記2以上のパターンが、深さ(D)が同じであり、該深さ(D)が、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)が最も小さいパターンを基準として前記関係式1および関係式2を満足することを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載のクリシェ。 - 前記溝部パターンが、前記スクエア領域のうち、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)が互いに異なる2以上のパターンを含んでなり、
前記2以上のパターンの深さ(D)が、それぞれ前記関係式1および関係式2を満足することを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載のクリシェ。 - 溝部パターンを備えたクリシェであって、
前記溝部パターンが、網状パターンからなる領域を含んでなり、
前記網状パターンからなる領域が、その領域内で網状パターンを構成する線の交差点を3個以上含むスクエア領域であり、
前記網状パターンの線幅(W)、前記網状パターンの深さ(D)、前記スクエア領域とのうち、前記網状パターンが具備されない領域の比(R)、および前記網状パターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および関係式4を満足する領域を含むことを特徴とする、クリシェ。
W=2D+W0+X [関係式1]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82 [関係式4]
〔上記式中、
Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記スクエア領域において、前記網状パターンの線幅(W)、前記網状パターンのピッチ(P)、および前記スクエア領域のうち、前記網状パターンが具備されない領域の比(R)は、下記関係式5を追加的に満足することを特徴とする、請求項8に記載のクリシェ。
R=(P−W)2/P2=(1−W/P)2 [関係式5]
〔上記式中、
W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記網状パターンが、規則または不規則パターンであることを特徴とする、請求項8又は9に記載のクリシェ。
- 前記関係式1および関係式4を満足する領域が、全体溝部パターン領域のうち、50%以上であることを特徴とする、請求項8〜10の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記溝部パターンが、前記スクエア領域のうち、前記網状パターンが具備されない領域の比(R)が互いに異なる2以上のパターンを含んでなり、
前記2以上のパターンが、深さ(D)が同じであり、該深さ(D)が、前記線状パターンが具備されない領域の比(R)が最も小さいパターンを基準として前記関係式1および関係式4を満足することを特徴とする、請求項8〜11の何れか一項に記載のクリシェ。 - 前記溝部パターンが、前記スクエア領域のうち、前記網状パターンが具備されない領域の比(R)が互いに異なる2以上のパターンを含んでなり、
前記2以上のパターンの深さ(D)が、それぞれ前記関係式1および関係式4を満足することを特徴とする、請求項8〜13の何れか一項に記載のクリシェ。 - 溝部パターンを備えた、クリシェであって、
前記溝部パターンが、網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンからなる領域を含んでなり、
前記領域が、該領域内で網状パターンを構成する線の交差点を3個以上含むスクエア領域であり、
前記網状パターンの線幅(W)、前記網状パターンの深さ(D)、前記スクエア領域のうち、前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンが具備されない領域の比(R)、および前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンに対応するパターン形成用マスクパターンの開口線幅(W0)が下記関係式1および関係式4を満足する領域を含むことを特徴とする、クリシェ。
W=2D+W0+X [関係式1]
D≧33.8exp(−R/0.235)+0.82 [関係式4]
〔上記式中、
Xは定数であり、
D、W、W0およびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記スクエア領域において、前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンの線幅(W)、パターンのピッチ(P)、および前記スクエア領域のうち、前記網状パターンおよび網状パターンの分節されたパターンが具備されない領域の比(R)が、下記関係式5を追加的に満足することを特徴とする、請求項14に記載のクリシェ。
R=(P−W)2/P2=(1−W/P)2 [関係式5]
〔上記式中、
W、PおよびXはマイクロメートル単位の値であり、
Rは0超過1未満の値である。〕 - 前記関係式1および関係式4を満足する領域が、全体溝部パターン領域のうち、50%以上であることを特徴とする、請求項14又は15に記載のクリシェ。
- 前記溝部パターンが、パターンが互いに交差しない線状パターン、網状パターンまたはこれらすべてを含むことを特徴とする、請求項1〜16の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記溝部パターンの深さ(D)が、100μm以下であることを特徴とする、請求項1〜17の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記クリシェ上の溝部パターン以外の領域のうちの少なくとも一部領域に具備された反射層を追加的に含むことを特徴とする、請求項1〜18の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記反射層が、金属および金属酸化物からなる群より選択される一種以上を含むことを特徴とする請求項19に記載のクリシェ。
- 前記クリシェが、リバースオフセットプリンティング(reverse offset printing)用であることを特徴とする、請求項1〜20の何れか一項に記載のクリシェ。
- 前記クリシェ上にインクを転写する時、溝部パターンに底接触現象が実質的に発生しないことを特徴とする、請求項1〜21の何れか一項に記載のクリシェ。
- 請求項1〜22の何れか一項に記載のクリシェを用いて製造され、前記クリシェの溝部パターンに対応する印刷パターンを含むことを特徴とする、印刷物。
- 前記印刷パターンが、前記クリシェの溝部パターンに対応する領域のうち、非印刷領域が10%以下であることを特徴とする、請求項23に記載の印刷物。
- 前記印刷パターンの最大線幅および最小線幅の差は50μm以下であることを特徴とする、請求項23又は24に記載の印刷物。
- 請求項23〜25の何れか一項に記載の印刷物を備えてなることを特徴とする、タッチスクリーンセンサ。
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