JP2014514193A5

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Publication number: JP2014514193A5
Application number: JP2014505781A
Authority: JP
Filing date: 2012-04-17
Publication date: 2015-05-14
Anticipated expiration: 2032-04-17

Claims

三次元の造形物を積層造形する方法であって、対象物の断面の形状に従ってそれぞれパターン化される複数の層を連続して形成し、これによって前記造形物を形成するステップ、を含み、
前記複数の層のうちの少なくとも１層において、前記層の前記形成が、ラスタ走査を行って少なくとも第１の構築材料組成物を分配し、ベクタ走査を行って少なくとも第２の構築材料組成物を分配するステップを含んでおり、
前記ベクタ走査が、（ｉ）細長い構造、（ｉｉ）前記第１の構築材料によって満たされた領域を少なくとも部分的に囲んでいる境界構造、（ｉｉｉ）層間結合構造、からなる群から選択される少なくとも１つの構造を形成するように選択される経路に沿う、
方法。
前記第１の構築材料組成物が前記第２の構築材料組成物とは異なる、
請求項１に記載の方法。
前記第１の構築材料組成物が、ほぼ非導電性であり、前記第２の構築材料組成物が、ほぼ導電性である、
請求項１または請求項２に記載の方法。
前記第１の構築材料組成物および前記第２の構築材料組成物のうちの少なくとも一方が、紫外線硬化性成分を含んでいる、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の方法。
前記第１の構築材料組成物および前記第２の構築材料組成物が、前記分配時に異なる温度にある、
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の方法。
前記ベクタ走査が、少なくとも部分的に前記ラスタ走査と同時に行われる、
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の方法。
前記ベクタ走査および前記ラスタ走査が連続して行われる、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の方法。
前記第２の構築材料から溶剤を蒸発させるステップ、をさらに含んでいる、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の方法。
請求項３に記載の方法によって作製可能な回路。
請求項９による回路を含むシステムであり、
センサシステム、ダイオードシステム、トランジスタシステム、メモリシステム、撮像システム、ディスプレイシステム、プロジェクタディスプレイシステム、認識票システム、スマートカードシステムおよびバッテリシステムからなる群の中から選択されるシステム。
三次元の造形物を積層造形するシステムであって、
ラスタ走査を行って前記ラスタ走査時に第１の構築材料組成物を分配するように構成されている第１の分配ヘッドと、
ベクタ走査を行って前記ベクタ走査時に第２の構築材料組成物を分配するように構成されている第２の分配ヘッドと、
複数の層を、対象物の形に対応する形状を有するパターンに連続して形成するように前記第１の分配ヘッドおよび前記第２の分配ヘッドを制御するコントローラと、
を備えており、
（ｉ）細長い構造、（ｉｉ）前記第１の構築材料によって満たされた領域を少なくとも部分的に囲んでいる境界構造、（ｉｉｉ）層間結合構造、からなる群から選択される少なくとも１つの構造を形成するように選択される経路に沿って、前記第２の構築材料組成物が分配されるように、前記コントローラが、前記第２の分配ヘッドを制御するように構成されている、
システム。
前記コントローラが、前記第１のヘッドのラスタ走査を確立して非導電性のモデリング材料を分配し、前記第２のヘッドのベクタ走査を確立して導電性材料を分配することによって、少なくとも１層を形成するように構成されている、
請求項１１に記載のシステム。
前記第１の構築材料および前記第２の構築材料の少なくとも一方が紫外線硬化性であり、前記システムが放射源をさらに備えている、
請求項１１または請求項１２に記載のシステム。
前記第１のヘッドおよび前記第２のヘッドが、独立して移動するように構成されている、
請求項１１から請求項１３のいずれか一項に記載のシステム。
前記第１のヘッドが前記第２のヘッドに堅牢に取り付けられている、
請求項１１から請求項１３のいずれか一項に記載のシステム。
前記ベクタ走査が、少なくとも部分的に前記ラスタ走査と同時に行われる、
請求項１１から請求項１５のいずれか一項に記載のシステム。
前記ベクタ走査および前記ラスタ走査が連続して行われる、
請求項１１から請求項１６のいずれか一項に記載のシステム。