JP2014216631A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての描画装置は、複数のショット領域が形成された基板に荷電粒子線で描画を行う描画装置であって、第１方向に配列された複数の荷電粒子線を個別にブランキングするブランキング機能をそれぞれが有し、且つ、互いに前記第１方向に間隔をもって配置された複数の荷電粒子光学系と、前記基板を保持して移動するステージと、前記複数の荷電粒子光学系のそれぞれが、それに対応する、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配置された複数のストライプ領域のそれぞれに描画を行うように、前記ステージの移動と前記複数の荷電粒子光学系それぞれの前記ブランキング機能とによる前記描画の制御を行う制御部と、を有し、前記制御部は、前記複数の荷電粒子光学系のうち、その前記複数のストライプ領域の１つが、前記複数のショット領域のうち前記第１方向に隣接する第１ショット領域及び第２ショット領域の上に及ぶ第１荷電粒子光学系に関して、前記第２方向において前記ステージを移動させながら前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域のうちの一方の領域だけに前記複数の荷電粒子線のうちの第１の一部の荷電粒子線で描画が行われるように、前記制御を行い、前記制御部は、前記第１荷電粒子光学系に関して、前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記一方の領域に描画が行われた後、前記第２方向とは反対の方向において前記ステージを移動させながら前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域のうちの他方の領域だけに前記複数の荷電粒子線のうちの前記第１の一部とは異なる第２の一部の荷電粒子線で描画が行われるように、前記制御を行う、ことを特徴とする。

Claims (8)

1. 複数のショット領域が形成された基板に荷電粒子線で描画を行う描画装置であって、
   第１方向に配列された複数の荷電粒子線を個別にブランキングするブランキング機能をそれぞれが有し、且つ、互いに前記第１方向に間隔をもって配置された複数の荷電粒子光学系と、
   前記基板を保持して移動するステージと、
   前記複数の荷電粒子光学系のそれぞれが、それに対応する、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配置された複数のストライプ領域のそれぞれに描画を行うように、前記ステージの移動と前記複数の荷電粒子光学系それぞれの前記ブランキング機能とによる前記描画の制御を行う制御部と、を有し、
   前記制御部は、前記複数の荷電粒子光学系のうち、その前記複数のストライプ領域の１つが、前記複数のショット領域のうち前記第１方向に隣接する第１ショット領域及び第２ショット領域の上に及ぶ第１荷電粒子光学系に関して、前記第２方向において前記ステージを移動させながら前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域のうちの一方の領域だけに前記複数の荷電粒子線のうちの第１の一部の荷電粒子線で描画が行われるように、前記制御を行い、
   前記制御部は、前記第１荷電粒子光学系に関して、前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記一方の領域に描画が行われた後、前記第２方向とは反対の方向において前記ステージを移動させながら前記複数のストライプ領域の前記１つにおける前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域のうちの他方の領域だけに前記複数の荷電粒子線のうちの前記第１の一部とは異なる第２の一部の荷電粒子線で描画が行われるように、前記制御を行う、ことを特徴とする描画装置。
2. 前記第１の一部の荷電粒子線は、前記複数の荷電粒子線のうち前記他方の領域の上のみに及ぶ荷電粒子線を除いた荷電粒子線であり、前記第２の一部の荷電粒子線は、前記複数の荷電粒子線のうち前記一方の領域の上のみに及ぶ荷電粒子線を除いた荷電粒子線である、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
3. 前記制御部は、前記複数の荷電粒子光学系のうち、その前記複数のストライプ領域の１つが前記複数のショット領域のうちの１つのショット領域だけの上に及ぶ第２荷電粒子光学系に関して、前記第１荷電粒子光学系により前記一方の領域または前記他方の領域に描画が行われている間に、当該１つのショット領域における前記複数のストライプ領域の１つに前記第２荷電粒子光学系で描画が行われるように、前記制御を行う、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
4. 前記制御部は、前記基板上に形成された複数のショット領域の配列及び前記ステージの位置に関する情報に基づいて、前記第１荷電粒子光学系を特定する、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の描画装置。
5. 前記複数の荷電粒子光学系のそれぞれは、前記基板に照射される前記複数の荷電粒子線を偏向する偏向器を含み、
   前記制御部は、前記一方の領域に描画が行われている間に、前記一方の領域に係る目標描画位置の情報に基づいて、前記偏向器によって前記第１の一部の荷電粒子線が偏向され、且つ、前記他方の領域に描画が行われている間に、前記他方の領域に係る目標描画位置の情報に基づいて、前記偏向器によって前記第２の一部の荷電粒子線が偏向されるように、前記制御を行う、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
6. 前記基板に形成されたマークを検出する検出部を有し、
   前記制御部は、前記検出部の出力に基づいて、前記一方の領域及び前記他方の領域に係る目標描画位置の情報を得る、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の描画装置。
7. 前記第１方向と前記第２方向とは互いに直交している、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の描画装置。
8. 請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
   前記工程で描画を行われた前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とする物品の製造方法。