JP2014513432A - 一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えている荷電粒子システム - Google Patents
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Abstract
Description
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、また、
・一つの第一電極と一つの第二電極の複数のペアに電圧差を前記貫通開口の周囲に沿った前記第一および第二電極の位置に応じて供給するために配された電子コントロール回路を備えている。
この文献では、前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に定められる平面は、前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に中心に定められる平面であってよい。前記平面は、前記貫通開口の中心軸を含んでいてよい。
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも一つの第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている。
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・前記荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された上に説明された実施形態のいずれかによる第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている。
・一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、それは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも1第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている。
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスに平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている。
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの開口と整列されて配されており、
前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスはおのおの単一のCMOSデバイスを形成している。
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの開口と整列されて配されており、また、
・冷却流体を輸送するために配された冷却チューブを備えており、前記冷却チューブは、前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスの間に配されている。
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の前記周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、
・多重第一電極の第一のセットの少なくとも二つの第一電極に異なる電圧を供給するために配された電子コントロール回路を備えている。
・コリメータレンズ102などの、全体のビーム111、すべてのサブビーム112またはすべてのビームレット115を回折する巨視的レンズ、通常、磁気レンズによって引き起こされ得るあらゆる非点収差の修正を提供する。
・一つ以上の荷電粒子ビーム112をx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイス202を備えており、第一のマニピュレーターデバイスは平面基板202を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口203を平面基板202の平面に備えており、各貫通開口203は、少なくとも一つの荷電粒子ビーム112を通過させるために配されており、
・一つ以上の荷電粒子ビーム112をy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイス601を備えており、x方向はy方向に垂直であり、第二のマニピュレーターデバイスは平面基板202を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口203を平面基板202の平面に備えており、各貫通開口203は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、第二のマニピュレーターデバイス601は、第一のマニピュレーターデバイス202と平行に隣接して配されており、第二のマニピュレーターデバイスの少なくとも一つの貫通開口は、第一のマニピュレーターデバイスの少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、前記マニピュレーターデバイスは、
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、また、
・一つの第一電極と一つの第二電極の複数のペアに電圧差を前記貫通開口の周囲に沿った前記第一および第二電極の位置に応じて供給するために配された電子コントロール回路を備えている、荷電粒子システム。
[2]前記電子コントロール回路は、前記電圧差を前記ペアに、それぞれのペアの第一電極と第二電極の間の距離に応じて供給するために配されており、好適には、前記電圧差は、前記距離に正比例している、[1]に記載の荷電粒子システム。
[3]前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、一つの電極と一つの正反対他方電極の間に線が定められ、前記平面および線によって角度アルファ(α)が定められ、前記電子コントロール回路は、前記角度アルファ(α)に応じて電極と前記他方電極に電圧差を供給するために配されており、好適には、前記電圧差は、sin(α)に正比例している、[1]〜[2]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[4]前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、それぞれの電極と前記貫通開口の中心の間に線が定められ、前記平面と前記線によって角度ベータ(β)が定められ、
前記電子コントロール回路は、前記角度ベータ(β)に応じてそれぞれの電極に電圧を供給するために配されており、好適には、前記電圧は、sin(β)に正比例している、[1]〜[3]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[5]前記電極は、前記周囲に沿って一様に分配されている、[1]〜[4]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[6]前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、前記電極は、前記平面に対して実質的に対称的に配されている、[1]〜[5]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[7]前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、前記ペアの前記第一電極は、前記平面に対して、前記ペアの前記第二電極の反対側に配置されている、[1]〜[6]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[8]前記電子コントロール回路は、前記第一電極に正電圧Vを供給し、前記第二電極に負電圧−Vを供給するために配されている、[7]に記載の荷電粒子システム。
[9]前記電子コントロール回路は、二つの第一電極に正電圧Vを供給し、二つの第二電極に負電圧−Vを供給するために配されている、[1]〜[8]のいずれかに記載の荷電粒子システム機器。
[10]前記マニピュレーターデバイスは、前記貫通開口の前記周囲に沿って、実質的に前記平面上に配された二つの電極をさらに備えており、前記電子コントロール回路は、前記二つの電極のおのおのに一つの電圧を供給するために配されており、前記一つの電圧は、好適には、オフセット電圧であり、好適には、実質的に0ボルトに等しい、[1]〜[8]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[11]前記電子コントロール回路は、それぞれの電極に電圧を供給するための電圧分割器として、好適には、オペレーショナルアンプのフィードバック抵抗体として配された抵抗体を備えている、[1]〜[10]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[12]前記電子コントロール回路は、前記第一電極に電圧を供給するためのフィードバック抵抗体としての電圧分割器を備えた第一のオペレーショナルアンプと、前記第二電極に電圧を供給するためのフィードバック抵抗体としての電圧分割器を備えた第二のオペレーショナルアンプを備えている、[1]〜[11]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[13]前記電子コントロール回路は、前記第一および前記第二のオペレーショナルアンプに単一コントロール信号を出力するためのデジタル・アナログ変換器と、前記コントロール信号の極性を反転させるために配された極性反転器を備えており、前記第一のオペレーショナルアンプは、前記コントロール信号を受けるために前記デジタル・アナログ変換器に直接接続され、前記第二のオペレーショナルアンプは、反転コントロール信号を受けるために前記極性反転器を介して前記デジタル・アナログ変換器に接続されている、[12]に記載の荷電粒子システム。
[14][1]〜[13]のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記周囲に沿った隣接電極間にギャップが設けられており、
・前記貫通開口の前記周囲は、前記電極によって覆われた第一のエリアと、前記ギャップによって覆われた第二のエリアから成り、
・電極対ギャップ比が、前記第一のエリア割る前記第二のエリアによって定められ、
・前記電極対ギャップ量は、5〜15の範囲内にあり、または好適には実質的に10である、荷電粒子システム。
[15]前記マニピュレーターデバイスはクロストークシールドを備えており、前記クロストークシールドは、平面シールド基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面シールド基板の平面に備えており、前記平面シールド基板の前記少なくとも一つの貫通開口は、前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、[1]〜[14]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[16]前記平面基板と前記平面シールド基板の間の距離は、10マイクロメートルよりも小さく、好適には5マイクロメートルよりも小さく、またはほぼ3マイクロメートルであり、および/または、前記シールド平面基板の厚さは、前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口のほぼ直径である、[15]に記載の荷電粒子システム。
[17][1]〜[16]のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも一つの第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。
[18]少なくとも一つのカレントリミッター開口を備えている平面カレントリミッター基板をさらに備えており、前記カレントリミッター平面基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方に配されており、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、[1]〜[17]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[19]前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口よりも小さい、[18]に記載の荷電粒子システム。
[20][1]〜[19]のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・前記荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された[1]〜[16]のいずれか一つに記載の第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。
[21]前記第一および第二の平面レンズ基板は接地され、前記システムは、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板に負電圧を供給するために配されており、前記負電圧は、好適には−1500ボルトから−500ボルトまでの範囲内にあり、より好適にはほぼ−1000ボルトである、[17]〜[20]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[22][1]〜[21]のいずれかに記載の、マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムの荷電粒子ビームを操作するためのマニピュレーターデバイス。
[23]マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、それは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも1第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。
[24]少なくとも一つのカレントリミッター開口を備えている平面カレントリミッター基板をさらに備えており、前記カレントリミッター平面基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方に配されており、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、[23]に記載の荷電粒子システム。
[25]前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口よりも小さい、[24]に記載の荷電粒子システム。
[26]冷却流体を輸送するための冷却チューブをさらに備えており、前記冷却チューブは、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口のまわりに配されている、[24]〜[25]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[27][24]〜[26]のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスに平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。
[28]前記第一および第二の平面レンズ基板は接地され、前記システムは、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板に負電圧を供給するために配されており、前記負電圧は、好適には−1500ボルトから−500ボルトまでの範囲内にあり、より好適にはほぼ−1000ボルトある、[23]〜[27]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[29]冷却流体を輸送するための冷却チューブをさらに備えており、前記冷却チューブは、前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスの間に配されている、[23]〜[28]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[30]多重第一電極の第一のセットと多重第二電極の第二のセットに配された前記電極と、前記電子コントロール回路は、単一のCMOSデバイスを形成している、[1]〜[25]のいずれかに記載の荷電粒子システム。
[31]マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスはおのおの単一のCMOSデバイスを形成している、荷電粒子システム。
[32]マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、また、
・冷却流体を輸送するために配された冷却チューブを備えており、前記冷却チューブは、前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスの間に配されている、荷電粒子システム。
[33]マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、前記マニピュレーターデバイスは、
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の前記周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、
・多重第一電極の第一のセットの少なくとも二つの第一電極に異なる電圧を供給するために配された電子コントロール回路を備えている、荷電粒子システム。
Claims (33)
- マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、前記マニピュレーターデバイスは、
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、また、
・一つの第一電極と一つの第二電極の複数のペアに電圧差を前記貫通開口の周囲に沿った前記第一および第二電極の位置に応じて供給するために配された電子コントロール回路を備えている、荷電粒子システム。 - 前記電子コントロール回路は、前記電圧差を前記ペアに、それぞれのペアの第一電極と第二電極の間の距離に応じて供給するために配されており、好適には、前記電圧差は、前記距離に正比例している、請求項1に記載の荷電粒子システム。
- 前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、一つの電極と一つの正反対他方電極の間に線が定められ、前記平面および線によって角度アルファ(α)が定められ、前記電子コントロール回路は、前記角度アルファ(α)に応じて電極と前記他方電極に電圧差を供給するために配されており、好適には、前記電圧差は、sin(α)に正比例している、請求項1〜2のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、それぞれの電極と前記貫通開口の中心の間に線が定められ、前記平面と前記線によって角度ベータ(β)が定められ、
前記電子コントロール回路は、前記角度ベータ(β)に応じてそれぞれの電極に電圧を供給するために配されており、好適には、前記電圧は、sin(β)に正比例している、請求項1〜3のいずれかに記載の荷電粒子システム。 - 前記電極は、前記周囲に沿って一様に分配されている、請求項1〜4のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、前記電極は、前記平面に対して実質的に対称的に配されている、請求項1〜5のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記周囲の前記第一の部分と前記周囲の前記第二の部分の間に平面が定められ、前記ペアの前記第一電極は、前記平面に対して、前記ペアの前記第二電極の反対側に配置されている、請求項1〜6のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記電子コントロール回路は、前記第一電極に正電圧Vを供給し、前記第二電極に負電圧−Vを供給するために配されている、請求項7に記載の荷電粒子システム。
- 前記電子コントロール回路は、二つの第一電極に正電圧Vを供給し、二つの第二電極に負電圧−Vを供給するために配されている、請求項1〜8のいずれかに記載の荷電粒子システム機器。
- 前記マニピュレーターデバイスは、前記貫通開口の前記周囲に沿って、実質的に前記平面上に配された二つの電極をさらに備えており、前記電子コントロール回路は、前記二つの電極のおのおのに一つの電圧を供給するために配されており、前記一つの電圧は、好適には、オフセット電圧であり、好適には、実質的に0ボルトに等しい、請求項1〜8のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記電子コントロール回路は、それぞれの電極に電圧を供給するための電圧分割器として、好適には、オペレーショナルアンプのフィードバック抵抗体として配された抵抗体を備えている、請求項1〜10のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記電子コントロール回路は、前記第一電極に電圧を供給するためのフィードバック抵抗体としての電圧分割器を備えた第一のオペレーショナルアンプと、前記第二電極に電圧を供給するためのフィードバック抵抗体としての電圧分割器を備えた第二のオペレーショナルアンプを備えている、請求項1〜11のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記電子コントロール回路は、前記第一および前記第二のオペレーショナルアンプに単一コントロール信号を出力するためのデジタル・アナログ変換器と、前記コントロール信号の極性を反転させるために配された極性反転器を備えており、前記第一のオペレーショナルアンプは、前記コントロール信号を受けるために前記デジタル・アナログ変換器に直接接続され、前記第二のオペレーショナルアンプは、反転コントロール信号を受けるために前記極性反転器を介して前記デジタル・アナログ変換器に接続されている、請求項12に記載の荷電粒子システム。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記周囲に沿った隣接電極間にギャップが設けられており、
・前記貫通開口の前記周囲は、前記電極によって覆われた第一のエリアと、前記ギャップによって覆われた第二のエリアから成り、
・電極対ギャップ比が、前記第一のエリア割る前記第二のエリアによって定められ、
・前記電極対ギャップ量は、5〜15の範囲内にあり、または好適には実質的に10である、荷電粒子システム。 - 前記マニピュレーターデバイスはクロストークシールドを備えており、前記クロストークシールドは、平面シールド基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面シールド基板の平面に備えており、前記平面シールド基板の前記少なくとも一つの貫通開口は、前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、請求項1〜14のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記平面基板と前記平面シールド基板の間の距離は、10マイクロメートルよりも小さく、好適には5マイクロメートルよりも小さく、またはほぼ3マイクロメートルであり、および/または、前記シールド平面基板の厚さは、前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口のほぼ直径である、請求項15に記載の荷電粒子システム。
- 請求項1〜16のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも一つの第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板をさらに備え、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配され、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。 - 少なくとも一つのカレントリミッター開口を備えている平面カレントリミッター基板をさらに備えており、前記カレントリミッター平面基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方に配されており、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、請求項1〜17のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口よりも小さい、請求項18に記載の荷電粒子システム。
- 請求項1〜19のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・前記荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された請求項1〜16のいずれか一つに記載の第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。 - 前記第一および第二の平面レンズ基板は接地され、前記システムは、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板に負電圧を供給するために配されており、前記負電圧は、好適には−1500ボルトから−500ボルトまでの範囲内にあり、より好適にはほぼ−1000ボルトである、請求項17〜20のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 請求項1〜21のいずれかに記載の、マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムの荷電粒子ビームを操作するためのマニピュレーターデバイス。
- マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、それは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・少なくとも一つの第一の平面レンズ開口を備えている第一の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第一の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第一の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方にそれと平行に配されており、また、
・少なくとも1第二の平面レンズ開口を備えている第二の平面レンズ基板を備えており、前記少なくとも一つの第二の平面レンズ開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、前記第二の平面レンズ基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の下方にそれと平行に配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。 - 少なくとも一つのカレントリミッター開口を備えている平面カレントリミッター基板をさらに備えており、前記カレントリミッター平面基板は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の上方に配されており、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されている、請求項23に記載の荷電粒子システム。
- 前記少なくとも一つのカレントリミッター開口は、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板の前記少なくとも一つの貫通開口よりも小さい、請求項24に記載の荷電粒子システム。
- 冷却流体を輸送するための冷却チューブをさらに備えており、前記冷却チューブは、前記少なくとも一つのカレントリミッター開口のまわりに配されている、請求項24〜25のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 請求項24〜26のいずれかに記載の荷電粒子システムであり、
・前記マニピュレーターデバイスは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスであり、
・荷電粒子システムは、前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスをさらに備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスに平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記システムは、前記ビームのためのアインツェルレンズを生成するために前記第一の平面レンズ基板と前記第一のマニピュレーターデバイスの前記平面基板の間と、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記平面基板と前記第二の平面レンズ基板の間に電圧差を供給するために配されている、荷電粒子システム。 - 前記第一および第二の平面レンズ基板は接地され、前記システムは、前記マニピュレーターデバイスの前記平面基板に負電圧を供給するために配されており、前記負電圧は、好適には−1500ボルトから−500ボルトまでの範囲内にあり、より好適にはほぼ−1000ボルトある、請求項23〜27のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 冷却流体を輸送するための冷却チューブをさらに備えており、前記冷却チューブは、前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスの間に配されている、請求項23〜28のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- 多重第一電極の第一のセットと多重第二電極の第二のセットに配された前記電極と、前記電子コントロール回路は、単一のCMOSデバイスを形成している、請求項1〜25のいずれかに記載の荷電粒子システム。
- マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、
前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスはおのおの単一のCMOSデバイスを形成している、荷電粒子システム。 - マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、
・一つ以上の荷電粒子ビームをx方向に偏向するために配された第一のマニピュレーターデバイスを備えており、前記第一のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、また、
・前記一つ以上の荷電粒子ビームをy方向に偏向するために配された第二のマニピュレーターデバイスを備えており、前記x方向は前記y方向に垂直であり、前記第二のマニピュレーターデバイスは平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスは、前記第一のマニピュレーターデバイスと平行に隣接して配されており、前記第二のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口は、前記第一のマニピュレーターデバイスの前記少なくとも一つの貫通開口と整列されて配されており、また、
・冷却流体を輸送するために配された冷却チューブを備えており、前記冷却チューブは、前記第一および前記第二のマニピュレーターデバイスの間に配されている、荷電粒子システム。 - マルチビームリソグラフィシステムなどの荷電粒子システムであり、一つ以上の荷電粒子ビームのマニピュレーションのためのマニピュレーターデバイスを備えており、前記マニピュレーターデバイスは、
・平面基板を備えており、それは、少なくとも一つの貫通開口を前記平面基板の平面に備えており、各貫通開口は、少なくとも一つの荷電粒子ビームを通過させるために配されており、各貫通開口には、前記貫通開口の前記周囲の第一の部分に沿った多重第一電極の第一のセットと、前記周囲の第二の部分に沿った多重第二電極の第二のセットに配された電極が設けられており、
・多重第一電極の第一のセットの少なくとも二つの第一電極に異なる電圧を供給するために配された電子コントロール回路を備えている、荷電粒子システム。
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