JP6589597B2 - アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
10A 電子鏡筒
10B 描画室
11 電子銃
12 照明レンズ
13 縮小レンズ
14 対物レンズ
15 XYステージ
16 試料
20 アライメントコイル
30 成形アパーチャ
40 ブランキングアパーチャ
50 アパーチャステージ
60 検出器
100 制御部
110 制御装置
120 入射方向制御部
150 ステージ制御部
160 電流量取得部
Claims (4)
- 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
前記荷電粒子ビームの照射を受けてマルチビームを形成する複数の第1開口部が形成された成形アパーチャと、
前記複数の第1開口部に対応した第2開口部が形成され、各第2開口部に、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対してブランキング偏向を行うブランカが配置されたブランキングアパーチャと、
前記放出部から放出された荷電粒子ビームを偏向し、前記成形アパーチャへの前記荷電粒子ビームの入射方向を変化させる入射方向制御部と、
前記ブランキングアパーチャを通過したマルチビームの電流量を検出する検出器と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置のアパーチャのアライメント方法であって、
前記入射方向制御部により前記入射方向を変化させながら、前記荷電粒子ビームを前記成形アパーチャに照射する工程と、
前記検出器を用いて、前記荷電粒子ビームの入射方向毎に、前記電流量を検出する工程と、
前記入射方向と前記電流量とに基づいて電流量分布マップを作成する工程と、
前記電流量分布マップに基づいて前記成形アパーチャ又は前記ブランキングアパーチャを移動させ、前記成形アパーチャと前記ブランキングアパーチャとの位置合わせを行う工程と、
を備え、
前記電流量分布マップは、入射方向に基づく位置の輝度を電流量に応じたものとした輝度分布画像であり、
前記電流量分布マップにおける高電流領域の位置に基づいて、前記成形アパーチャ又は前記ブランキングアパーチャの移動量を決定することを特徴とするアパーチャのアライメント方法。 - 入射方向毎の電流量の差が所定値以下の場合、前記成形アパーチャ又は前記ブランキングアパーチャを回転させることを特徴とする請求項1に記載のアパーチャのアライメント方法。
- 前記入射方向制御部による前記ブランキングアパーチャ上でのビームの最大偏向量が、前記第2開口部の開口ピッチ以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のアパーチャのアライメント方法。
- 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
前記荷電粒子ビームの照射を受けてマルチビームを形成する複数の第1開口部が形成された成形アパーチャと、
前記複数の第1開口部に対応した第2開口部が形成され、各第2開口部に、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対してブランキング偏向を行うブランカが配置されたブランキングアパーチャと、
前記放出部から放出された荷電粒子ビームを偏向し、前記成形アパーチャへの前記荷電粒子ビームの入射方向を変化させるアライメントコイルと、
前記ブランキングアパーチャを通過したマルチビームの電流量を検出する検出器と、
前記アライメントコイルにより前記入射方向を変化させながら、前記荷電粒子ビームを前記成形アパーチャに照射させ、前記入射方向と、入射方向毎に前記検出器が検出した電流量とに基づいて電流量分布マップを作成し、前記電流量分布マップに基づいて前記成形アパーチャ又は前記ブランキングアパーチャを移動させ、前記成形アパーチャと前記ブランキングアパーチャとの位置合わせを行う制御部と、
を備え、
前記電流量分布マップは、入射方向に基づく位置の輝度を電流量に応じたものとした輝度分布画像であり、
前記制御部は、前記電流量分布マップにおける高電流領域の位置に基づいて、前記成形アパーチャ又は前記ブランキングアパーチャの移動量を決定することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
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