JP2014512675A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014512675A5 JP2014512675A5 JP2013558344A JP2013558344A JP2014512675A5 JP 2014512675 A5 JP2014512675 A5 JP 2014512675A5 JP 2013558344 A JP2013558344 A JP 2013558344A JP 2013558344 A JP2013558344 A JP 2013558344A JP 2014512675 A5 JP2014512675 A5 JP 2014512675A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic clamp
- multilayer film
- core member
- clamp according
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 1
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 claims 1
- 230000003750 conditioning Effects 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 1
Description
[0011] 欧州特許出願公開第１，３５９，４６９Ａ１号は、所定の特性を有する誘電体を使用することを開示し、かつ、ガラスまたはガラスセラミックスを使用することを示唆している。
ＰＣＴ国際公開公報第２０１１／００１９７８号および欧州特許出願公開第１，９０９，３０８号には、請求項１の特徴部以前に記載されたような静電クランプを開示している。
ＰＣＴ国際公開公報第２０１１／００１９７８号および欧州特許出願公開第１，９０９，３０８号には、請求項１の特徴部以前に記載されたような静電クランプを開示している。
[0014] 本発明の一実施形態によると、物体を支持テーブル上に保持する際に使用するための静電クランプであって、複数の電気絶縁層間に位置付けられる導電層内に画成される電極を備えた多層膜と、電位差の印加により多層膜を保持可能なコア部材と、を備え、コア部材は複数の突起を有する表面を備え、前記多層膜は複数の貫通孔を備え、該貫通孔を貫通する前記突起を有する前記表面上に前記多層膜を位置付け可能にすることを特徴とする、静電クランプが提供される。
[0015] 本発明の一実施形態によると、マスクを使用して投影ビームにパターンを付与するステップと、パターン付与された投影ビームを基板上に投影するステップと、を備えたデバイス製造方法であって、マスクはマスクテーブルにより保持され、基板は基板テーブルにより保持され、マスクおよび基板の少なくとも一方は、導電層内に画成された電極を備えた多層膜の電気絶縁層全体にわたって電位差を印加することにより、かつ、前記多層膜をコア部材上に保持するために電位差を印加することにより、各々のテーブルに保持され、導電層は、電気絶縁層の一面上に位置付けられ、導電層の他面上には別の電気絶縁層が位置付けられ、コア部材は複数の突起を有する表面を備え、多層膜は複数の貫通孔を備え、該貫通孔を貫通する突起を有する表面上に多層膜を位置付け可能にすることを特徴とする、デバイス製造方法が提供される。
Claims (15)
- 物体を支持テーブル上に保持する際に使用するための静電クランプであって、
複数の電気絶縁層間に位置付けられる導電層内に画成される電極を備えた多層膜と、
電位差の印加により前記多層膜を保持可能なコア部材と、を備え、
前記コア部材は複数の突起を有する表面を備え、前記多層膜は複数の貫通孔を備え、該貫通孔を貫通する前記突起を有する前記表面上に前記多層膜を位置付け可能にすることを特徴とする、
静電クランプ。 - 前記絶縁層は、ポリマー材料またはプラスチック材料から作られる、請求項１に記載の静電クランプ。
- 前記絶縁層は、ポリイミド、好ましくはポリ（４，４’−オキシジフェニレンピロメリットイミド）から作られる、請求項２に記載の静電クランプ。
- 前記電気絶縁層は、ヤング率が１０ＧＰａ以下、好ましくは５ＧＰａ以下の材料から形成される、請求項１〜３のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記膜は、１５０μｍ以下の厚さを有し、好ましくは２５〜１２５μｍの厚さを有し、好ましくは２０〜５０μｍの厚さを有する、請求項１〜４のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記多層膜は、前記電極を、前記クランプから遠位の電圧源に電気的に接続するための電気接続を備えた伸長部分を備え、前記電気接続は、前記導電層の一体部分であり、かつ前記絶縁層の一体部分である絶縁体によって電気的に絶縁されている、請求項１〜５のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記導電層は、スパッタリングされた層であり、かつ／または前記電気絶縁層の少なくとも一層は、スピンコートされた層である、請求項１〜６のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記コア部材は、導電性部材であり、前記電極と前記コア部材との間に電位差を印加することにより、前記コア部材と前記電極との間に静電吸引力が生じる、請求項１〜７のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記コア部材内には、熱調整液体を通過させるためのチャネルが画成される、請求項１〜８のいずれかに記載の静電クランプ。
- 前記コア部材内には、前記物体と前記多層膜との間に向けてガスを通過させるための複数のチャネルが画成されている、請求項１〜９のいずれかに記載の静電クランプ。
- 複数の電気絶縁層間の導電層内に画成された電極を備えたさらなる多層膜をさらに備える、請求項１〜１０のいずれかに記載の静電クランプ。
- 物体を保持するための支持テーブルと、前記物体を前記支持テーブル上に保持するための請求項１〜１１のいずれかに記載の静電クランプと、を備える、リソグラフィ投影装置。
- 前記物体が基板である、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
- 前記物体がマスクである、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
- マスクを使用して投影ビームにパターンを付与するステップと、
前記パターン付与された投影ビームを基板上に投影するステップと、を備え、
前記マスクはマスクテーブルにより保持され、前記基板は基板テーブルにより保持され、
前記マスクおよび前記基板の少なくとも一方は、導電層内に画成された電極を備えた多層膜の電気絶縁層全体にわたって電位差を印加することにより、かつ、前記多層膜をコア部材上に保持するために電位差を印加することにより、各々のテーブルに保持され、前記導電層は、前記電気絶縁層の一面上に位置付けられ、前記導電層の他面上には別の電気絶縁層が位置付けられ、
前記コア部材は複数の突起を有する表面を備え、前記多層膜は複数の貫通孔を備え、該貫通孔を貫通する前記突起を有する前記表面上に前記多層膜を位置付け可能にすることを特徴とする、 デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201161453719P | 2011-03-17 | 2011-03-17 | |
| US61/453,719 | 2011-03-17 | ||
| US201161490682P | 2011-05-27 | 2011-05-27 | |
| US61/490,682 | 2011-05-27 | ||
| PCT/EP2012/052044 WO2012123188A1 (en) | 2011-03-17 | 2012-02-07 | Electrostatic clamp, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014512675A JP2014512675A (ja) | 2014-05-22 |
| JP2014512675A5 true JP2014512675A5 (ja) | 2015-03-26 |
| JP5898705B2 JP5898705B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=45562345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013558344A Active JP5898705B2 (ja) | 2011-03-17 | 2012-02-07 | 静電クランプ、リソグラフィ装置、および、デバイス製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9360771B2 (ja) |
| EP (1) | EP2686736B1 (ja) |
| JP (1) | JP5898705B2 (ja) |
| KR (1) | KR101872886B1 (ja) |
| CN (1) | CN103415812B (ja) |
| TW (1) | TWI560526B (ja) |
| WO (1) | WO2012123188A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016147539A1 (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-22 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子の製造方法、圧電素子、圧電駆動装置、ロボット、およびポンプ |
| CN111771166B (zh) * | 2018-02-13 | 2023-12-05 | Asml荷兰有限公司 | 在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法 |
| US11673161B2 (en) * | 2019-03-11 | 2023-06-13 | Technetics Group Llc | Methods of manufacturing electrostatic chucks |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4139833A (en) | 1976-11-22 | 1979-02-13 | Gould Inc. | Resistance temperature sensor |
| GB2106325A (en) * | 1981-09-14 | 1983-04-07 | Philips Electronic Associated | Electrostatic chuck |
| US5221403A (en) | 1990-07-20 | 1993-06-22 | Tokyo Electron Limited | Support table for plate-like body and processing apparatus using the table |
| JPH05166757A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-07-02 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の温調装置 |
| US5382311A (en) * | 1992-12-17 | 1995-01-17 | Tokyo Electron Limited | Stage having electrostatic chuck and plasma processing apparatus using same |
| US5822171A (en) * | 1994-02-22 | 1998-10-13 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck with improved erosion resistance |
| US5646814A (en) * | 1994-07-15 | 1997-07-08 | Applied Materials, Inc. | Multi-electrode electrostatic chuck |
| US5671116A (en) * | 1995-03-10 | 1997-09-23 | Lam Research Corporation | Multilayered electrostatic chuck and method of manufacture thereof |
| US5835333A (en) | 1995-10-30 | 1998-11-10 | Lam Research Corporation | Negative offset bipolar electrostatic chucks |
| US5986873A (en) * | 1996-07-01 | 1999-11-16 | Packard Hughes Interconnect Co. | Creating surface topography on an electrostatic chuck with a mandrel |
| US5835334A (en) | 1996-09-30 | 1998-11-10 | Lam Research | Variable high temperature chuck for high density plasma chemical vapor deposition |
| JP3936004B2 (ja) * | 1996-11-26 | 2007-06-27 | 財団法人神奈川科学技術アカデミー | 静電浮上チャック |
| EP0947884B1 (en) | 1998-03-31 | 2004-03-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus with substrate holder |
| JP2000036449A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP4640876B2 (ja) * | 2000-06-13 | 2011-03-02 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置 |
| US6542224B2 (en) | 2000-10-13 | 2003-04-01 | Corning Incorporated | Silica-based light-weight EUV lithography stages |
| EP1359469B1 (en) | 2002-05-01 | 2011-03-02 | ASML Netherlands B.V. | Chuck, lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
| US6994444B2 (en) * | 2002-06-14 | 2006-02-07 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for managing actinic intensity transients in a lithography mirror |
| US7092231B2 (en) * | 2002-08-23 | 2006-08-15 | Asml Netherlands B.V. | Chuck, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7105836B2 (en) * | 2002-10-18 | 2006-09-12 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for cooling a reticle during lithographic exposure |
| JP2004247387A (ja) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体製造装置用ウェハ保持体およびそれを搭載した半導体製造装置 |
| WO2007007674A1 (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-18 | Creative Technology Corporation | 静電チャック及び静電チャック用の電極シート |
| US7626681B2 (en) * | 2005-12-28 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US7940511B2 (en) * | 2007-09-21 | 2011-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Electrostatic clamp, lithographic apparatus and method of manufacturing an electrostatic clamp |
| NL1036460A1 (nl) | 2008-02-20 | 2009-08-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| JP2010161319A (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Nikon Corp | 静電吸着保持装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
| US20120120545A1 (en) | 2009-07-02 | 2012-05-17 | Hiroshi Fujisawa | Electrostatic attracting structure and fabricating method therefor |
| NL2008630A (en) * | 2011-04-27 | 2012-10-30 | Asml Netherlands Bv | Substrate holder, lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of manufacturing a substrate holder. |
-
2012
- 2012-02-07 US US14/005,686 patent/US9360771B2/en active Active
- 2012-02-07 KR KR1020137027294A patent/KR101872886B1/ko active IP Right Grant
- 2012-02-07 JP JP2013558344A patent/JP5898705B2/ja active Active
- 2012-02-07 EP EP12702285.3A patent/EP2686736B1/en active Active
- 2012-02-07 CN CN201280012836.2A patent/CN103415812B/zh active Active
- 2012-02-07 WO PCT/EP2012/052044 patent/WO2012123188A1/en active Application Filing
- 2012-02-22 TW TW101105881A patent/TWI560526B/zh active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9269600B2 (en) | Electrostatic chuck device | |
| KR102354388B1 (ko) | 마스크 프레임 어셈블리 제조방법 | |
| JP2015518659A5 (ja) | ||
| JP2005057110A5 (ja) | ||
| JP2017533060A5 (ja) | ||
| WO2000072376A1 (fr) | Mandrin electrostatique et dispositif de traitement | |
| TWI240350B (en) | Electrode sheet for electrostatic chuck devices and electrostatic chuck device comprising the same | |
| WO2012005294A1 (ja) | 静電チャック装置及びその製造方法 | |
| ATE511195T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines kondensators und kondensator | |
| JP2014512675A5 (ja) | ||
| TWI363001B (en) | Screen plate, interlayer insulation film, circuit board, active matrix circuit board, and image display apparatus | |
| JP4247739B2 (ja) | 静電チャックによるガラス基板の吸着方法および静電チャック | |
| JP2014502053A5 (ja) | ||
| JP2016529718A5 (ja) | ||
| JP6256612B2 (ja) | 巻線型コイル部品の製造方法 | |
| JP2018173313A5 (ja) | ||
| WO2021199800A1 (ja) | 積層圧電素子 | |
| JP2011004035A5 (ja) | ||
| JP2016040993A5 (ja) | ||
| Peng et al. | One‐Step Selective Adhesive Transfer Printing for Scalable Fabrication of Stretchable Electronics | |
| WO2014122151A3 (en) | Lithographic apparatus | |
| JP2009544124A5 (ja) | ||
| JPWO2019065010A1 (ja) | エラストマー製圧電素子、及びエラストマー製圧電素子の製造方法 | |
| KR20120088243A (ko) | 페릴렌 코팅층을 이용하는 ｐｄｍｓ 기반의 유연성 전극 및 그 제조 방법 | |
| JP5100915B2 (ja) | Ｐｚｔ膜を備えたセンサ素子の製造方法 |