JP2014503445A - 半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び該方法で分離した炭素ナノチューブを含む電子素子 - Google Patents

半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び該方法で分離した炭素ナノチューブを含む電子素子 Download PDF

Info

Publication number
JP2014503445A
JP2014503445A JP2013536538A JP2013536538A JP2014503445A JP 2014503445 A JP2014503445 A JP 2014503445A JP 2013536538 A JP2013536538 A JP 2013536538A JP 2013536538 A JP2013536538 A JP 2013536538A JP 2014503445 A JP2014503445 A JP 2014503445A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon nanotubes
semiconducting
carbon nanotube
polythiophene derivative
electronic device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013536538A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5719447B2 (ja
Inventor
パク,ヨン−ジュン
キム,ジョン−ミン
リ,ハン−ウ
バオ,ゼナン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2014503445A publication Critical patent/JP2014503445A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5719447B2 publication Critical patent/JP5719447B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/168After-treatment
    • C01B32/172Sorting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/168After-treatment
    • C01B32/174Derivatisation; Solubilisation; Dispersion in solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • C08K3/041Carbon nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/44Carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/124Intrinsically conductive polymers
    • H01B1/127Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/24Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising carbon-silicon compounds, carbon or silicon
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/311Purifying organic semiconductor materials
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/113Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/20Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
    • H10K85/221Carbon nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/02Single-walled nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/04Nanotubes with a specific amount of walls
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/06Multi-walled nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/20Nanotubes characterized by their properties
    • C01B2202/22Electronic properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/20Nanotubes characterized by their properties
    • C01B2202/36Diameter
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10Definition of the polymer structure
    • C08G2261/14Side-groups
    • C08G2261/141Side-chains having aliphatic units
    • C08G2261/1412Saturated aliphatic units
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10Definition of the polymer structure
    • C08G2261/21Stereochemical aspects
    • C08G2261/212Regioregularity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/32Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain
    • C08G2261/322Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed
    • C08G2261/3223Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed containing one or more sulfur atoms as the only heteroatom, e.g. thiophene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/90Applications
    • C08G2261/91Photovoltaic applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L65/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • H01L29/0665Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body the shape of the body defining a nanostructure
    • H01L29/0669Nanowires or nanotubes
    • H01L29/0673Nanowires or nanotubes oriented parallel to a substrate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/464Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/466Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/468Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/484Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/484Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions
    • H10K10/488Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions the channel region comprising a layer of composite material having interpenetrating or embedded materials, e.g. a mixture of donor and acceptor moieties, that form a bulk heterojunction
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/80Constructional details
    • H10K10/82Electrodes
    • H10K10/84Ohmic electrodes, e.g. source or drain electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/20Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising organic-organic junctions, e.g. donor-acceptor junctions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/30Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80Constructional details
    • H10K30/81Electrodes
    • H10K30/82Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
    • H10K39/10Organic photovoltaic [PV] modules; Arrays of single organic PV cells
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • Y10S977/742Carbon nanotubes, CNTs
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/842Manufacture, treatment, or detection of nanostructure for carbon nanotubes or fullerenes
    • Y10S977/845Purification or separation of fullerenes or nanotubes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/936Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application in a transistor or 3-terminal device
    • Y10S977/938Field effect transistors, FETS, with nanowire- or nanotube-channel region
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/948Energy storage/generating using nanostructure, e.g. fuel cell, battery

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

実施形態によれば、溶媒、炭素ナノチューブ及び分散剤を含む混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階を含み、炭素ナノチューブは、半導体性炭素ナノチューブを含み、分散剤がチオフェン環、及びチオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含むポリチオフェン誘導体を含む。炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含む。炭化水素側鎖が立体規則的に配列され、混合液から半導体性炭素ナノチューブが選択的に分離される。電子素子は、半導体性炭素ナノチューブ及びポリチオフェン誘導体を含む。

Description

本出願は、2010年11月1日付けで、米国特許商標庁(US Patent and Trademark Office)に出願されたアメリカ仮出願第61/408,805号の優先権を主張し、その全ての開示は参照によって、本明細書に統合される。
本発明は、ポリチオフェン誘導体を使用して、半導体性炭素ナノチューブ(CNT:carbon nanotube)を選択的に分離する方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び/または該方法で分離した半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子に関する。
炭素ナノチューブ(CNT)は、異方性であり、多様な構造を有することができる。例えば、炭素ナノチューブは、単一壁(single-walled)、多重壁(multi-walled)または束(bundled)である。炭素ナノチューブは、nmの直径を有する。
炭素ナノチューブは、炭素原子の六角形ハニカムと類似した環(honeycomb-like ring)が巻きつけられるパターンによって、半導体または金属の性質を有する。炭素ナノチューブは、その直径によって、異なるエネルギーギャップを有する。炭素ナノチューブは、準一次元的エネルギースペクトル(quasi-one-dimensional energy spectra)を有しており、特異な量子効果を示すことができる。
炭素ナノチューブは、多様な目的のために使用され、その用途によって、金属性(metallic)炭素ナノチューブまたは半導体性(semiconducting)炭素ナノチューブに分類される。例えば、常温で動作する薄膜トランジスタを含み、半導体性炭素ナノチューブが薄膜トランジスタに使用される。
一般的な半導体性炭素ナノチューブを分離及び/または精製する方法は、低い分離及び/または精製の収率を有し、例えば、添加剤を除去するために、後処理工程(post-process)を必要とする。その結果、一般的な半導体性炭素ナノチューブを分離及び/または精製する方法は、量産に適用し難いのである。
本発明において、高収率で簡単に半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離することができる方法が提供される。
本発明において、該方法で分離した半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子が提供される。
本発明において、半導体性炭素ナノチューブを含む高収率の炭素ナノチューブ分散液が提供される。
一実施形態は、半導体性炭素ナノチューブ(CNT)を選択的に分離する方法に係わるものである。
一実施形態は、前述の方法で分離した半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子に係わるものである。
一実施形態は、高収率の半導体性炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液に係わるものである。
一実施形態によれば、1つの方法は、溶媒、炭素ナノチューブ及び分散剤を含む混合液で、前記炭素ナノチューブを分散させる段階を含み、前記炭素ナノチューブは、半導体性炭素ナノチューブを含む。
前記分散剤は、チオフェン環と、前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖とを含むポリチオフェン誘導体を含み、前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、かつ前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列され、かつ前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階を含む。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式(1)で、
Rは、C−C50アルキル基であり、
及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
前記炭素ナノチューブの直径は、3nm以下であってもよい。前記炭素ナノチューブの直径は、約0.7nmないし約3nmであってもよい。前記炭素ナノチューブは、単一壁炭素ナノチューブ、二重壁炭素ナノチューブ、多重壁炭素ナノチューブ及び束型炭素ナノチューブ、またはそれらの組み合わせである。
前記溶媒は、有機溶媒であってもよい。前記炭素ナノチューブは、有機溶媒で、約10mg/L未満の溶解度を有する。前記有機溶媒は、クロロホルム、ジクロロエタン、トルエン、キシレン、デカリン(decalin)、メシチレン(mesitylene)、ヘキサン及びテトラヒドロフランのうち少なくとも一つを含んでもよい。
前記混合液は、炭素ナノチューブに対する分散剤の重量比が、約10:1ないし約1:10であるものを含んでもよい。
前記混合液で、分散剤の含量が溶媒全容量を基準に、約0.1mg/mlないし約1mg/mlであってもよい。
前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、およそ−40℃ないし約90℃で遂行される。前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、およそ−20℃ないし約90℃で遂行される。
前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、約20℃ないし約80℃で遂行される。前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、約40℃ないし約70℃で遂行される。
前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階が、前記混合液から遠心分離によって分散された半導体性炭素ナノチューブを含む上澄み液を分離する段階を含んでもよい。
前記上澄み液で半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上であってもよい。前記上澄み液で半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99重量%以上であってもよい。
前記上澄み液で半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.5重量%以上であってもよい。前記上澄み液で半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.9重量%以上であってもよい。
前記混合液で、分散された炭素ナノチューブは、金属性特性を有する炭素ナノチューブをさらに含んでもよい。前記方法は、前記混合液から金属性特性を有する炭素ナノチューブを選択的に分離する方法をさらに含んでもよい。
一実施形態によれば、電子素子は、半導体性炭素ナノチューブ、及びポリチオフェン誘導体を含み、前記ポリチオフェン誘導体は、チオフェン環、及び前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含み、前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、かつ前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列される。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式(1)で、
Rは、C−C50アルキル基であり、
及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の75重量%以上であってもよい。前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の99重量%以上であってもよい。
前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の99.5重量%以上であってもよい。前記半導体性炭素ナノチューブの含量が炭素ナノチューブ全重量の99.9重量%以上であってもよい。
前記電子素子は、トランジスタ、太陽電池、光検出器(photo detector)、光伝導体(photoconductor)、電極及びフレキシブル電子素子(flexible electronics)のうち一つを含んでもよい。
前記電子素子は、薄膜トランジスタ(TFT)を含み、前記薄膜トランジスタの正孔移動度が10cm/Vs以上であり、点滅電流比(on/off current ratio)が10以上であってもよい。
一実施形態によれば、分散液は、ポリチオフェン誘導体及び炭素ナノチューブを含み、前記ポリチオフェン誘導体は、アルキル基と連結されたチオフェン環を含み、前記アルキル基は、炭素数7以上を含み、かつ前記アルキル基が立体規則的に配列されたものを含む。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式(1)で、
Rは、C−C50アルキル基であり、
及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
分散液は、半導体性炭素ナノチューブを含み、前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上であってもよい。
前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99重量%以上であってもよい。前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.5重量%以上であってもよい。
前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の99.9重量%以上であってもよい。
追加的な側面は、下記の発明の詳細な説明で一部説明し、一部は、発明の詳細な説明から明白であったり、あるいは実施形態を実行することにより、分かるであろう。
高収率で簡単に半導体性炭素ナノチューブ(CNT)を選択的に分離する方法が提供される。向上した電気的特性を有する半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子が提供される。半導体性炭素ナノチューブを含む高収率の炭素ナノチューブ分散液が提供される。
実施例1,10及び19、並びに比較例1〜3で製造された炭素ナノチューブ(CNT)分散液のUV−Vis−NIR(ultraviolet-visible-near infrared)吸収スペクトルの三次元グラフである。 実施例19及び22〜27で分離した上澄み液(supernatant)のUV−Vis−NIR吸収スペクトルの二次元(2D)グラフである。 実施例19〜27で分離した上澄み液の1288nmでの吸収強度の二次元グラフである。 2.33eV(532nm)の励起エネルギーで観察された遠心分離前後の実施例19の炭素ナノチューブ分散液のラマンスペクトルのグラフである。 1.96eV(633nm)の励起エネルギーで観察された遠心分離前後の実施例19の炭素ナノチューブ分散液のラマンスペクトルのグラフである。 1.58eV(785nm)の励起エネルギーで観察された遠心分離前後の実施例19の炭素ナノチューブ分散液のラマンスペクトルのグラフである。 実施例19で製造された炭素ナノチューブ分散液から分離した半導体性炭素ナノチューブを使用して製造された薄膜トランジスタ(TFT)の概路図である。 実施形態による薄膜トランジスタ(TFT)の概路図である。 実施例19の薄膜トランジスタのIDS対比VGSのグラフである。 実施例19の薄膜トランジスタの出力曲線(output curve)を示したグラフである。 一実施形態による太陽電池の概路図である。 一実施形態による太陽電池の概路図である。
実施形態は、添付図面と係わってさらに十分に記載し、ここに一部実施形態が示される。実施形態は、多くの異なる形態に具体化されるが、本明細書で説明された実施形態に制限されるものであると解釈されてはならず、むしろ、かような実施形態は、かような開示が徹底したものであって完全なものとなり、当業者に実施形態の概念を十分に伝達するように提供される。図面で、層及び領域の厚みは、明瞭性を目的として誇張される。図面で参照符号は、構成要素のように示し、それに係わる説明は省略する。
一構成要素が異なる構成要素に「連結された(connected)」または「結合された(coupled)」ということを示すとき、それは、他の構成要素に直接的に連結されたり、結合されたり、あるいは媒介する(invervening)構成要素が存在する。一方、一構成要素が他の構成要素に「直接的に連結される」または「直接的に結合される」ということを示すとき、媒介する構成要素が存在しない。本明細書で使用された用語「及び/または」は、一つ以上の関連したリストされた(listed)項目のうちいずれか、及び全ての組み合わせを含む。構成要素または層の間での関連性を記載するのに使用される他の用語は、流行している方式のように解釈されなければならない(例えば、「間に(between)」対代「直接的に間に(directly between)」;「隣接する(adjacent)」対「直接的に隣接する(directly adjacent)」;「上に(on)」対「直接的に上に(directly on)」)。
本明細書で使用された用語は、記載する特別な実施形態のみを目的にして実施形態を制限することを意味するものではない。本明細書で使用されているように、単数形態「一つ(a,an)」及び「前記(the)」は、複数の形態も含むということを意味する。用語「からなる(comprise)」、「からなるところの(comprising)」、「含む(include)」、及び/または「含むところの(including)」は、本明細書で使用されるとき、明示された特徴、整数、段階、作動、構成要素及び/または構成成分の存在を具体的に明示するが、一つ以上の他の特徴、整数、段階、作動、構成要素、構成成分、及び/またはそれら集団の存在あるいは付加を排除するものではないと理解される。
本明細書で実施形態は、実施形態の理想化された実施形態(及び中間構造)の概略的な例示である断面的な例示と係わって記載する。それにより、例えば、製造技術及び/または許容誤差の結果として例示の形態からの変形例が期待される。このように、実施形態は、本明細書で例示される領域の特別な形状に制限されるものであると解釈されてはならないが、例えば、製造から生じた形状における変形を含む。
取り分けて定義されるものではないならば、本明細書で使用された全ての用語(技術的用語及び科学的用語を含み)は、実施形態が属する分野で当業者によって、一般的に理解される意味と同一の意味を有する。一般的に使用される辞書で定義されたような用語は、関連分野の文脈で、それらの意味と一致する意味を有すると解釈されなければならず、本明細書で、そのように表現されない限り、理想化されたり、あるいは過度に形式的な意味に解釈されるものではない。
一実施形態によれば、方法は、溶媒、炭素ナノチューブ(CNT)及び分散剤を含む混合液で、前記炭素ナノチューブを分散させる段階と、前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階と、を含み、前記炭素ナノチューブは、半導体性(semiconducting)炭素ナノチューブを含み、前記分散剤が、チオフェン環、及び前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含むポリチオフェン誘導体を含み、前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、かつ前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列される。前記ポリチオフェン誘導体が、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離することができる理由について、さらに具体的に以下で説明する。しかし、かような説明は、本発明の理解を助けるためのものであり、実施形態の範囲として制限されるものではない。
ポリチオフェン誘導体は、π−共役構造を有する共役高分子(conjugated polymer)であり、炭素ナノチューブ、例えば、炭素ナノチューブのsp炭素原子と、ポリチオフェン誘導体の炭化水素基のπ電子との間に強い相互作用を行い、π−π結合を形成する。かようなポリチオフェン誘導体が自己組み立て(self-assembled)され、チオフェン環に連結された炭化水素側鎖が互いに組み合い(interdigitated)、超分子構造になる。
前記ポリチオフェン誘導体で、炭化水素側鎖が立体規則的に配列されることにより、特定の表面配列状態を有するが、炭素ナノチューブの結着性(binding properties)を向上させた特定物性を有する炭素ナノチューブが提供される。結果的に、前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列されたポリチオフェン誘導体を使用することにより、高収率の半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離することができる。
前記ポリチオフェン誘導体は、導電性を有するので、従来の絶縁性界面活性剤または絶縁性高分子を、炭素ナノチューブ分散液からさらに除去する工程なしにも、高収率の半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離することができる。
前記「立体規則的(regioregular)に配列された」ということは、チオフェン環、及び前記環に連結された炭化水素側鎖を含む反復単位で、置換基が前記チオフェン環の特定位置にのみ置換されることにより、空間的に一定方向に配位されることを意味する。前記「立体規則的に配列された」に比べて、空間不規則的(regiorandom)配列は、前記炭化水素鎖が、前記チオフェン環にランダムに、位置に係わりなく置換される場合をいい、前記炭化水素側鎖がさまざまな方向に空間不規則的に配列されることになる。
前記空間不規則的に配列された炭化水素側鎖の立体的力(steric force)のために、炭化水素側鎖またはチオフェン環が傾き(tilt)、炭素ナノチューブに対するチオフェン環の吸着性が低下してしまうからである。
一実施形態によれば、選択的に、半導体性炭素ナノチューブを分離する方法に使用された分散剤は、ポリチオフェン誘導体以外に、他の分散剤を、半導体性炭素ナノチューブ分離能が向上する範囲内で追加して含んでもよい。適切な分散剤は、ポリサッカライド(デキストリン)、ポリエチレンイミン(PEI)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリエチレンオキシド(PEO)及びテトラオクチルアンモニウムブロミド(TOAB)を含む。当該分野で一般的に使用される全ての適切な分散剤が使用されてもよい。
前記分散剤に追加し、分離能を向上させることができる添加剤がさらに使用されてもよい。適切な添加剤の例は、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)である。かような目的で、当該分野で一般的に使用される全ての適切な添加剤が使用されてもよい。
一実施形態によれば、前述の方法で、分散剤、炭素ナノチューブ及び溶媒の混合液を準備するとき、それらを投入する手順に無関係に、分散剤及び炭素ナノチューブを同時に投入したり、あるいは順次に溶媒に投入することができる。
一実施形態によれば、前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階で、超音波分散器(sonicator)、ブレンダ(blender)、または機械的ミキサのようなミキサを使用することができるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。炭素ナノチューブの凝集を破壊及び/または実質的に制限する方法であるならば、いかなる適切な分散方法でも使用される。
超音波分散器を使用する場合、分散時間は、約30分ないし約20時間、または約30分ないし約10時間、または約30分ないし約5時間であるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。加えられる超音波の出力は、最大振幅(amplitude)のおよそ70%ないし約75%の範囲である。
一実施形態によれば、前記炭素ナノチューブが分散された混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階は、遠心分離によって遂行される。しかし、当該分野で使用される全ての適切な方法が使用されてもよい。前記遠心分離は、約21,000Gないし約25,000Gで、約0.5時間ないし約2時間行われる。前記遠心分離は、低速から高速に変化させていき、多段階に行われる。前記遠心分離は、約13,000rpmないし約17,000rpmで行われる。
一実施形態によれば、前記ポリチオフェン誘導体は、少なくとも10反復単位を含む。前述のように、前記反復単位を含むポリチオフェン誘導体は、半導体性炭素ナノチューブを非常に良好に分離させるように、十分に半導体性炭素ナノチューブを覆い包むことができる。
一実施形態によれば、前記炭化水素側鎖は、炭素数7ないし50であり、炭素数7ないし30であり、炭素数10ないし30であるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。前記炭化水素側鎖の炭素数個数が、前記範囲内である場合、前記ポリチオフェン誘導体は、柔軟性を維持しながら、超分子的組み立てを形成することができる。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式(1)で、Rは、C−C50アルキル基、C−C30アルキル基、C10−C30アルキル基のうち一つであるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。R及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル基及びハロメチル基のうち一つである。lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2)ないし(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5)ないし(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
前記炭素ナノチューブの直径は、3nm以下であってもよい。前記炭素ナノチューブの直径は、約0.7nmないし約3nmであり、約0.8nmないし約3nmであり、約0.85nmないし約3nmである。
炭素ナノチューブの直径が前記範囲内である場合、前記半導体性炭素ナノチューブは、選択性を有し、これを、薄膜トランジスタのような電子素子に応用する場合、正孔移動度(hole mobility)及び点滅電流比(on/off current ratio)が改善される。半導体性炭素ナノチューブが混合液で分離される前、前記混合液で炭素ナノチューブは、少なくとも1種以上の単一壁炭素ナノチューブ、二重壁炭素ナノチューブ、多重壁炭素ナノチューブ及び束型炭素ナノチューブを含む。しかし、前記混合液で、炭素ナノチューブは、当該分野で使用される全ての種類の炭素ナノチューブを含んでもよい。一実施形態によれば、半導体性炭素ナノチューブが混合液で分離する前、前記混合液で炭素ナノチューブは、HiPCO(high-pressure CO)炭素ナノチューブを含んでもよい。
かような炭素ナノチューブは、電気放電法、熱分解法、レーザ蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法、熱化学気相蒸着法及び電気分解方法を利用して合成されもする。しかし、炭素ナノチューブを合成するために、当該分野で使用される全ての適切な方法が使用されてもよい。
一実施形態で、前記半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法での溶媒は、有機溶媒を含んでもよい。しかし、当該技術分野で使用される全ての適切な溶媒が使用されてもよい。
前記炭素ナノチューブは、有機溶媒で、約10mg/L未満の溶解度を有したり、あるいは有機溶媒で、約5mg/L未満の溶解度を有することができるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
適切な有機溶媒は、クロロホルム、ジクロロエタン、トルエン、キシレン、デカリン(decalin)、メシチレン、ヘキサン、テトラヒドロフランを含む。かような有機溶媒は、単独で、または2以上を組み合わせて使用されてもよい。
前記混合液で、炭素ナノチューブに係わる分散剤の重量比が、約10:1ないし約1:10であり、約3:1ないし約1:3であり、約3:1ないし約0.75:1であるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。前記炭素ナノチューブに係わる分散剤の混合重量比が、前記範囲内にある場合、前記炭素ナノチューブは、さらに効果的に分散され、分離収率が向上するのである。また、例えば、絶縁性分散剤を除去するような追加的な後処理工程を必要としない。
前記混合液で分散剤含量は、溶媒全容量を基準に、約0.1mg/mlないし約1mg/mlであり、約0.05mg/mlないし約1mg/mlであってもよい。前記炭素ナノチューブの含量は、溶媒全容量を基準に、約0.01mg/mlないし約1mg/mlであり、約0.005mg/mlないし約1mg/mlであるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階は、およそ−40℃ないし約90℃の温度で遂行され、およそ−20℃ないし約90℃の温度で遂行される。例えば、前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階は、約20℃ないし約80℃の温度で遂行され、約40℃ないし約70℃の温度で遂行されるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
前記炭素ナノチューブがかような温度範囲内で分散する場合、前記ポリチオフェン誘導体の炭化水素側鎖が溶融され、柔軟性を維持しながら、超分子組み立てを形成することができる。前記炭素ナノチューブが分散される場合、高分子主鎖の立体構造が、所望する立体規則的な配列状態を有するように調節され、前記半導体性炭素ナノチューブの選択的分離が可能になる。
前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階が、前記混合液から、遠心分離によって分散された半導体性炭素ナノチューブを含む上澄み液を分離する段階を含んでもよい。前記上澄み液は、分散されていない炭素ナノチューブのパウダーやバンドルを遠心分離によって沈澱させて除去し、完全に分散された炭素ナノチューブのみを含む。
一実施形態によれば、前記上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上、及び/または99重量%以上、及び/または99.5重量%以上、及び/または99.9重量%以上の半導体性炭素ナノチューブである。
一実施形態によれば、金属性炭素ナノチューブ及び半導体性炭素ナノチューブを含む分散液を、約25,000Gで2時間遠心分離した後、上澄み液を分離することができる。
一実施形態によれば、前記上澄み液を除いた残りの分散液は、前記残りの分散液全重量を基準に、金属性炭素ナノチューブ75重量%以上、及び/または前記残りの分散液全重量を基準に、金属性炭素ナノチューブ99重量%以上、及び/または前記残りの分散液全重量を基準に、金属性炭素ナノチューブ99.5重量%以上、及び/または金属性炭素ナノチューブ99.9重量%以上を含んでもよい。
一実施形態によれば、半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法によって、金属性炭素ナノチューブがさらに選択的に分離される。かような金属性炭素ナノチューブは、電極に使用され、前記電極は、透明であって伝導性があるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
一実施形態によれば、電子素子は、半導体性炭素ナノチューブ、及びポリチオフェン誘導体を含み、前記ポリチオフェン誘導体は、チオフェン環、及び前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含み、前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、かつ前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列される。
前記半導体性炭素ナノチューブは、半導体性炭素ナノチューブの特性によって、電荷発生(charge generation)及び電荷輸送(charge transport)にさらに使用される。
前記ポリチオフェン誘導体は、自己組み立てが可能であり、チオフェン環に連結された炭化水素側鎖が互いに組み合わさり(interdigitated)、超分子構造を形成することができ、炭素ナノチューブの選択的分散のために、共役系高分子構造である。これによって、界面活性剤や、使用された高分子を除去する追加工程なしにも、電子ドナー(donor)として使用される。また、前記電子素子は、非常に高収率の、選択的に分離された半導体性炭素ナノチューブを含んでもよい。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式(1)で、Rは、C−C50アルキル基、C−C30アルキル基、C10−C30アルキル基のうち一つであるが、それらに制限されるものではない。
及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つである。lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2)ないし(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
前記半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子において、前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上、99重量%以上、99.5重量%以上、及び99.9重量%以上であるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
前記電子素子は、トランジスタ、太陽電池、光検出器(photodetector)、光伝導体(photoconductor)、電極、またはフレキシブル電子素子(flexible electronics)を含んでもよい。一実施形態によれば、前記電子素子は、薄膜トランジスタ(TFT)である。
図7A及び図7Bは、一実施形態による薄膜トランジスタ(TFT)を示している。図7A及び図7Bを参照すれば、一実施形態による薄膜トランジスタは、基板、ゲート電極(gate electrode)、誘電体層のような絶縁層、絶縁層上に離隔されて配列されたソース電極(source electrode)並びにドレイン電極(drain electrode)、及び前記ソース/ドレイン電極を連結する半導体チャネルを含んでもよい。
図7Aを参照すれば、薄膜トランジスタは、チャネル、ソース電極並びにドレイン電極、前記ゲート電極上の絶縁層、及び前記基板上のゲート電極を含んでもよい。図7Bを参照すれば、薄膜トランジスタは、基板上に、ソース電極並びにドレイン電極、前記ソース電極並びにドレイン電極を連結するチャネル、前記チャネル上の誘電体層、及び前記チャネル層上のゲート電極を含んでもよい。
前記基板は、シリコン、ガラス、溶融シリカ、石英、プラスチック、PMS(polydimethylsiloxane)及びそれらの組み合わせのような、各種不導体性ポリマーでからなる材料を含んでもよいが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
前記絶縁層は、電気的絶縁材料を含んでもよい。適切な電気的絶縁材料は、二酸化ケイ素(SiO)、窒化ケイ素(Si)、テフロン(登録商標)、ポリジメチルメタクリレート及びポリメチルメタクリレート(PMMA)を含んでもよいが、実施形態は、それらに制限されるものではない。前記絶縁層は、半導体チャネルの上下、または横の一部分に配置されてもよい。
前記ソース電極とドレイン電極は、金、銀、チタンまたは白金を含んでもよいが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
前記半導体チャネルは、前述の方法を使用して分離された高純度の半導体性炭素ナノチューブを含んでもよい。
前記半導体性炭素ナノチューブを含む薄膜トランジスタは、さらなる後処理工程や熱処理工程なしにも、高い正孔移動度と高い点滅電流比とを有する。
一実施形態によれば、薄膜トランジスタの正孔移動度が10cm/Vs以上であり、点滅電流比(on/off current ratio)が10以上である。
図8は、実施例19の薄膜トランジスタの、IDS対比VGSのグラフである。図9は、実施例19の薄膜トランジスタの出力曲線(output curve)を示したグラフである。
前記正孔移動度は、下記のように、図8及び図9で、リニア領域(linear region)に記載される:
ここで、μは、正孔移動度であり、Cは、単位面積当たりゲート絶縁体容量であり、L、Wは、チャネルの距離及び幅である。前記C、L及びWは、薄膜トランジスタから得られる。IDS、VGS及びVDSは、図8及び図9で表示されている。
図9を参照すれば、IDSは、VGSが20V以上であるとき、おおよそ0である。これは、「スイッチトオフ(switched-off)」を意味する。IDSは、VGSが減少するときに減少する。すなわち、IDSの絶対値は、VGSが減少するときに増加する。これは、薄膜トランジスタの抵抗と共に、「スイッチトオン(switched-on)」を示す。
前記点滅電流比は、スイッチトオン/スイッチトオフ電流比である。前記点滅電流比は、与えられたVDSで、VGS/off、VGS/onであるとき、IDS/on/IDS/offである。前記IDS/offは、スイッチトオフで、IDSである。前記IDS/onは、スイッチトオンで、IDSである。前記VDS/offは、スイッチトオフで、VDSである。前記VDS/onは、スイッチトオンで、VDSである。
一実施形態によれば、炭素ナノチューブ分散液は、ポリチオフェン誘導体及び炭素ナノチューブを含み、前記ポリチオフェン誘導体は、アルキル基と連結されたチオフェン環を含み、前記アルキル基は、炭素数7以上を含み、かつ前記アルキル基が立体規則的に配列されたものを含む。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示される:
前記化学式で、
Rは、C−C50アルキル基、C−C30アルキル基、C10−C30アルキル基のうち一つであるが、実施形態は、それらに制限されるものではない。
及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つである。lは、1ないし40,000の整数、及び/または1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示される:
前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示される:
前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
前記ポリチオフェン誘導体の反復単位の数が、前述の範囲内である場合、半導体性炭素ナノチューブは、前記分散剤の含量を使用して、選択的に分離される。
前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の75重量%以上であってもよい。前記半導体性炭素ナノチューブの含量は、炭素ナノチューブ全重量の99重量%以上、99.5重量%以上、及び99.9重量%以上である。
半導体性炭素ナノチューブを含む分散液は、半導体性炭素ナノチューブのみを100%及び/または約100%純度で含んでもよい。
前記ポリチオフェン誘導体は、例えば、マッカルー法(McCullough method)またはリーケ法(Rieke method)を利用して合成することができる。しかし、前記ポリチオフェン誘導体を合成するために、当該分野で一般的に使用される全ての適切な方法が使用されてもよい。
以下、1以上の実施形態について、下記実施例と係わってさらに詳細に記載する。かような実施例は、実施形態の目的及び範囲を制限するものではない。
(実施例1)
分散剤として、立体規則性ポリ(3−オクチルチオフェン)(Sigma−Aldrich Co.社製)10mgをトルエン25mLに入れて溶解し、この溶液に単一壁炭素ナノチューブ(HiPCO SWNT、Unidym社製)5mgを添加して混合液を得た。前記単一壁炭素ナノチューブは、超音波分散器(sonic bath)内に、50℃で、最大振幅の70%で30分間分散させ、金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得た。前記生成された分散液を、約25,000Gで2時間遠心分離した後、上澄み液(supernatant)を分離し、前記上澄み液を、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液として使用した。
(実施例2)
前記単一壁炭素ナノチューブを−40℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
(実施例3)
前記単一壁炭素ナノチューブを−30℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
(実施例4)
前記単一壁炭素ナノチューブを15℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
(実施例5)
前記単一壁炭素ナノチューブを20℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
(実施例6)
前記単一壁炭素ナノチューブを40℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
(実施例7)
前記単一壁炭素ナノチューブを60℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例8)
前記単一壁炭素ナノチューブを70℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例9)
前記単一壁炭素ナノチューブを90℃で分散させることを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例10)
分散剤として、立体規則性ポリ(3−デシルチオフェン)(Sigma−Aldrich Co.社製)を使用して金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得て、その後、遠心分離して半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得たことを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例11)
前記単一壁炭素ナノチューブを−40℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例12)
前記単一壁炭素ナノチューブを−30℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例13)
前記単一壁炭素ナノチューブを15℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例14)
前記単一壁炭素ナノチューブを20℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例15)
前記単一壁炭素ナノチューブを40℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例16)
前記単一壁炭素ナノチューブを60℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例17)
前記単一壁炭素ナノチューブを70℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例18)
前記単一壁炭素ナノチューブを90℃で分散させることを除き、実施例10と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例19)
分散剤として、立体規則性ポリ(3−ドデシルチオフェン)(Sigma−Aldrich Co.社製)を使用して金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得て、その後、遠心分離して半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得たことを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。前記炭素ナノチューブ分散液のカラーは、暗い褐色を示した。
実施例20)
前記単一壁炭素ナノチューブを−40℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例21)
前記単一壁炭素ナノチューブを−30℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例22)
前記単一壁炭素ナノチューブを15℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例23)
前記単一壁炭素ナノチューブを20℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例24)
前記単一壁炭素ナノチューブを40℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例25)
前記単一壁炭素ナノチューブを60℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例26)
前記単一壁炭素ナノチューブを70℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
実施例27)
前記単一壁炭素ナノチューブを90℃で分散させることを除き、実施例19と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
比較例1)
分散剤として、立体規則性ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(Sigma−Aldrich Co.社製)を使用して金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得て、その後、遠心分離して半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得たことを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
比較例2)
分散剤として、下記化学式(8)のポリ(3,3’’’−ジドデシル−クオータ−チオフェン)(Sigma−Aldrich Co.社製)を使用して金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得て、その後、遠心分離して半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得たことを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
前記化学式で、mは、50ないし500の整数である。
比較例3)
分散剤として、下記化学式(9)の立体規則性ポリ(3−メチル−4−デシル−チオフェン−2,5−ジイル)(Sigma−Aldrich Co.社製)を使用して金属性単一壁炭素ナノチューブ及び半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む分散液を得て、その後、遠心分離して半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得たことを除き、実施例1と同一の方法で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を得た。
前記化学式で、nは、50ないし500の整数である。
炭素ナノチューブ分離収率評価
UV−Vis−NIR吸収スペクトル評価
前記実施例1,10,19−27、及び比較例1〜3で得られた半導体性単一壁炭素ナノチューブを含む炭素ナノチューブ分散液を、UV−Vis−NIR分光器(Varian社製)を使用して、波長の範囲内の吸収強度を測定した。その結果を、図1、図2及び図3に示した。
前記炭素ナノチューブ分散液のUV−Vis−NIR吸収スペクトルを示した図1を参照すれば、実施例1,10,19の炭素ナノチューブ分散液は、比較例1〜3に比べて、750nmないし1,500nmの近赤外線領域での吸収強度が上昇するということを示し、これは、実施例1,10及び19の炭素ナノチューブ分散液が著しく多くの含量の半導体性炭素ナノチューブを含むということを意味する。
図2及び図3を参照すれば、−40℃ないし90℃で、ポリチオフェン誘導体、炭素ナノチューブ及び溶媒の混合液の分散を介して得た実施例19〜27の半導体性分散液が、含量の多い半導体性炭素ナノチューブを含んでいる。図2は、実施例19及び22〜27で分離した上澄み液のUV−Vis−NIR吸収スペクトルの二次元(2D)グラフである。図3は、実施例19〜27で分離した上澄み液の1,288nmでの吸収強度の二次元グラフである。
ラマン分光法を利用したラマンスペクトル評価
ラマン分光測定装置(T.Y.Horriba社製)を利用して、2.33eV(532nm)、1.94eV(633nm)及び1.59eV(785nm)それぞれの励起エネルギー(excitation energy)で遠心分離する前の実施例19の炭素ナノチューブ分散液、及びこれを25,000Gで2時間遠心分離した後で得られた上澄み液のラマン分光スペクトルの放射休止モード(RBM:radial breathing mode)スペクトルを測定した。その結果を、図4ないし図6に示した。
図4を参照すれば、2.33eV(532nm)で励起されるとき、180cm−1ないし285cm−1の領域でRBMスペクトルを示し、遠心分離する前の分散液で、金属性単一壁炭素ナノチューブの共鳴ピークが示された。しかし、遠心分離によって、分散液から分離した上澄み液から、金属性炭素ナノチューブの共鳴ピークが除去された。
図5を参照すれば、1.94eV(633nm)で励起されるとき、180cm−1ないし285cm−1の領域でRBMスペクトルを示し、遠心分離する前の分散液で、金属性炭素ナノチューブ及び半導体性炭素ナノチューブの共鳴ピークが示された一方、遠心分離によって、分散液から分離した上澄み液から、金属性炭素ナノチューブの共鳴ピークが除去された。
非金属性炭素ナノチューブの共鳴ピークが一般的に現れる240cm−1ないし285cm−1の領域では、半導体性炭素ナノチューブの共鳴ピークがほぼ維持された。
図6を参照すれば、1.59eV(785nm)で励起されるとき、180cm−1ないし285cm−1の領域で、RBMスペクトルを示し、遠心分離する前の分散液で、半導体性炭素ナノチューブの共鳴ピークが示された一方、遠心分離によって、分散液から分離した上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの共鳴ピークが維持された。
かような結果に根拠し、遠心分離によって、上澄み液からほぼ完全に除去された金属性炭素ナノチューブを除き、遠心分離した後で得られた上澄み液は、約100%の高収率で、半導体性単一壁炭素ナノチューブを含むものと理解される。
薄膜トランジスタの正孔移動度及び点滅電流比の評価
ソース電極でとしてのPt、ドレイン電極としてのTi、ゲート電極(n−ドーピングされたSi基板)、及び誘電体層としてのSiO(300nm厚)でもって、薄膜トランジスタを製造した。
前記SiO絶縁体層の表面は、アミン末端基を含む自己組み立て単分子膜(SAM:self assembled monolayer)によって変形された。炭素ナノチューブは、SEM(scanning electron microscopy)分析によって観察されたように、前記ソース電極とドレイン電極とのランダムに分布し、平均長さ1.0μm±0.1μmであった。前記炭素ナノチューブを、ソース電極並びにドレイン電極の間にチャネルを形成するのに使用した。前記炭素ナノチューブチャネル内に、平均>50炭素ナノチューブ/mmを形成し、厚みは2.3nmであった。
図8及び図9を参照すれば、ゲート電極の電圧とドレイン電極の電流とに基づいて、前記薄膜トランジスタの正孔移動度が10cm/Vs以上であり、点滅電流比が10以上であるということが分かる。
前述のように、一実施形態によれば、半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法は、半導体性炭素ナノチューブを高収率で容易に分離させ、前記方法を利用して分離した半導体性炭素ナノチューブを含む電子素子は、向上した電気的特性を有する。
太陽電池
図10A及び図10Bは、一実施形態による太陽電池の概路図である。図10Aを参照すれば、一実施形態による太陽電池100は、連続してスタックされた(stacked)基板10、下部電極20、光活性層50及び上部電極60を含んでもよい。基板10の材料は、不導体性高分子、シリコン、ガラス、溶融シリカ、石英、プラスチック、PMS(polydimethylsiloxane)、及びそれらの組み合わせのうち一つを含んでもよいが、実施形態は、それらに制限されるものではない。下部電極20及び上部電極60は、それぞれ亜鉛酸化物、スズ酸化物、インジウムスズ酸化物のような、透明な導電性酸化物材料のうち少なくとも一つを含んでもよいが、実施形態は、それらに制限されるものではない。下部電極20及び上部電極60の材料及び/または材料(複数)は同一であっても異なってもよい。光活性層50は、n−型層30及びp−型層40を含む。p−型層40は、一実施形態による半導体性炭素ナノチューブを含む分散液を含む。前記半導体性炭素ナノチューブは、太陽電池で電荷発生に使用されてもよい。また、前記半導体性炭素ナノチューブは、前記炭素ナノチューブの特性によって、電荷輸送を容易に行うのにも使用されてもよい。前記ポリチオフェン誘導体は、電子ドナーに使用されてもよい。
図10Bを参照すれば、一実施形態による太陽電池200は、光活性層90がp−型材料80とn−型材料70との混合物を含むことを除き、図10Aでの太陽電池100と類似している。太陽電池100及び太陽電池200の間に類似した構造的要素の論議は省略する。p−型層80は、一実施形態による半導体性炭素ナノチューブを含む分散液を含んでもよい。
一部実施形態について特別に表示して記載しているが、当業者に、特許請求の範囲の範囲を外れない限り、変形及び細部的な事項が特許請求の範囲内で可能であると理解されるであろう。

Claims (40)

  1. 溶媒、炭素ナノチューブ及び分散剤を含む混合液で、前記炭素ナノチューブを分散させる段階と、
    前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階と、を含み、
    前記炭素ナノチューブは、半導体性炭素ナノチューブを含み、
    前記分散剤がチオフェン環、及び前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含むポリチオフェン誘導体を含み、
    前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、
    前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列された方法。
  2. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示されることを特徴とする請求項1に記載の方法:
    前記化学式で、
    Rは、C−C50アルキル基であり、
    及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
    lは、1ないし40,000の整数である。
  3. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項1に記載の方法:
    前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
  4. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項1に記載の方法:
    前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
  5. 前記炭素ナノチューブの直径が3nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 前記炭素ナノチューブの直径が約0.7nmないし約3nmである ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 前記炭素ナノチューブが、単一壁炭素ナノチューブ、二重壁炭素ナノチューブ、多重壁炭素ナノチューブ及び束型炭素ナノチューブ、またはそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  8. 前記溶媒が有機溶媒を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  9. 前記炭素ナノチューブが、有機溶媒で、約10mg/L未満の溶解度を有することを特徴とする請求項7に記載の方法。
  10. 前記有機溶媒が、クロロホルム、ジクロロエタン、トルエン、キシレン、デカリン、メシチレン、ヘキサン及びテトラヒドロフランのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。
  11. 前記混合液で、炭素ナノチューブに係わる分散剤の重量比が、約10:1ないし約1:10であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  12. 前記混合液で、分散剤の含量が、溶媒全容量を基準に、約0.1mg/mlないし約1mg/mlであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  13. 前記混合液で、炭素ナノチューブの含量が、溶媒全容量を基準に、約0.1mg/mlないし約1mg/mlであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  14. 前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、およそ−40℃ないし約90℃で遂行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  15. 前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、およそ−20℃ないし約90℃で遂行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  16. 前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、約20℃ないし約80℃で遂行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  17. 前記混合液で、炭素ナノチューブを分散させる段階が、約40℃ないし約70℃で遂行されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  18. 前記混合液から、半導体性炭素ナノチューブを選択的に分離する段階が、前記混合液から、遠心分離によって分散された半導体性炭素ナノチューブを含む上澄み液を分離する段階を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  19. 前記上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上であることを特徴とする請求項18に記載の方法。
  20. 前記上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99重量%以上であることを特徴とする請求項18に記載の方法。
  21. 前記上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.5重量%以上である ことを特徴とする請求項18に記載の方法。
  22. 前記上澄み液で、半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.9重量%以上であることを特徴とする請求項18に記載の方法。
  23. 半導体性炭素ナノチューブと、
    ポリチオフェン誘導体と、を含み、
    前記ポリチオフェン誘導体は、チオフェン環、及び前記チオフェン環に連結された炭化水素側鎖を含み、
    前記炭化水素側鎖は、炭素数7以上を含むアルキル基を含み、
    前記炭化水素側鎖が立体規則的に配列された電子素子。
  24. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示されることを特徴とする請求項23に記載の電子素子:
    前記化学式で、
    Rは、C−C50アルキル基であり、
    及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
    lは、1ないし40,000の整数である。
  25. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項23に記載の電子素子:
    前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
  26. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項23に記載の電子素子:
    前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
  27. 半導体性炭素ナノチューブを含み、前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、75重量%以上である電子素子。
  28. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99重量%以上であることを特徴とする請求項27に記載の電子素子。
  29. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.5重量%以上であることを特徴とする請求項27に記載の電子素子。
  30. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量を基準に、99.9重量%以上であることを特徴とする請求項27に記載の電子素子。
  31. 前記電子素子は、トランジスタ、太陽電池、光検出器、光伝導体、電極及びフレキシブル電子素子のうち一つを含むことを特徴とする請求項27に記載の電子素子。
  32. 前記電子素子が薄膜トランジスタ(TFT)を含み、前記薄膜トランジスタの正孔移動度が10cm/Vs以上であり、点滅電流比が10以上であることを特徴とする請求項27に記載の電子素子。
  33. ポリチオフェン誘導体と、
    半導体性炭素ナノチューブと、を含み、
    前記ポリチオフェン誘導体は、アルキル基と連結されたチオフェン環を含み、
    前記アルキル基は、炭素数7以上を含み、
    前記アルキル基が立体規則的に配列された分散液。
  34. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(1)で表示されることを特徴とする請求項33に記載の分散液:
    前記化学式で、
    Rは、C−C50アルキル基であり、
    及びRは、互いに独立して、水素、ハロゲン、メチル及びハロメチルのうち一つであり、
    lは、1ないし40,000の整数である。
  35. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(2),(3)及び(4)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項33に記載の分散液:
    前記化学式で、s、t及びuは、互いに独立して、1ないし40,000の整数である。
  36. 前記ポリチオフェン誘導体は、下記化学式(5),(6)及び(7)のうち一つで表示されることを特徴とする請求項33に記載の分散液:
    前記化学式で、p、q及びrは、互いに独立して、1ないし10,000の整数である。
  37. 半導体性炭素ナノチューブを含み、前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量の75重量%以上である分散液。
  38. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量の99重量%以上であることを特徴とする請求項37に記載の分散液。
  39. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量の99.5重量%以上であることを特徴とする請求項37に記載の分散液。
  40. 前記半導体性炭素ナノチューブの含量が、炭素ナノチューブ全重量の99.9重量%以上であることを特徴とする請求項37に記載の分散液。
JP2013536538A 2010-11-01 2011-11-01 半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び該方法で分離した炭素ナノチューブを含む電子素子 Active JP5719447B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US40880510P 2010-11-01 2010-11-01
US61/408,805 2010-11-01
US13/282,783 US9502152B2 (en) 2010-11-01 2011-10-27 Method of selective separation of semiconducting carbon nanotubes, dispersion of semiconducting carbon nanotubes, and electronic device including carbon nanotubes separated by using the method
US13/282,783 2011-10-27
PCT/KR2011/008236 WO2012060601A2 (en) 2010-11-01 2011-11-01 Method of selective separation of semiconducting carbon nanotubes, dispersion of semiconducting carbon nanotubes, and electronic device including carbon nanotubes separated by using the method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014503445A true JP2014503445A (ja) 2014-02-13
JP5719447B2 JP5719447B2 (ja) 2015-05-20

Family

ID=45995642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013536538A Active JP5719447B2 (ja) 2010-11-01 2011-11-01 半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び該方法で分離した炭素ナノチューブを含む電子素子

Country Status (5)

Country Link
US (2) US9502152B2 (ja)
EP (1) EP2635524B1 (ja)
JP (1) JP5719447B2 (ja)
KR (1) KR101910984B1 (ja)
WO (1) WO2012060601A2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017534696A (ja) * 2014-08-12 2017-11-24 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se カーボンナノチューブのソート
WO2019225651A1 (ja) 2018-05-23 2019-11-28 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
WO2021095864A1 (ja) 2019-11-15 2021-05-20 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
WO2021095870A1 (ja) 2019-11-15 2021-05-20 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
US12006218B2 (en) 2019-11-15 2024-06-11 Kao Corporation Method for producing semiconducting single-walled carbon nanotube dispersion

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100902509B1 (ko) * 2007-05-29 2009-06-15 삼성전자주식회사 탄소나노튜브의 선택적 분리 방법, 상기 방법으로 분리된탄소나노튜브를 포함하는 전극 및 탄소나노튜브용 올리고머분산제
US9502152B2 (en) * 2010-11-01 2016-11-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of selective separation of semiconducting carbon nanotubes, dispersion of semiconducting carbon nanotubes, and electronic device including carbon nanotubes separated by using the method
US9525135B2 (en) * 2013-01-28 2016-12-20 Xerox Corporation Thixotropic composition
CN103236442B (zh) 2013-04-23 2016-12-28 京东方科技集团股份有限公司 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、电子装置
US10046970B2 (en) 2013-08-20 2018-08-14 National Research Council Of Canada Process for purifying semiconducting single-walled carbon nanotubes
JP6300300B2 (ja) * 2013-11-12 2018-03-28 国立研究開発法人産業技術総合研究所 カーボンナノチューブ集合体を用いた電界効果トランジスタ
US9455421B2 (en) 2013-11-21 2016-09-27 Atom Nanoelectronics, Inc. Devices, structures, materials and methods for vertical light emitting transistors and light emitting displays
KR20160006465A (ko) 2014-07-09 2016-01-19 이사욱 쿠폰 처리 방법 및 쿠폰 처리 시스템
US10395804B2 (en) 2015-03-24 2019-08-27 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Isolating semiconducting single-walled nanotubes or metallic single-walled nanotubes and approaches therefor
KR101775782B1 (ko) 2015-08-31 2017-09-11 국방과학연구소 단일벽 탄소나노튜브의 작용기 제거 방법
CN108602941B (zh) 2015-11-27 2021-02-23 利兰斯坦福青年大学托管委员会总法律顾问办公室 可降解的共轭聚合物
WO2017096058A1 (en) 2015-12-01 2017-06-08 LUAN, Xinning Electron injection based vertical light emitting transistors and methods of making
US10541374B2 (en) * 2016-01-04 2020-01-21 Carbon Nanotube Technologies, Llc Electronically pure single chirality semiconducting single-walled carbon nanotube for large scale electronic devices
KR102571650B1 (ko) * 2016-01-08 2023-08-25 내셔날 리서치 카운실 오브 캐나다 친수성 반도전성 단일벽 탄소 나노튜브 잉크
US10134995B2 (en) * 2016-01-29 2018-11-20 University Of Kentucky Research Foundation Water processable N-type organic semiconductor
CN108023016B (zh) * 2016-10-31 2020-07-10 清华大学 薄膜晶体管的制备方法
US10847757B2 (en) 2017-05-04 2020-11-24 Carbon Nanotube Technologies, Llc Carbon enabled vertical organic light emitting transistors
US10978640B2 (en) 2017-05-08 2021-04-13 Atom H2O, Llc Manufacturing of carbon nanotube thin film transistor backplanes and display integration thereof
US10665796B2 (en) 2017-05-08 2020-05-26 Carbon Nanotube Technologies, Llc Manufacturing of carbon nanotube thin film transistor backplanes and display integration thereof
US10640381B2 (en) 2017-06-09 2020-05-05 National Research Council Of Canada Method for polymer removal from single-walled carbon nanotubes
KR102113219B1 (ko) * 2017-10-25 2020-05-21 광주과학기술원 단일벽탄소나노튜브의 선택적 분리를 위한 공액 고분자
KR102160329B1 (ko) * 2017-12-28 2020-09-28 동국대학교 산학협력단 두 개의 반도체층으로 이루어진 박막트랜지스터
CN108987576B (zh) * 2018-07-18 2020-12-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 碳纳米管复合薄膜的制备方法、碳纳米管tft及其制备方法
CN110902670B (zh) * 2018-09-14 2021-07-20 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 一种碳纳米管取向薄膜、其制备方法及应用
KR102234345B1 (ko) * 2019-02-18 2021-03-31 가천대학교 산학협력단 배쓰 소니케이션을 이용한 반도체성 탄소나노튜브의 대량 선택적 분리
CN113120882B (zh) * 2020-01-15 2022-10-18 清华大学 金属型碳纳米管的获取方法
KR20230010679A (ko) * 2020-05-14 2023-01-19 나노-씨, 인크. 탄소 나노구조 조성물 및 그의 정제 방법
CN112812507B (zh) * 2021-01-07 2021-11-16 江南大学 一种单一手性碳纳米管-噻吩类聚合物复合材料及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006265035A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology カーボンナノチューブ含有薄膜、同薄膜の製造方法、同薄膜を備えた光電変換材料及び光電変換素子並びに電界発光材料及び電界発光素子
JP2007031238A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Sony Corp 金属的カーボンナノチューブの分離方法ならびに半導体的カーボンナノチューブ薄膜の製造方法ならびに薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子素子およびその製造方法
JP2008238162A (ja) * 2007-02-27 2008-10-09 Samsung Electronics Co Ltd カーボンナノチューブ用分散剤およびこれを含むカーボンナノチューブ組成物
US20090085012A1 (en) * 2007-09-27 2009-04-02 Christos Chochos Multifunctional materials consisting of regioregular poly(3-alkylthiophene)s covalently attached on carbon nanotubes for photovoltaic applications

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101001547B1 (ko) 2004-01-28 2010-12-17 삼성에스디아이 주식회사 섬유상 태양 전지 및 이의 제조 방법
KR100773369B1 (ko) 2004-05-12 2007-11-05 삼성코닝 주식회사 반도체성 탄소나노튜브의 선별 방법
US7194173B2 (en) 2004-07-16 2007-03-20 The Trustees Of Princeton University Organic devices having a fiber structure
US7247670B2 (en) 2004-08-24 2007-07-24 General Electric Company Nanotubes and methods of dispersing and separating nanotubes
US7226818B2 (en) 2004-10-15 2007-06-05 General Electric Company High performance field effect transistors comprising carbon nanotubes fabricated using solution based processing
WO2008054845A2 (en) 2006-03-23 2008-05-08 Solexant Corporation Photovoltaic device containing nanoparticle sensitized carbon nanotubes
KR20070098433A (ko) 2006-03-30 2007-10-05 삼성전자주식회사 반도체성 탄소나노튜브의 선별방법
KR100902509B1 (ko) * 2007-05-29 2009-06-15 삼성전자주식회사 탄소나노튜브의 선택적 분리 방법, 상기 방법으로 분리된탄소나노튜브를 포함하는 전극 및 탄소나노튜브용 올리고머분산제
US7514063B1 (en) 2008-02-08 2009-04-07 International Business Machines Corporation Method for the purification of semiconducting single walled carbon nanotubes
US20090232724A1 (en) 2008-03-11 2009-09-17 Ali Afzali-Ardakani Method of separating metallic and semiconducting carbon nanotubes from a mixture of same
US8455297B1 (en) * 2010-07-07 2013-06-04 International Business Machines Corporation Method to fabricate high performance carbon nanotube transistor integrated circuits by three-dimensional integration technology
US9502152B2 (en) * 2010-11-01 2016-11-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of selective separation of semiconducting carbon nanotubes, dispersion of semiconducting carbon nanotubes, and electronic device including carbon nanotubes separated by using the method
JP5848284B2 (ja) * 2012-07-11 2016-01-27 富士フイルム株式会社 熱電変換素子及びこれを用いた熱電変換材料

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006265035A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology カーボンナノチューブ含有薄膜、同薄膜の製造方法、同薄膜を備えた光電変換材料及び光電変換素子並びに電界発光材料及び電界発光素子
JP2007031238A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Sony Corp 金属的カーボンナノチューブの分離方法ならびに半導体的カーボンナノチューブ薄膜の製造方法ならびに薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子素子およびその製造方法
JP2008238162A (ja) * 2007-02-27 2008-10-09 Samsung Electronics Co Ltd カーボンナノチューブ用分散剤およびこれを含むカーボンナノチューブ組成物
US20090085012A1 (en) * 2007-09-27 2009-04-02 Christos Chochos Multifunctional materials consisting of regioregular poly(3-alkylthiophene)s covalently attached on carbon nanotubes for photovoltaic applications

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6015006361; STEFOPOULOS,A.A. et al: '"Novel Hybrid Materials Consisting of Regioregular Poly(3-octylthiophene)s Covalently Attached to Si' Chemistry - European Journal Vol.14, No.28, 2008, p.8715-8724 *
JPN7015000441; GIULIANINI,M. et al: '"Regioregular poly(3-hexyl-thiophene) helical self-organization on carbon nanotubes"' Applied Physics Letters Vol.95, 2009, p.013304-1〜013304-3 *
JPN7015000442; KYMAKIS,E. et al: '"Single-wall carbon nanotube/conjugated polymer photovoltaic devices"' Applied Physics Letters Vol.80, 20020107, p.112-114 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017534696A (ja) * 2014-08-12 2017-11-24 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se カーボンナノチューブのソート
WO2019225651A1 (ja) 2018-05-23 2019-11-28 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
KR20210003192A (ko) 2018-05-23 2021-01-11 카오카부시키가이샤 반도체형 단층 카본 나노 튜브 분산액의 제조 방법
US11708269B2 (en) 2018-05-23 2023-07-25 Kao Corporation Method for producing semiconducting single-walled carbon nanotube dispersion
WO2021095864A1 (ja) 2019-11-15 2021-05-20 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
WO2021095870A1 (ja) 2019-11-15 2021-05-20 花王株式会社 半導体型単層カーボンナノチューブ分散液の製造方法
US12006218B2 (en) 2019-11-15 2024-06-11 Kao Corporation Method for producing semiconducting single-walled carbon nanotube dispersion

Also Published As

Publication number Publication date
US10355216B2 (en) 2019-07-16
US20170033292A1 (en) 2017-02-02
EP2635524A2 (en) 2013-09-11
JP5719447B2 (ja) 2015-05-20
KR101910984B1 (ko) 2018-10-24
EP2635524A4 (en) 2015-11-04
US20120104328A1 (en) 2012-05-03
WO2012060601A2 (en) 2012-05-10
EP2635524B1 (en) 2017-08-23
KR20140003397A (ko) 2014-01-09
US9502152B2 (en) 2016-11-22
WO2012060601A3 (en) 2012-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5719447B2 (ja) 半導体性炭素ナノチューブの選択的分離方法、半導体性炭素ナノチューブの分散液、及び該方法で分離した炭素ナノチューブを含む電子素子
Zhong et al. Helical ribbons for molecular electronics
Norton-Baker et al. Polymer-free carbon nanotube thermoelectrics with improved charge carrier transport and power factor
Yu et al. Soluble P3HT-grafted graphene for efficient bilayer− heterojunction photovoltaic devices
Jung et al. Efficient debundling of few-walled carbon nanotubes by wrapping with donor–acceptor polymers for improving thermoelectric properties
Liang et al. High-efficiency dispersion and sorting of single-walled carbon nanotubes via non-covalent interactions
Oseni et al. ZnO: CNT assisted charge transport in PTB7: PCBM blend organic solar cell
Ramuz et al. Evaluation of solution-processable carbon-based electrodes for all-carbon solar cells
Hill et al. Fluorescence and electroluminescence quenching evidence of interfacial charge transfer in poly (3-hexylthiophene): graphene oxide bulk heterojunction photovoltaic devices
Secor et al. Inkjet printing of high conductivity, flexible graphene patterns
Niu et al. A curved graphene nanoribbon with multi-edge structure and high intrinsic charge carrier mobility
Lee et al. Selective dispersion of high purity semiconducting single-walled carbon nanotubes with regioregular poly (3-alkylthiophene) s
Xu et al. Organic− inorganic nanocomposites via directly grafting conjugated polymers onto quantum dots
Wang et al. Photoinduced charge transfer and efficient solar energy conversion in a blend of a red polyfluorene copolymer with CdSe nanoparticles
Kim et al. Solution-processed carbon nanotube buckypapers for foldable thermoelectric generators
KR101577896B1 (ko) 탄소나노튜브 층간층, 이의 제조방법 및 이를 이용한 박막트랜지스터
Hou et al. Controlled growth of well-defined conjugated polymers from the surfaces of multiwalled carbon nanotubes: photoresponse enhancement via charge separation
JP2012156501A (ja) 半導体組成物
Gong et al. Understanding Charge Transfer in Carbon Nanotube–Fullerene Bulk Heterojunctions
Kanimozhi et al. Structurally analogous degradable version of fluorene–bipyridine copolymer with exceptional selectivity for large-diameter semiconducting carbon nanotubes
Zeighami et al. Graphenic nanosheets sandwiched between crystalline cakes of poly (3-hexylthiophene) via simultaneous grafting/crystallization and their applications in active photovoltaic layers
Guchhait et al. Hybrid Core− Shell Nanoparticles: Photoinduced Electron-Transfer for Charge Separation and Solar Cell Applications
Mardi et al. Enhanced thermoelectric properties of poly (3-hexylthiophene) through the Incorporation of aligned carbon nanotube forest and chemical treatments
Jang et al. Alkyl Chain Engineering for Enhancing the Thermoelectric Performance of Single-Walled Carbon Nanotubes–Small Organic Molecule Hybrid
KR101548008B1 (ko) 고분자로 랩핑된 반도체성 탄소 나노 튜브의 제조 방법, 이에 의하여 제조된 고분자로 랩핑된 반도체성 탄소 나노 튜브 및 이를 포함하는 반도체성 탄소 나노 튜브 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140603

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140827

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150320

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5719447

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250