JP2014503004A - 新規なセルロースエーテルおよびその使用 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
本発明は、新規なセルロースエーテル、および押出成形体用の組成物におけるその使用に関する。
無機物,例えばセラミック形成性物質の押出成形は、素地体または組成物(これは有機バインダ、界面活性剤、潤滑剤および可塑剤等のアジュバントを無機物質(特にセラミック形成性物質)と混合および混練(所望の形状を有するダイ経由で、シート、棒、中空管、角柱、中空角柱、またはハニカム構造に)することにより得る)を通すことにより行われてきた。特に、セラミックハニカム形状の押出成形体は、自動車および種々の産業の分野で排ガス清浄触媒、フィルター、および熱交換体のための担体として使用されてきた。
驚くべきことに、新規なセルロースエーテルは、ゲル温度より高温での貯蔵弾性率として表されるゲル強度が公知のヒドロキシアルキルメチルセルロースよりも高いことで、セラミック形成性物質等の無機物の押出におけるアジュバントとして極めて有用であることを見出した。
該セルロースエーテルが、水中1.5質量%溶液として20℃で剪断速度2.55s-1にて測定したときの粘度150mPa・s超を有し、
該セルロースエーテルが、MS(ヒドロキシアルキル)0.11〜1.00を有し、
無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、
s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、
s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテルである。
本発明のセルロースエーテルにおいて、エーテル置換基は、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である。ヒドロキシアルキル基は、互いに同じまたは異なることができる。好ましくは、セルロースエーテルは、1つまたは2つのヒドロキシアルキル基を含み、より好ましくは1つ以上のヒドロキシC1−C3アルキル基(例えばヒドロキシプロピルおよび/またはヒドロキシエチル)を含む。有用な任意のアルキル基は、例えばエチルまたはプロピルであり、エチルが好ましい。本発明の好ましい3元セルロースエーテルは、エチルヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルメチルセルロース、またはヒドロキシエチルヒドロキシプロピルメチルセルロースである。好ましいセルロースエーテルは、ヒドロキシアルキルメチルセルロース、特に、ヒドロキシC1−C3アルキルメチルセルロース(例えばヒドロキシプロピルメチルセルロースまたはヒドロキシエチルメチルセルロースである。
以下の例は例示の目的に過ぎず、本発明の範囲の限定を意図しない。全てのパーセントは特記がない限り質量基準である。
セルロースエーテル中のエーテル置換基の評価は、一般に公知であり、例えばCarbohydrate Research,176(1988)137−144,Elsevier Science Publishers B.V.,Amsterdam,DISTRIBUTION OF SUBSTITUENTS IN O−ETHYL−O−(2−HYDROXYETHYL)CELLULOSE(Bengt Lindberg,Ulf Lindquist,およびOlle Stenbergより)に記載されている。
10〜12mgのセルロースエーテルを、4.0mLの乾燥分析グレードジメチルスルホキシド(DMSO)(Merck,Darmstadt,Germany,0.3nmモレキュラーシーブビーズ上で保存)中、約90℃で撹拌下で溶解させ、次いで再度室温まで冷却する。溶液を室温で1晩撹拌し続けて完全な可溶化を確保する。セルロースエーテルの可溶化を含む反応全体を、4mLスクリューキャップバイアル中、乾燥窒素雰囲気を用いて行う。可溶化後、溶解したセルロースエーテルを22mLのスクリューキャップバイアルに移す。粉末化水酸化ナトリウム(新しくすり潰された分析グレードのもの,Merck,Darmstadt,Germany)およびヨウ化エチル(合成用で銀で安定化したもの,Merck−Schuchardt,Hohenbrunn,Germany)を、反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの無水グルコース単位の水酸基当たり30倍モル過剰にて、添加し、窒素下、暗所で3日間室温にて溶液を激しく撹拌する。第1の反応剤の添加と比べて反応剤水酸化ナトリウムおよびヨウ化エチルの3倍量の添加で完全エチル化を繰り返して、室温で更に2日間撹拌する。任意に、反応混合物を1.5mLのDMSOで希釈して、反応の過程中に良好な混合を確保できる。5mLの5%水性チオ硫酸ナトリウム溶液を反応混合物に注ぎ入れ、次いで得られた溶液を3回、4mLのジクロロメタンで抽出する。組合せた抽出物を3回、2mLの水で洗浄する。有機相を無水硫酸ナトリウム(約1g)で乾燥させる。濾過後、溶媒を窒素の穏やかな流れにて除去して、サンプルを更なるサンプル調製まで4℃で保存する。
MRFモノマー=ECN2,3,6−Me/ECNモノマー
s23=[(23−Me+23−Me−6−HAMe+23−Me−6−HA+23−Me−6−HAHAMe+23−Me−6−HAHA];および
s26=[(26−Me+26−Me−3−HAMe+26−Me−3−HA+26−Me−3−HAHAMe+26−Me−3−HAHA]
式中、s23は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。
a)無水グルコース単位の2−および3−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位が置換されていない(=23−Me);
b)無水グルコース単位の2−および3−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、6位がメチル化ヒドロキシアルキル(=23−Me−6−HAMe)または2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖(=23−Me−6−HAHAMe)で置換されている;ならびに
c)無水グルコース単位の2−および3−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ6位がヒドロキシアルキル(=23−Me−6−HA)または2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖(=23−Me−6−HAHA)で置換されている。
s26は下記条件を満たす無水グルコース単位のモル分率の合計である。
a)無水グルコース単位の2−および6−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位が置換されていない(=26−Me);
b)無水グルコース単位の2−および6−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がメチル化ヒドロキシアルキル(=26−Me−3−HAMe)または2ヒドロキシアルキル基を含むメチル化側鎖で(=26−Me−3−HAHAMe)置換されている;ならびに
c)無水グルコース単位の2−および6−位における2つの水酸基がメチル基で置換されており、かつ3位がヒドロキシアルキル(=26−Me−3−HA)または2ヒドロキシアルキル基を含む側鎖(=26−Me−3−HAHA)で置換されている。
1.5質量%水性セルロースエーテル溶液の沈殿またはゲル化の温度依存性の特性を特性化するために、Anton Paar Physica MCR 501レオメーター(Ostfildern,Germany)をCup&Bobセットアップ(CC−27)およびペルチェ温度制御系とともに振動剪断流で用いる。これらの溶液を、粘度測定について説明したのと同じ溶解手順に従って調製する。測定は一定周波数2Hz、および一定歪み(変位振幅)0.5%で10〜85℃、加熱速度1℃/分で、データ収集量4点/分で行う。振動測定で得られる貯蔵弾性率G’は、溶液の弾性特性を表す。振動測定で得られる損失弾性率G”は、溶液の粘性特性を表す。低温では、損失弾性率値G”は貯蔵弾性率G’よりも高く、両値は温度上昇で若干低下する。沈殿が高温で起こる場合、貯蔵弾性率は降下する。この沈殿温度を、対数貯蔵弾性率G’ 対 温度のプロットから、2つの接線の交点として分析する。第1の接線は、温度上昇での貯蔵弾性率の低下にフィッティングされ、第2の接線は温度範囲1〜3℃に亘る貯蔵弾性率の降下にフィッティングされる。温度の更なる上昇で、貯蔵弾性率値は増大し、貯蔵弾性率と損失弾性率との交点が得られる。G’とG”との交点をゲル化温度と定義する。セルロースエーテルの水性溶液がG’/G”≧1で特性化される場合、すなわちこれがゲルを形成する場合、ゲル強度は貯蔵弾性率G’として測定される。本発明の幾つかのセルロースエーテルは、2つの点のG’およびG”の交点を示す。そのような場合、ゲル化温度は、G’/G”=1の温度であってG’/G”=1よりも1℃低い温度ではG”>G’である温度である。図3は、本発明のセルロースエーテルの沈殿温度およびゲル化温度の評価方法を示す。
ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)を以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を2段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量%の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり2.0モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40℃に調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約20分間40℃で撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.5モルの塩化メチルおよび0.6モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)を反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80℃に加熱する。80℃に到達した後、第1段階の反応を30分間進行させる。
反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.8モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.15モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.4モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.2モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第1段階における塩化メチルの量を2.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における塩化メチルの量を1.5モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を0.4モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における塩化メチルの量を0(ゼロ)モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.0モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
第1段階における水酸化ナトリウムの量を1.2モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第1段階における塩化メチルの量を3.5モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における水酸化ナトリウムの量を1.0モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、第2段階における塩化メチルの量を0(ゼロ)モル(無水グルコース単位1モル当たり)とし、そして反応混合物に添加するプロピレンオキシドの量を1.35モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)とする他は例1を繰り返す。
ヒドロキシプロピルメチルセルロースを以下の手順に従って製造する。微粉砕した木材セルロースパルプをジャケット付の撹拌された反応器内に入れる。反応器を空にし、窒素でパージして酸素を除去し、次いで再度空にする。反応を3段階で行う。第1段階では、水酸化ナトリウムの50質量%の水性溶液を、セルロース中の無水グルコース単位1モル当たり1.8モルの量の水酸化ナトリウムでセルロース上にスプレーし、温度を40℃に調整する。撹拌後、水性水酸化ナトリウム溶液およびセルロースの混合物を約10〜20分間40℃で撹拌し、1.5モルのジメチルエーテル、2.3モルの塩化メチルおよび0.4モルのプロピレンオキシド(無水グルコース単位1モル当たり)を反応器に添加する。反応器の内容物を次いで60分間80℃に加熱する。80℃に到達した後、第1段階の反応を5分間進行させる。次いで、反応器の内容物を25分間で65℃まで冷却する。
プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.2モルのエチレンオキシドである。
プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.4モルのエチレンオキシドである。
プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.6モルのエチレンオキシドである。
プロピレンオキシドに代えてエチレンオキシドを反応混合物に添加する以外は例1を繰り返す。添加するエチレンオキシドの量は無水グルコース単位1モル当たり0.8モルのエチレンオキシドである。
The Dow Chemical Companyから商品名Methocel F4Mにて市販で入手可能なヒドロキシプロピルメチルセルロースを用いる。比較例BおよびCのヒドロキシエチルメチルセルロースもまたThe Dow Chemical Companyから市販で入手可能である。
100質量部のコーディエライト配合物(コーディエライトCP820M(Imerys Tableware,Germany)および4質量部の例11または比較例Aのセルロースエーテルからなる)をまず、流動床ミキサー(Loedige,Germany製)内で、均一混合物が形成されるまで乾燥状態で混合した。次いで、30.5部の水(20℃)を続いて添加し;塊をニーダー(AMK,Aachen,Germany製)内で、数分間、更に混合および混練した。塊を次いで直ちに水冷した単軸押出機(Haendle PZVE 8D,スクリュー径8cm、Haendle,Muehlacker,Germanyより)の供給口に導入した。塊を、穿孔板経由で押出し、脱気のために減圧チャンバーを通過させた。減圧チャンバー内の圧力は300〜320mbarであった。塊を次いでまず30分間濾し(すなわち、凝集塊を除くためにメッシュサイズ0.3mmのスクリーンを通過させ)、続いてダイ圧一定となるまで塊の再循環によって室温(23℃)で押出した。次いで塊を40×40mmサイズのスクエアダイ経由で押出した。スクリュー速度は15rpmで保持した。試験を異なる温度で行ってサンプルを製造し、その湿潤素地曲げ弾性率を直ちに測定した。
押出したペーストの湿潤素地曲げ弾性率は、押出したハニカムのような複雑なプロファイルのたるみと相関する。湿潤素地曲げ弾性率は全プロファイルの3点曲げ強さ測定で測定する。
評価は式:
F:力
l:2支持体間の長さ
Δl:偏差
b:サンプル幅
h:サンプル高さ
に従って行う。
試験詳細:サンプルサイズ:ダイ40mm×40mm、断面約17cm2。圧縮ダイ 旋回可能、ベアリングロール 前転旋回可能、侵入速度:10mm/分、長さ/高さ=2.5、試験前負荷 5g(0.04903N、予測される破断力の約0.2%)、力センサー 500N、両ベアリングロール間の差:100mm。
[1] エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、
該セルロースエーテルが、水中1.5質量%溶液として20℃で剪断速度2.55s -1 にて測定したときの粘度150mPa・s超を有し、
該セルロースエーテルが、MS(ヒドロキシアルキル)0.11〜1.00を有し、
無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、
s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、
s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテル。
[2] ヒドロキシアルキルメチルセルロースである、上記[1]に記載のセルロースエーテル。
[3] ヒドロキシプロピルメチルセルロースであり、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.27以下である、上記[2]に記載のセルロースエーテル。
[4] ヒドロキシエチルメチルセルロースであり、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.32以下である、上記[2]に記載のセルロースエーテル。
[5] DS(メチル)1.2〜2.2を有する、前掲のいずれかに記載のセルロースエーテル。
[6] MS(ヒドロキシアルキル)0.18〜0.60を有する、前掲のいずれかに記載のセルロースエーテル。
[7] セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液が雰囲気圧力で検出可能な沈殿温度を有さず、またはセルロースエーテルの沈殿温度よりも3℃以下高いゲル化温度を有し、
ゲル化温度は、G’/G”=1である温度であり、
G’は、セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてG”は、セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液の損失弾性率である、前掲のいずれかに記載のセルロースエーテル。
[8] 1.5質量%水性溶液として80℃にて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも50Paである、前掲のいずれかに記載のセルロースエーテル。
[9] 1.5質量%水性溶液として80℃にて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも200Paである、上記[8]に記載のセルロースエーテル。
[10] 押出成形体用の組成物であって、
a)無機物質、および
b)上記[1]〜[9]のいずれかに記載のセルロースエーテル
を含む、組成物。
[11] 無機物質が、ベーキングまたは焼結によって硬化する物質から選択される、上記[10]に記載の組成物。
[12] 上記[10]または[11]に記載の組成物から製造される、押出成形体。
[13] セラミックハニカム構造を有する、上記[12]に記載の押出成形体。
[14] 上記[12]または[13]に記載の押出成形体の、触媒用の担体としての、触媒としての、熱交換体としての、またはフィルターとしての使用。
Claims (14)
- エーテル置換基が、メチル基、ヒドロキシアルキル基、および任意にメチルとは異なるアルキル基である、セルロースエーテルであって、
該セルロースエーテルが、水中1.5質量%溶液として20℃で剪断速度2.55s-1にて測定したときの粘度150mPa・s超を有し、
該セルロースエーテルが、MS(ヒドロキシアルキル)0.11〜1.00を有し、
無水グルコース単位の水酸基が、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.35以下であるようにメチル基で置換されており、
s23は、無水グルコース単位の2位および3位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率であり、
s26は、無水グルコース単位の2位および6位における2つの水酸基のみがメチル基で置換されている無水グルコース単位のモル分率である、セルロースエーテル。 - ヒドロキシアルキルメチルセルロースである、請求項1に記載のセルロースエーテル。
- ヒドロキシプロピルメチルセルロースであり、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.27以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。
- ヒドロキシエチルメチルセルロースであり、[s23/s26−0.2×MS(ヒドロキシアルキル)]が0.32以下である、請求項2に記載のセルロースエーテル。
- DS(メチル)1.2〜2.2を有する、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。
- MS(ヒドロキシアルキル)0.18〜0.60を有する、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。
- セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液が雰囲気圧力で検出可能な沈殿温度を有さず、またはセルロースエーテルの沈殿温度よりも3℃以下高いゲル化温度を有し、
ゲル化温度は、G’/G”=1である温度であり、
G’は、セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液の貯蔵弾性率であり、そしてG”は、セルロースエーテルの1.5質量%水性溶液の損失弾性率である、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。 - 1.5質量%水性溶液として80℃にて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも50Paである、前掲の請求項のいずれか1項に記載のセルロースエーテル。
- 1.5質量%水性溶液として80℃にて測定される貯蔵弾性率G’が少なくとも200Paである、請求項8に記載のセルロースエーテル。
- 押出成形体用の組成物であって、
a)無機物質、および
b)請求項1〜9のいずれか1項に記載のセルロースエーテル
を含む、組成物。 - 無機物質が、ベーキングまたは焼結によって硬化する物質から選択される、請求項10に記載の組成物。
- 請求項10または11に記載の組成物から製造される、押出成形体。
- セラミックハニカム構造を有する、請求項12に記載の押出成形体。
- 請求項12または13に記載の押出成形体の、触媒用の担体としての、触媒としての、熱交換体としての、またはフィルターとしての使用。
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