JP2014224772A - 排ガス流量計及び排ガス分析システム - Google Patents

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Abstract

【課題】特に希釈前の排ガスに含まれる対象成分の濃度を精度良く測定して、トレーサ法による排ガス流量の測定精度を向上させる。【解決手段】メイン流路ＭＬにおける合流点Ｘよりも上流側から、生排ガスをサンプリングする第１サンプリングライン１１と、生排ガスに含まれる所定の対象成分の濃度を測定する第１濃度測定部２１と、メイン流路ＭＬにおける合流点Ｘよりも下流側から、希釈排ガスをサンプリングする第２サンプリングライン１２と、希釈排ガスに含まれる対象成分の濃度を測定する第２濃度測定部２２と、第１測定濃度、第２測定濃度、及び希釈排ガス流量を用いて、生排ガス流量を演算する演算装置３とを具備し、第１サンプリングライン１１及び第１濃度測定部２１が加熱された状態で、第１濃度測定部２１が生排ガスに含まれる対象成分の濃度を測定するようにした。【選択図】図１

Description

本発明は、例えばエンジン等の内燃機関から排出される排ガスの流量をトレーサ法により測定する排ガス流量計及びこの排ガス流量計を用いた排ガス分析システムに関するものである。
従来、内燃機関から排出される排ガスを希釈する希釈サンプリング方式の排ガス分析システムとして、内燃機関の排気管から排出される排ガスが流れるメイン流路と、メイン流路に合流するとともに、前記排ガスを希釈する希釈ガスが流れる希釈ガス流路と、メイン流路と希釈ガス流路との合流点より下流側に設けられて希釈ガスにより希釈された希釈排ガスの流量を制御する流量制御部とを備えるものがある。
この希釈サンプリング方式において、排気管から排出される排ガスの流量を測定する測定計の１つとして、トレーサ法により測定する排ガス流量計が知られている。
この排ガス流量計は、例えば、特許文献１に示すように、前記合流点より上流側のメイン流路から、希釈前の排ガスである生排ガスをサンプリングするサンプリングラインと、前記合流点より下流側のメイン流路から、希釈後の排ガスである希釈排ガスをサンプリングするサンプリングラインと、各サンプリングラインに接続されてサンプリングされたガスに含まれる対象成分（例えばＣＯ２）の濃度を測定する濃度計と、各濃度計により測定される対象成分の濃度及び流量制御部により制御される希釈排ガスの流量から生排ガスの流量を演算する演算装置とを備えている。
このように構成された排ガス流量計によれば、各濃度計が生排ガス及び希釈排ガスに含まれる対象成分の濃度を瞬時測定することで、これらの濃度比が希釈ガスによる希釈比に等しいとして、生排ガスの流量を瞬時測定することが可能となる。
ところで、内燃機関から排出される排ガスには干渉成分となる例えば水分等が多く含まれている。ここで、水分を除去するものとしては、サンプリングラインと濃度計との間にドレンセパレータを設けて、排ガスに含まれる水分を除去してから濃度計へ導入するものがある（いわゆるＤｒｙ測定）。この場合、排ガスに水分が含まれている状態に比べて対象成分の濃度が高くなるので、レギュレーション（４０ ＣＦＲ ｐａｒｔ１０６５）で定められている換算式（Ｄｒｙ ｔｏ Ｗｅｔ換算式）に基づいて、内燃機関から排出された直後の排ガスに含まれる対象成分の濃度へ換算するようにしている。
しかしながら、実際は、内燃機関から排出された排ガスが排気管を流れる間に、当該排ガスに含まれる水分が排気管内で凝縮したり吸着したりする場合がある。この場合、内燃機関から排出された直後の排ガスと、排気管から排出された排ガス（前述した生排ガス）とは、含まれている水分量に差が生じており、前記換算式により換算された対象成分の濃度は、前記生排ガスに含まれる対象成分の濃度を示さない。また、排気管内でどの程度の凝縮や吸着等が生じているかを知ることは難しく、生排ガスに含まれる対象成分の濃度を精度良く測定することは困難である。
一方で、ドレンセパレータを使用せず、排気管から排出された排ガスに水分が含まれている状態で対象成分の濃度を測定する方法（いわゆるＷｅｔ測定）も考えられるが、この方法では、特に水分が多く含まれる生排ガスが流れるサンプリングラインや濃度計において、当該生排ガスに含まれる水分が凝縮したり吸着してしまう。これにより、対象成分が溶解性を有する例えばＣＯ２等であると、凝縮や吸着した水分に対象成分が溶解することで測定誤差を引き起こすこともあり、この場合も精度良く対象成分の濃度を測定することができないという問題が生じる。
特開昭６２−５１５１号公報
そこで本発明は、特に希釈前の排ガスに含まれる対象成分の濃度を精度良く測定して、トレーサ法による排ガス流量の測定精度を向上させることをその主たる所期課題とするものである。
すなわち本発明に係る排ガス流量計は、内燃機関から排出される排ガスが流れるメイン流路と、前記メイン流路に合流するとともに、前記排ガスを希釈する希釈ガスが流れる希釈ガス流路とを備える排ガス希釈システムに用いられるものであって、前記メイン流路における前記メイン流路と前記希釈ガス流路との合流点よりも上流側から、希釈前の前記排ガスである生排ガスをサンプリングする第１サンプリングラインと、前記第１サンプリングラインに設けられ、前記生排ガスに含まれる所定の対象成分の濃度を測定する第１濃度測定部と、前記メイン流路における前記合流点よりも下流側から、希釈後の前記排ガスである希釈排ガスをサンプリングする第２サンプリングラインと、前記第２サンプリングラインに設けられ、前記希釈排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定する第２濃度測定部と、前記第１濃度測定部より得られる第１測定濃度、前記第２濃度測定部より得られる第２測定濃度、及び前記希釈排ガスの流量である希釈排ガス流量を用いて、前記生排ガスの流量である生排ガス流量を演算する演算装置とを具備し、前記第１サンプリングライン及び前記第１濃度測定部が加熱された状態で、前記第１濃度測定部が前記生排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定することを特徴するものである。
このようなものであれば、第１サンプリングライン及び第１濃度測定部が加熱された状態で対象成分の濃度を測定するので、第１サンプリングライン及び第１濃度測定部において生排ガスに含まれている水分等が凝縮や吸着等することを防ぐことができる。これにより、水分が含まれている状態で生排ガスを測定（Ｗｅｔ測定）することができるので、生排ガスに含まれる対象成分が水分に溶解することなく、対象成分の濃度を精度良く求めることができ、トレーサ法による排ガス流量の測定精度を向上させることが可能となる。
また、生排ガスに水分が含まれている状態で対象成分の濃度を測定（Ｗｅｔ測定）するので、Ｄｒｙ ｔｏ Ｗｅｔ換算式を用いて内燃機関から排出された直後の濃度へ換算する必要もない。
さらに、ドレンセパレータ等を使用しないので、メイン流路から第１濃度測定部までのサンプリングラインを短くすることができ、濃度測定の応答性を向上させることができるうえ、排ガス流量計のコンパクト化や軽量化にも寄与し得る。
通常、希釈排ガスに含まれる水分等は凝縮や吸着等しにくいが、より確実に水分等を凝縮や吸着等させずに、希釈排ガスに含まれる対象成分の濃度をより精度良く測定するためには、前記第２サンプリングライン及び前記第２濃度測定部が加熱された状態で、前記第２濃度測定部が前記希釈排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定することが好ましい。
対象成分の濃度測定に水分が影響を及ぼす場合であっても、生排ガス及び希釈ガスに含まれる対象成分の濃度を精度良く測定するためには、加熱された前記濃度測定部が、排ガス中の水分濃度を測定する水分濃度計と、水分影響を受けた状態での前記排ガス中の前記対象成分の濃度である水分影響濃度を測定する対象成分濃度計とを具備し、前記排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を、前記水分影響濃度から前記水分濃度を用いて水分影響を除いた濃度として算出することが望ましい。
また、本発明の排ガス流量計を用いた排ガス分析システムによれば、内燃機関から排出される排ガスの流量をトレーサ法により精度良く測定することができ、高精度な排ガス分析が可能となる。
このように構成した本発明によれば、特に希釈前の排ガスに含まれる対象成分の濃度を精度良く測定することで、トレーサ法による排ガス流量の測定精度を向上させることができる。
本実施形態の排ガス流量計を模式的に示す図。 同実施形態の濃度測定部の構成を模式的に示す図。
以下に本発明に係る排ガス流量計１を用いた排ガス分析システム１００について図面を参照して説明する。
本実施形態に係る排ガス分析システム１００は、希釈サンプリング方式のものであり、排ガス希釈システム１０１を用いて、例えばエンジン等の内燃機関２０１から排出される排ガスを大気から精製される希釈ガスで数倍に希釈して濃度測定を行うものである。以下、本実施形態では、排ガス希釈システム１０１として、排ガス全量をサンプリングして、希釈ガスで希釈して一定流量にする定容量サンプリング装置を用いたものについて説明する。
具体的に、この排ガス分析システム１００は、図１に示すように、排ガス全量と希釈ガスとを合わせた総流量が常に一定となるように制御して、希釈された排ガスの一部及び希釈ガスの一部を採取する定容量サンプリング装置１０１と、採取された排ガスを収容する排ガスサンプリングバッグＭ１と、採取された希釈ガスを収容する希釈ガスサンプリングバッグＭ２と、各サンプリングバッグＭ１、Ｍ２に採取されたガス中の所定成分（例えばＨＣ、ＣＯ、ＣＯ２等）の濃度を分析して、排ガスに含まれる所定成分の濃度を算出する排ガス分析装置１０２とを備えている。
定容量サンプリング装置１０１は、図１に示すように、内燃機関２０１の排気管２０２から排出される排ガスが流れるメイン流路ＭＬと、メイン流路ＭＬに合流するとともに、排ガスを希釈する希釈ガスが流れる希釈ガス流路ＤＬと、メイン流路ＭＬと希釈ガス流路ＤＬとの合流点Ｘより下流側に設けられ、希釈ガスにより希釈された希釈排ガスの流量を一定に制御する流量制御部１０３とを備えるものである。
この流量制御部１０３は、図１に示すように、臨界流量ベンチュリＣＦＶ及び吸引ポンプＰとからなる臨界流量ベンチュリ方式のものである。本実施形態では１つの臨界流量ベンチュリＣＦＶを設けてあるが、複数の臨界流量ベンチュリＣＦＶを並列に設け、例えば開閉弁等を用いて希釈排ガスを流す臨界流量ベンチュリＣＦＶを変更することで、希釈排ガスの流量を変更できるように構成しても良い。
上述した排ガス分析システム１００に用いられる排ガス流量計１は、希釈前及び希釈後の排ガスに含まれる対象成分の濃度を測定することで、トレーサ法により排気管２０２から排出される排ガスの流量を測定するものである。なお、本実施形態では、対象成分をＣＯ２とする。
具体的に、この排ガス流量計１は、図１に示すように、メイン流路ＭＬにおける合流点Ｘより上流側から、希釈前の排ガスである生排ガスをサンプリングする第１サンプリングライン１１と、第１サンプリングライン１１に接続されて生排ガスに含まれるＣＯ２濃度を測定する第１濃度測定部２１と、メイン流路ＭＬにおける合流点Ｘより下流側から、希釈後の排ガスである希釈排ガスをサンプリングする第２サンプリングライン１２と、第２サンプリングライン１２に接続されて希釈排ガスに含まれるＣＯ２濃度を測定する第２濃度測定部２２と、生排ガスの流量を演算する演算装置３とを備える。
第１サンプリングライン１１は、生排ガスをサンプリングして第１濃度測定部２１へ供給するものであり、一端がメイン流路ＭＬにおける合流点Ｘより上流側に接続されるとともに、他端が第１濃度測定部２１に接続されている。なお、第１サンプリングライン１１によるサンプリングは、図示しない吸引ポンプによって行われる。
第２サンプリングライン１２は、希釈排ガスをサンプリングして第２濃度測定部２２へ供給するものであり、一端がメイン流路ＭＬにおける合流点Ｘより下流側に接続されるとともに、他端が第２濃度測定部２２に接続されている。なお、第２サンプリングライン１２によるサンプリングは、図示しない吸引ポンプによって行われる。
第１濃度測定部２１は、供給された生排ガスに含まれるＣＯ２濃度を瞬時測定するものであり、第２濃度測定部２２は、供給された希釈排ガスに含まれるＣＯ２濃度を瞬時測定するものであり、これらはいずれも排ガスに水分が含まれている状態でＣＯ２濃度を測定（Ｗｅｔ測定）し得るように構成されている。
これらの濃度測定部２１、２２は、いずれも排ガス中の水分濃度を測定する水分濃度計の機能と対象成分濃度を測定する対象成分濃度計の機能とを有するＮＤＩＲ分析装置であって、それぞれ同じ構成のものである。
以下に、これらを代表して第１濃度測定部２１のＮＤＩＲ分析装置の構成について説明する。
第１濃度測定部２１のＮＤＩＲ分析装置は、図２に示すように、サンプリングライン１１が接続されて排ガス（ここでは生排ガス）が供給される測定セル５と、この測定セル５に外部から赤外光Ｌを照射する赤外光源６と、水分の吸収スペクトルに合わせた波長域の赤外光Ｌ１を透過する第１光学フィルタ７１と、赤外光Ｌ１の光強度を検出する第１光検出器８１と、ＣＯ２の吸収スペクトルに合わせた波長域の赤外光Ｌ２を透過する第２光学フィルタ７２と、赤外光Ｌ２の光強度を検出する第２光検出器８２と、排ガスに含まれるＣＯ２の水分影響を除いた濃度（実濃度）を算出する実濃度算出部９とを備えるものである。
なお、サンプリングライン１１から測定セル５へ供給された排ガスは、排出ライン１０から排出されるように構成されており、この排出ライン１０は、排出される排ガスをメイン流路ＭＬへ戻すように構成されていても良いし、外部へ排出するように構成されていても良い。
水分の吸収スペクトルはＣＯ２の吸収スペクトルの影響を受けないが、ＣＯ２の吸収スペクトルは水分の吸収スペクトルの影響を受けるので、第２光検出器８２で検出されるＣＯ２の吸収スペクトルは、排ガスに含まれる水分の影響を受けた状態で検出される吸収スペクトルである。
実濃度算出部９は、第１光検出器８１からの光強度信号を取得して排ガス中の水分濃度を算出するとともに、第２光検出器８２からの光強度信号を取得して排ガス中の水分影響を受けたＣＯ２濃度である水分影響濃度を算出する。そして、前記水分濃度に基づいて、前記水分影響濃度から水分の影響を除いたＣＯ２の実濃度を算出する。
以上のように構成された第１濃度測定部２１は、第１サンプリングライン１１から供給された生排ガスに含まれるＣＯ２の実濃度Ｃ希釈前（ｔ）を瞬時測定するとともに、その測定結果を演算装置３へ送信する。
同様に、第２濃度測定部２２は、第２サンプリングライン１２から供給された希釈排ガスに含まれるＣＯ２の実濃度Ｃ希釈後（ｔ）を瞬時測定するとともに、その測定結果を演算装置３へ送信する。
演算装置３は、各濃度測定部２１、２２からの信号を取得するとともに、流量制御部１０３により制御される希釈排ガス流量Ｑｍｉｘを取得して、生排ガス流量Ｑｅｘ（ｔ）を算出するものである。本実施形態では、希釈排ガス流量Ｑｍｉｘは臨界流量ベンチュリＣＦＶの臨界流量である。
なお、演算装置３は、図示しないＣＰＵ、メモリ、入出力インターフェイス、ＡＤ変換器等を有する専用乃至汎用のコンピュータである。
詳述すると、演算装置３は、第１濃度測定部２１より得られた生排ガスに含まれるＣＯ２の実濃度Ｃ希釈前（ｔ）に対する第２濃度測定部２２より得られた希釈排ガスに含まれるＣＯ２の実濃度Ｃ希釈後（ｔ）の濃度比（＝Ｃ希釈後（ｔ）／Ｃ希釈前（ｔ））を算出し、この濃度比を希釈排ガス流量Ｑｍｉｘに乗じて生排ガスの流量Ｑｅｘ（ｔ）（＝Ｑｍｉｘ×Ｃ希釈後（ｔ）／Ｃ希釈前（ｔ））を瞬時算出するように構成されている。
また、本実施形態の演算装置３は、前記生排ガスの流量Ｑｅｘ（ｔ）を用いて、排ガスに含まれる所定の測定成分Ｘ（例えばＨＣ、ＣＯ、ＣＯ２等）が排気管２０２から排出される瞬時排ガス重量ＭＸ（ｔ）を算出するように構成されている。
詳述すると、演算装置３は、上述した第１濃度測定部２１から生排ガスに含まれる測定成分Ｘの排ガス濃度ＣＸ（ｔ）を取得するとともに、この排ガス濃度ＣＸ（ｔ）とあらかじめ記憶している測定成分Ｘの密度ρＸとを上述した生排ガス流量Ｑｅｘ（ｔ）に乗じて、測定成分Ｘの瞬時排ガス重量ＭＸ（ｔ）（＝Ｑｅｘ（ｔ）×ＣＸ（ｔ）×ρＸ）を算出するように構成されている。
しかして、本実施形態では、図１及び図２に示すように、第１サンプリングライン１１及び第１濃度測定部２１を加熱する第１加熱機構４１と、第２サンプリングライン１２及び第２濃度測定部２２を加熱する第２加熱機構４２とが設けられている。
なお、これらの加熱機構４１、４２は、本実施形態では、それぞれ独立して稼働できるように構成されている。
第１加熱機構４１は、例えば図示しないヒータを備えるものであって、少なくとも第１サンプリングライン１１と第１濃度測定部２１の測定セル５とを加熱して所望の設定温度に保つものである。
第２加熱機構４２も同様に、例えば図示しないヒータを備えるものであって、少なくとも第２サンプリングライン１２と第２濃度測定部２２の測定セル５とを加熱して所望の設定温度に保つものである。
これらの加熱機構４１、４２の設定温度は、本実施形態では、各サンプリングライン１１、１２及び各濃度測定部２１、２２において生排ガスや希釈排ガスに含まれる水分が凝縮しない例えば８０℃としてある。
なお、高沸点を有し、凝縮しやすい成分が排ガスに含まれている場合は、より高い温度に設定しても良いし、サンプリングライン１１、１２等に吸着しやすいＮＨ３等が排ガスに含まれている場合は、ＮＨ３等が吸着しない温度に設定しても良い。
また、これらの加熱機構４１、４２による加熱時間は、例えば、サンプリングライン１１、１２による排ガスのサンプリング開始時から、濃度測定部２１、２２による対象成分の濃度測定終了時までの間となるように設定されていてもよいし、サンプリング開始前から所定の温度に温調しておいても良い。
以上のように構成された本実施形態に係る排ガス流量計１によれば、第１加熱機構４１が、生排ガスのサンプリング開始時から生排ガスに含まれるＣＯ２濃度の測定終了時までの間、第１サンプリングライン１１及び第１濃度測定部２１を加熱しているので、この間に第１サンプリングライン１１及び第１濃度測定部２１において水分が凝縮や吸着することなく、水分が含まれている状態で生排ガスを測定（Ｗｅｔ測定）することができる。これにより、生排ガスに含まれるＣＯ２が水分に溶解することなく、ＣＯ２濃度を精度良く求めることができ、トレーサ法による排ガス流量の測定精度を向上させることが可能となる。
また、生排ガスに水分が含まれている状態でＣＯ２濃度を測定（Ｗｅｔ測定）するので、Ｄｒｙ ｔｏ Ｗｅｔ換算式を用いて内燃機関２０１から排出された直後の濃度へ換算する必要もなく、また、内燃機関から排気管を通って排出された排ガスの対象成分の濃度を正確に測定することができる。
さらに、通常、希釈排ガスに含まれる水分は凝縮や吸着等しにくいが、第２サンプリングライン１２及び第２濃度測定部２２も加熱された状態でＣＯ２濃度を測定するので、より確実に希釈排ガスに含まれる水分を凝縮や吸着させずに、希釈排ガスに含まれるＣＯ２濃度をより精度良く測定することができる。
加えて、ドレンセパレータ等を使用しないので、メイン流路ＭＬから濃度測定部２１、２２までのサンプリングライン１１、１２を短くすることができ、濃度測定の応答性を向上させることができるうえ、排ガス流量計１のコンパクト化や軽量化にも寄与し得る。
さらに加えて、第１加熱機構４１及び第２加熱機構４２が独立して稼動できるように構成されているので、第２加熱機構４２による加熱が不要である場合は、第１加熱機構４１のみを稼動させれば省電や省エネになる。
ＮＤＩＲ法を用いて排ガス中のＣＯ２濃度を測定する場合、従来は排ガスに含まれる水分の影響を受けていたが、本実施形態に係る濃度測定部２１、２２は、水分濃度計の機能と対象成分濃度計の機能とを有しているので、排ガスに含まれる水分の影響を除いた実際のＣＯ２濃度を精度良く測定することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態では、加熱機構４１、４２が、それぞれ独立したものであったが、サンプリングライン１１、１２及び濃度測定部２１、２２全てを１つの加熱機構で加熱するように構成してもよい。
また、加熱機構４１が、赤外光源６、光学フィルタ７１及び光検出器８１を加熱するものであっても構わない。
さらに、前記実施形態では、第１濃度測定部２１のＮＤＩＲ分析装置が、水分濃度計の機能と対象成分濃度計の機能とを有するように構成されていたが、水分濃度計と対象成分濃度計とが別々の分析装置であっても良い。
トレーサ法に関して言えば、前記実施形態では、対象成分をＣＯ２としているが、排ガスに含まれているその他の成分としても良い。また、排ガスに含まれない不活性な成分である例えばＨｅ等を排気管から排出される排ガスに混入して、希釈前及び希釈後のＨｅ濃度を測定するようにしても良い。
また、前記実施形態では、流量制御部１０３が臨界流量ベンチュリ方式のものであったが、例えば、臨界流量オリフィス（ＣＦＯ）や定容量ポンプ、ブロアなどを用いて流量制御するようにしても構わない。さらに、流量計を設けて希釈排ガス流量Ｑｍｉｘを瞬時測定するようにしても良い。
排ガス分析システム１００に関して言えば、前記実施形態では、定容量希釈サンプリング方式のものであったが、排ガスの一部を採取して一定比率で希釈するバッグミニダイリュータ方式であっても良い。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
２０１・・・内燃機関
２０２・・・排気管
１０１・・・定容量サンプリング装置
ＭＬ ・・・メイン流路
１ ・・・排ガス流量計
１１ ・・・第１サンプリングライン
２１ ・・・第１濃度測定部
１２ ・・・第２サンプリングライン
２２ ・・・第２濃度測定部
３ ・・・演算装置
４１ ・・・第１加熱機構
４２ ・・・第２加熱機構

Claims (4)

  1. 内燃機関から排出される排ガスが流れるメイン流路と、前記メイン流路に合流するとともに、前記排ガスを希釈する希釈ガスが流れる希釈ガス流路とを備える排ガス希釈システムに用いられるものであって、
    前記メイン流路における前記メイン流路と前記希釈ガス流路との合流点よりも上流側から、希釈前の前記排ガスである生排ガスをサンプリングする第１サンプリングラインと、
    前記第１サンプリングラインに設けられ、前記生排ガスに含まれる所定の対象成分の濃度を測定する第１濃度測定部と、
    前記メイン流路における前記合流点よりも下流側から、希釈後の前記排ガスである希釈排ガスをサンプリングする第２サンプリングラインと、
    前記第２サンプリングラインに設けられ、前記希釈排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定する第２濃度測定部と、
    前記第１濃度測定部より得られる第１測定濃度、前記第２濃度測定部より得られる第２測定濃度、及び前記希釈排ガスの流量である希釈排ガス流量を用いて、前記生排ガスの流量である生排ガス流量を演算する演算装置とを具備し、
    前記第１サンプリングライン及び前記第１濃度測定部が加熱された状態で、前記第１濃度測定部が前記生排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定することを特徴とする排ガス流量計。
  2. 前記第２サンプリングライン及び前記第２濃度測定部が加熱された状態で、前記第２濃度測定部が前記希釈排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を測定することを特徴とする請求項１記載の排ガス流量計。
  3. 加熱された前記濃度測定部が、
    排ガス中の水分濃度を測定する水分濃度計と、
    水分影響を受けた状態での前記排ガス中の前記対象成分の濃度である水分影響濃度を測定する対象成分濃度計とを具備し、
    前記排ガスに含まれる前記対象成分の濃度を、前記水分影響濃度から前記水分濃度を用いて水分影響を除いた濃度として算出することを特徴とする請求項１又は２記載の排ガス流量計。
  4. 請求項１乃至３の何れかに記載の排ガス流量計を用いた排ガス分析システム。
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