JP2014216319A - 透過型電子顕微鏡内で位相版を用いる方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims abstract description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003550 marker Substances 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 3
- 230000005264 electron capture Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004901 spalling Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/285—Emission microscopes, e.g. field-emission microscopes
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- H01J2237/2614—Holography or phase contrast, phase related imaging in general, e.g. phase plates
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Abstract
Description
前記透過型電子顕微鏡内に前記位相板を導入する段階;
前記薄膜に集束電子ビームを照射することによって前記位相板を準備する段階;
前記透過型電子顕微鏡内に試料を導入する段階;及び、
前記の準備された位相板を用いて前記試料の画像を生成する段階;
を有する方法に関する。
ここで、μ(バー)は電気化学ポテンシャルで、μは化学ポテンシャルで、qは元素の電荷で、ψは材料の内部ポテンシャルである。2つの電気伝導性材料が電気的に接続されるとき、電気化学ポテンシャルμ(バー)は必ず等しくなるので、化学ポテンシャルの差異が内部ポテンシャルの差異となる。2つの材料間での内部ポテンシャルの差異は、Galvaniポテンシャルと呼ばれる。真空中でも、ポテンシャル差が生じる。このポテンシャルはVoltaポテンシャルと呼ばれる。Voltaポテンシャルは、2つの材料間での表面ポテンシャルの差異である点で、Galvaniポテンシャルと異なる。このVoltaポテンシャルは、2つの材料を通り抜ける電子の位相シフトの差異に関与するが、膜内部ではGalvaniポテンシャルは関与しない。その理由は、Voltaポテンシャルが、膜の厚さよりも大きい距離にわたって真空にまで及ぶからである。
102 光軸
104 粒子源
106 収束系
108 試料
110 試料ホルダ
112 対物レンズ
114 後焦点面
116 拡大系
118 位相板
120 マニピュレータ
122 投影系
124 検出器
126 ガラス窓
128-1 偏向器
128-2 偏向器
128-3 偏向器
128-4 偏向器
128-5 偏向器
128-6 偏向器
128-7 偏向器
200 薄膜
201 非照射領域
202 照射領域
Claims (13)
- 透過型電子顕微鏡内において薄膜を含む位相板を用いる方法であって:
前記透過型電子顕微鏡内に前記位相板を導入する段階;
前記薄膜に集束電子ビームを照射することによって前記位相板を準備する段階;
前記透過型電子顕微鏡内に試料を導入する段階;及び、
前記の準備された位相板を用いて前記試料の画像を生成する段階;
を有し、
前記位相板を準備する段階が、前記位相板に集束電子ビームを照射することによる前記薄膜の電子構造の変化の結果生じる真空ポテンシャルを局所的に発生させ、かつ、
前記真空ポテンシャルは、絶対位相シフト|φ|を非照射薄膜での値よりも小さくする、
ことを特徴とする方法。 - 前記薄膜の準備が薄膜材料の除去ではない、請求項1に記載の方法。
- 前記位相板が、汚染を回避するように加熱される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記位相板が、正の位相コントラストを誘起する、請求項1乃至3のうちいずれか一項に記載の方法。
- 散乱電子と非散乱電子を含むビームを前記位相板に照射した後、前記位相板とビームの相互の位置が変化し、前記位相板が新たに準備され、
前記準備の後、前記位相板には、散乱電子と非散乱電子を含むビームが再度照射される、
請求項1乃至4のうちいずれか一項に記載の方法。 - 撮像中に前記ビームの位置を移動させながら、前記薄膜の条件設定が実現される、請求項1乃至5のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記薄膜の条件設定された領域が、撮像中に前記(集束)非回折電子ビームによって指定された領域よりも大きい、請求項1乃至6のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記薄膜が、前記透過型電子顕微鏡を位置合わせするのに用いられるマーカー及び/又は穴を有する、請求項1乃至7のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記マーカーが、1μm以下のサイズを有し、環状の形状で、かつ、密なパターン内に設けられる、請求項1乃至8のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記薄膜がカーボンを含み、より具体的にはアモルファスカーボンを含む、請求項1乃至9のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記薄膜が5乃至20nmの厚さを有する、請求項1乃至10のうちいずれか一項に記載の方法。
- 前記試料の撮像が前記試料への平行な電子ビームの照射を含む、請求項1乃至11のうちいずれか一項に記載の方法。
- 条件設定する間、前記集束ビームの焦点の直径が、所定の位相シフトを与えるように制御される、請求項1乃至11のうちいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13165356.0 | 2013-04-25 | ||
EP13165356.0A EP2797100A1 (en) | 2013-04-25 | 2013-04-25 | Method of using a phase plate in a transmission electron microscope |
EP13180361 | 2013-08-14 | ||
EP13180361.1 | 2013-08-14 | ||
EP13190405 | 2013-10-28 | ||
EP13190405.4 | 2013-10-28 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014216319A true JP2014216319A (ja) | 2014-11-17 |
JP2014216319A5 JP2014216319A5 (ja) | 2017-05-18 |
JP6286270B2 JP6286270B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=50489030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014086240A Active JP6286270B2 (ja) | 2013-04-25 | 2014-04-18 | 透過型電子顕微鏡内で位相版を用いる方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9129774B2 (ja) |
EP (1) | EP2797101B1 (ja) |
JP (1) | JP6286270B2 (ja) |
CN (1) | CN104217910B (ja) |
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CN104217910A (zh) | 2014-12-17 |
EP2797101A1 (en) | 2014-10-29 |
JP6286270B2 (ja) | 2018-02-28 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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