JP2014191349A5 - - Google Patents
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Claims (17)
- 画像形成装置であって、
a)静電潜像をその上に現像する電荷保持表面を有する画像部材であって、前記画像部材は、
基材、および、
前記基材上に配置される光導電部材、
を備える、画像部材と、
b)前記電荷保持表面上の帯電を所定の電位まで印加するバイアス帯電ローラであって、帯電ユニットは、前記光導電部材と接触する第1の円周領域(CC[contact])および前記光導電部材から約1μm〜約1mmの距離をおく第2の円周領域(CC[non−contact])を備える、バイアス帯電ローラと、
c)発振電圧信号を前記バイアス帯電ローラへ供給する電力供給装置であって、前記発振電圧信号は、kHzで表される周波数Am[fAC]およびkVで表される振幅Am[VAC]を有し、次の関係、
(CC[contact]/CC[non−contact])≦(Am[fAC]/Am[VAC])≦(CC[non−contact]/CC[contact])
が成り立つ、電力供給装置と、
を備える、画像形成装置。 - 前記発振電圧信号は、kVで表される[DCバイアス]の絶対値の値でDCオフセットによりバイアスされる、請求項1に記載の画像形成装置。
- 前記[DCバイアス]の絶対値<Am[VAC]である、請求項2に記載の画像形成装置。
- CC [contact] <CC [non−contact] が成り立つ、請求項1に記載の画像形成装置。
- CC [contact] /CC [non−contact] が0.08から0.3である、請求項1に記載の画像形成装置。
- 前記バイアス帯電ローラの表面抵抗率は、10 3 オーム−mから10 13 オーム−mである、請求項1に記載の画像形成装置。
- 帯電ユニットであって、
電荷保持表面を有する画像部材上の帯電を所定の電位まで印加するバイアス帯電ローラであって、前記バイアス帯電ローラは、前記電荷保持表面と接触する第1の円周領域CC[contact]および前記電荷保持表面から約1μm〜約1mmの距離をおく第2の円周領域CC[non−contact]を備える、バイアス帯電ローラと、
発振電圧信号を前記バイアス帯電ローラへ供給する電力供給装置であって、発振電圧信号は、kHzで表される周波数Am[fAC]およびkVで表される振幅Am[VAC]を有し、次の関係、
(CC[contact]/CC[non−contact])≦(Am[fAC]/Am[VAC])≦(CC[non−contact]/CC[contact])
が成り立つ、電力供給装置と、
を備える、帯電ユニット。 - 前記発振電圧信号は、kVで表される[DCバイアス]の絶対値の値でDCオフセットによりバイアスされる、請求項7に記載の帯電ユニット。
- 前記[DCバイアス]の絶対値<Am[V AC ]である、請求項7に記載の帯電ユニット。
- CC [contact] /CC [non−contact] が0.08から0.3である、請求項7に記載の帯電ユニット。
- 前記バイアス帯電ローラの表面抵抗率は、10 3 オーム−mから10 13 オーム−mである、請求項7に記載の帯電ユニット。
- 画像形成装置であって、
静電潜像を受像するように構成される電荷保持表面を有する電子写真画像部材と、
現像剤材料を電荷保持表面へ塗布して前記電荷保持表面上に現像画像を形成する現像コンポーネントと、
前記現像画像を前記電荷保持表面から基材へ転写するための転写コンポーネントと、
前記電荷保持表面上の帯電を所定の電位まで印加するバイアス帯電ローラであって、帯電ユニットは、光導電部材と接触する第1の円周領域(CC [contact] )および前記光導電部材から約1μm〜約1mmの距離をおく第2の円周領域(CC [non−contact] )を備える、バイアス帯電ローラと、
発振電圧信号を前記バイアス帯電ローラへ供給する電力供給装置であって、前記発振電圧信号は、kHzで表される周波数Am[f AC ]およびkVで表される振幅Am[V AC ]を有し、次の関係、
(CC [contact] /CC [non−contact] )≦(Am[f AC ]/Am[V AC ])≦(CC [non−contact] /CC [contact] )
が成り立つ、電力供給装置と、
を備える、画像形成装置。 - 前記発振電圧信号は、kVで表される[DCバイアス]の絶対値の値でDCオフセットによりバイアスされる、請求項12に記載の画像形成装置。
- 前記[DCバイアス]の絶対値<Am[V AC ]である、請求項13に記載の画像形成装置。
- CC [contact] <CC [non−contact] が成り立つ、請求項12に記載の画像形成装置。
- CC [contact] /CC [non−contact] が0.08から0.3である、請求項12に記載の画像形成装置。
- 前記バイアス帯電ローラの表面抵抗率は、10 3 オーム−mから10 13 オーム−mである、請求項12に記載の画像形成装置。
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