JP2014172022A - ガス処理装置の運転方法およびガス処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パルス電源1を設けて、ガス流通部3に流通する原料ガスにパルス電圧を印加して生成ガスを得るガス処理装置の運転方法であって、パルス電源1が、パルス生成周波数を変更自在に構成され、原料ガスがメタン含有ガスであり、生成ガス中のメタン濃度が上昇するのにしたがってパルス生成周波数が大きくなるように変更制御する。
【選択図】図1
Description
このようなガス処理にパルス放電技術を使用することが特許文献1に提案されている。
上記目的のための本発明のガス処理装置の運転方法の特徴構成は、
パルス電源を設けて、ガス流通部に流通する原料ガスにパルス電圧を印加してガス処理を行うガス処理装置の運転方法であって、
前記パルス電源が、パルス生成周波数を変更自在に構成され、
前記原料ガスがメタン含有ガスであり、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成周波数が大きくなるように変更制御する点にある。
パルス電源を設けて、ガス流通部に流通する原料ガスにパルス電圧を印加してガス処理を行うガス処理装置は、プラズマを生成することで、多量の化学活性種を効率良く生成することが可能となる。
また、上記構成に加えて、前記パルス電源が、パルス生成電圧を変更自在に構成され、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成電圧が大きくなるように変更制御するようにしてもよい。
上記構成によると、パルス電圧の供給エネルギーに対して、高い効率でメタン含有ガス中のメタンを酸化除去するガス処理が可能になるが、さらに応答性良くパルス電源による化学活性種発生量を増加させるには、前記パルス生成周波数に加えて、パルス電圧も併せて変更制御することができる。この場合、ガス温度の上昇を伴うが、ガス温度の上昇により触媒反応の進行度合いを調整したり、反応速度を向上させたりする効果が期待できるので、ガス処理装置の反応環境に応じて採用することができる。この構成を採用する場合も、例えば、メタン濃度を一定以下に抑えたい場合、メタン濃度が当該一定値を越えた状態で、現行で採用しているパルス生成周波数より予め定めておいた一定値だけ増大させる、その操作に加えて、現行で採用しているパルス生成電圧より予め定めておいた一定値だけ増大させる(なお、一定値以下とならない場合は、さらに増大させる)ことで、メタン濃度を所望の濃度に保つことができる。
また、上記目的のための本発明のガス処理装置の特徴構成は、
パルス電源を設けて、原料ガス供給部からガス流通部に供給される原料ガスにパルス電圧を周期的に印加して生成ガス排出部に生成ガスを排出するガス処理装置であって、
前記パルス電源が、パルス生成周波数を変更自在に構成され、
前記原料ガスがメタン含有ガスであり、
前記生成ガス排出部にガス分析部を設けるとともに、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成周波数が大きくなるように変更制御する制御装置を設けた点にある。
上記構成によると、前記パルス電源が、パルス生成周波数を変更自在に構成されているから、原料ガスにパルス電圧を印加して生成ガスを得るガス処理装置の運転が可能となる。ここで、前記原料ガスがメタン含有ガスであるから、原料ガス中のメタンガスを酸化除去する処理反応を行うことができる。また、前記生成ガス排出部にガス分析部を設けると、その分析部におけるメタン濃度により、前記処理反応の進行度合いを知ることができる。メタン濃度が上昇すると、この進行度合いが低下していることを意味しているから、生成ガス中のメタン濃度が上昇するのにしたがって、前記制御装置が、前記パルス生成周波数が大きくなるように変更制御することにより、前記処理反応の進行を促進して、反応効率を高めることができる。
また、上記構成に加えて、前記パルス電源が、パルス生成電圧を変更自在に構成され、
前記制御装置が、前記生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成電圧が大きくなるように変更制御可能に設けられてもよい。
上記構成によると、パルス電圧の供給エネルギーに対して、高い効率でメタン含有ガス中のメタンを酸化除去するガス処理が可能になるとともに、応答性良くパルス電源による化学活性種発生量を増加することができる。
ガス処理装置は、図1に示すように、パルス電源1を設けて、原料ガス供給部2からガス流通部3に供給される原料ガスにパルス電圧を周期的に印加して生成ガス排出部4に生成ガスを排出する構成としてある。ここで、前記パルス電源1は、パルス生成周波数を変更自在に構成されている。
ガス流通部3としては、ガス流通部3として、同軸円筒式のものや、触媒を併用する形態のものや水膜式のものなど、種々公知の形態のガス流通部3を採用することができる。
また、前記パルス電源1は、交流電源を用いて、方形波電圧パルスを発生可能にするパルス電源回路を備え、制御装置6からの制御信号にしたがって、発生パルスの電圧およびパルス生成周波数を変更可能に設けてある。メタン濃度が一定値を越えた場合に、現行で採用しているパルス生成周波数より予め定めておいた一定値だけ増大させる、その操作に加えて、現行で採用しているパルス生成電圧より予め定めておいた一定値だけ増大させる(なお、一定値以下とならない場合は、さらに増大させる)構成とされている。
前記ガス分析部5は、前記生成ガス排出部4に排出される生成ガスのメタンを検知するメタンセンサ51を備え、生成ガス中のメタン濃度に対応する出力を、前記制御装置6に出力可能に設けてある。メタンセンサ51としては種々公知のものが用いられ、生成ガス中のメタン濃度を、電気出力等として制御装置6に出力可能な構成であれば好適に用いられる。
前記制御装置6は、前記ガス分析部5からの出力を受け、前記出力生成ガス中のメタン濃度が所定以上になったものと判定されるときは、前記パルス電源1のパルス生成周波数を増加させる制御を行う。また、前記メタン濃度の上昇速度に応じて前記パルス電源1のパルス生成周波数を増加させる制御を行うこともでき、これらに加えて、前記パルス電源1のパルス生成電圧を増加させる制御を行うこともできる。これにより、非平衡プラズマによるメタン酸化反応を、より完全に進行できるようになる(図2参照)。
そこで前記制御装置6は、前記出力生成ガス中のメタン濃度が所定以上になったものと判定されるときは、前記エネルギーマップを参照して、パルス発生周波数(f)を増加させ、前記放電エネルギー(E)を増加させる制御を行う。
図2にパルス生成周波数(横軸)およびパルス生成電圧(パルスのピーク電圧:縦軸)が可変なパルス電源1を用い、メタンが酸化されるパルス生成周波数とパルス生成電圧との関係を調べたグラフを示す。この条件でパルス幅は10nsと一定とした。
図2によると、所定のパルス生成周波数のパルス電圧を供給したときにパルス電圧が増加するにつれて、発生するプラズマによるメタン酸化能力が強くなることがわかった。このグラフの見方を変えると、所定のパルス生成電圧のパルス電圧を供給した場合に、パルス電源1のパルス生成周波数を増加させるにつれて、発生するプラズマによるメタン酸化能力が強くなることも読み取れ、ガス分析部5におけるメタン濃度の上昇にしたがって、パルス生成周波数を増加させることにより、ガス流通部3におけるメタン酸化処理能力を高められ、ガス分析部5において酸化しきれずに残留するメタンを、確実に酸化処理可能な非平衡プラズマを発生させられることがわかる。
図3に所定濃度のメタンを含有する空気を、希釈することなく、原料ガスとしてガス流通部3に供給し、前記非平衡プラズマによりメタンが酸化されて生成する生成ガスの組成の変動を示す。この図3によると、上記ガス処理装置により、所定流量で前記原料ガスを処理すると、ある程度の周波数のパルス電圧により、非平衡プラズマが生成し、ガス流通部内に流通するメタンは酸化を始めるが、初期的には、二酸化炭素と一酸化炭素とが同時に発生し、メタン濃度も大きくは低下しないものの、パルス生成周波数を増加するにしたがって、メタン濃度が低下するとともに、二酸化炭素濃度が上昇し、ある程度以上の周波数でパルス電圧を供給すれば、メタンをほぼ完全に酸化除去できる最低周波数(図3に矢示する)として設定することができる。
上記制御装置に関して、エネルギーマップを参照してパルス電源を駆動制御するのに代え、図4に示すように、前記パルス電源に設けられる電圧プローブ11、電流プローブ12からの電圧値(v)、電流値(i)をモニタする構成として、実際に放電されたエネルギー(E)は、電圧値(v)、電流値(i)の積の単位時間あたりの積分値として求められるから、前記制御装置は、電流プローブからの電圧値(v)、電流値(i)をモニタして、放電エネルギーを増加させる制御を行うこともできる。
2 :原料ガス供給部
21 :希釈用ガス供給部
3 :ガス流通部
31 :ガス流通管
32 :接地電極
33 :放電極
4 :生成ガス排出部
5 :ガス分析部
51 :メタンセンサ
6 :制御装置
Claims (4)
- パルス電源を設けて、ガス流通部に流通する原料ガスにパルス電圧を印加してガス処理を行うガス処理装置の運転方法であって、
前記パルス電源が、パルス生成周波数を変更自在に構成され、
前記原料ガスがメタン含有ガスであり、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成周波数が大きくなるように変更制御するガス処理装置の運転方法。 - 前記パルス電源が、パルス生成電圧を変更自在に構成され、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成電圧が大きくなるように変更制御する請求項1に記載のガス処理装置の運転方法。 - パルス電源を設けて、原料ガス供給部からガス流通部に供給される原料ガスにパルス電圧を周期的に印加して生成ガス排出部に生成ガスを排出するガス処理装置であって、
前記パルス電源が、パルス生成周波数を変更自在に構成され、
前記原料ガスがメタン含有ガスであり、
前記生成ガス排出部にガス分析部を設けるとともに、
生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成周波数が大きくなるように変更制御する制御装置を設けたガス処理装置。 - 前記パルス電源が、パルス生成電圧を変更自在に構成され、
前記制御装置が、生成ガス中のメタン濃度が上昇するのに従って前記パルス生成電圧が大きくなるように変更制御可能に設けられている請求項3に記載のガス処理装置。
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