JP2014170037A - 光源装置及び投影装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源装置1が、回転駆動器42と、回転駆動器42によって回転させられる光学板41と、励起光光源ユニット10と、励起光光源ユニット10から発した励起光を光学板面50bに収束する収束光学系59と、光学板41の透光部41cに収束された励起光のスポットを転写面60dに転写する転写光学系60と、光学板41の蛍光体層41dに形成された蛍光の光源像を投射面50cに投影する第一投射光学系50と、転写面60dに転写された励起光のスポットを投射面50cに投影する第二投射光学系70と、を備える。第一投射光学系50における光学板面50bから投射面50cまでの光路長と、第二投射光学系70における転写面60dから投射面50cまでの光路長とが互いに等しい。
【選択図】図1
Description
それゆえ、DMDに入射される青色励起光、黄色蛍光、緑色光及び赤色光を合成すると色ムラが生じてしまう。
図1は、投影装置100の平面図である。
図1に示すように、投影装置100は、光源装置(時分割光発生装置、シーケンシャルカラー発生装置)1、光源側光学系2、表示素子3及び投影光学系4等を備える。
集光光学系90は、第二光源80によって発せられた光を集光して、その光を平行光に近づける。
縮小光学系20は、励起光光源ユニット10によって発せられた励起ビームの径を縮小する。つまり、縮小光学系20は、複数の反射ミラー13によって反射されたレーザー光の束を集光させて、これらレーザー光の間隔を狭める。
レンズ55が縮小光学系20の側方に配置され、レンズ55の光軸と縮小光学系20の光軸が互いに平行である。レンズ55は、レンズ55の光軸がレンズ53に関して集光光学系90の反対側においてレンズ53及び集光光学系90の光軸に対して直交するように配置されている。
また、レンズ群71とレンズ群51やレンズ73とレンズ53に関して部品の共通化を図ることができ、生産コストの削減を図ることができる。
図3は、投影装置100Aの平面図である。第2実施形態の投影装置100Aと第1実施形態の投影装置100との間で互いに対応する部分には同一の符号を付す。
拡散透過板33がレンズ群71に対向し、レンズ群71、レンズ73及びレンズ55の光軸が拡散透過板33に直交する。
なお、第1の実施の形態の場合と同様に、レンズ群71とレンズ群51は同じものであり、レンズ73とレンズ53は同じものである。また、転写面60dからレンズ群71、レンズ73、第二ダイクロイックミラー54及びレンズ55を経由して導光装置2aの入射面50cまでの光路長は、収束面50bからレンズ群51、第一ダイクロイックミラー52、レンズ53、第二ダイクロイックミラー54及びレンズ55を経由して導光装置2aの入射面50cまでの光路長に等しい。
レンズ60jがレンズ群71の光軸とレンズ群51の光軸との間に配置され、レンズ60jの光軸がレンズ群71の光軸及びレンズ群51の光軸に直交する。
平面ミラー60iは、レンズ60f,60g,60hの光軸とレンズ60jの光軸との交差部に配置されている。平面ミラー60iは、レンズ60f,60g,60hの光軸に対して45°で斜交するとともに、レンズ60jの光軸に対して45°で斜交する。また、平面ミラー60iはダイクロイックミラー52,54に対して垂直である。
平面ミラー60kは、レンズ60jの光軸とレンズ群71の光軸との交差部に配置されている。平面ミラー60kは、レンズ60jの光軸に対して45°で斜交するとともに、レンズ群71の光軸に対して45°で斜交する。また、平面ミラー60kはダイクロイックミラー52,54に対して平行である。
本発明を適用可能な実施形態は上述した各実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。以下、幾つかの変形例について説明する。以下に説明する変形例は、変更個所を除いて上述した第1又は第2の実施の形態と同様である。また、以下に説明する各変形例を可能な限り組み合わせてもよい。
以下に、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載した発明を付記する。付記に記載した請求項の項番は、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の通りである。
〔付記〕
<請求項1>
回転駆動器と、
前記回転駆動器によって回転させられ、透光部及び蛍光体層を有した光学板と、
励起光を発する励起光光源ユニットと、
前記励起光光源ユニットから発した励起光を前記透光部及び前記蛍光体層に収束する収束光学系と、
前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを、前記光学板の前記透光部及び前記蛍光体層と同一の面である光学板面と異なる転写面に転写する転写光学系と、
前記収束光学系により励起光が前記蛍光体層に収束されることによって前記蛍光体層に形成された蛍光の光源像を前記光学板面及び前記転写面と異なる共通投射面に投影する第一投射光学系と、
前記転写光学系により前記転写面に転写された励起光のスポットを前記共通投射面に投影する第二投射光学系と、を備え、
前記第一投射光学系における前記光学板面から前記共通投射面までの光路長と、前記第二投射光学系における前記転写面から前記共通投射面までの光路長とが互いに等しい、
ことを特徴とする光源装置。
<請求項2>
前記第一投射光学系の屈折力と前記第二投射光学系の屈折力とが互いに等しい、
ことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
<請求項3>
前記転写光学系が楕円面型凹面鏡であり、前記楕円面型凹面鏡の第一焦点が前記収束光学系によって前記光学板面に収束した励起光のスポットの位置に設定され、前記楕円面型凹面鏡の第二焦点が前記転写面上に設定されている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。
<請求項4>
前記転写面が前記光学板面及び前記共通投射面に対して垂直であり、
前記第一投射光学系が、
前記光学板面に対向し、前記第一焦点において前記光学板面に直交する光軸を有した第一レンズ群と、
前記第一レンズ群と直交する光軸を有した第一レンズと、
前記第一レンズ群の光軸と前記第一レンズの光軸との交差部に配置され、前記励起光光源ユニットによって発せられた励起光を前記第一レンズ群に向けて透過させ、前記蛍光体層から発して前記第一レンズ群を通過した蛍光を前記第一レンズに向けて反射させる第一ダイクロイックミラーと、を有し、
前記第二投射光学系が、
前記転写面に対向し、前記第二焦点において前記転写面に直交する光軸を有した第二レンズ群と、
前記第二レンズ群と直交する光軸を有した第二レンズと、
前記第二レンズ群の光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二焦点及び前記第二レンズ群を通過した励起光を前記第二レンズに向けて反射させるミラーと、を有し、
前記第一投射光学系及び前記第二投射光学系が、
前記第二レンズと前記共通投射面との間に配置され、前記第二レンズ及び前記共通投射面に対向し、前記第二レンズの光軸と一致する光軸を有した第三レンズと、
前記第二レンズと前記第三レンズとの間において前記第一レンズの光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二レンズを通過した励起光を前記第三レンズに向けて透過させ、前記第一レンズを通過した蛍光を前記第三レンズに向けて反射させる第二ダイクロイックミラーと、を有する、
ことを特徴とする請求項3に記載の光源装置。
<請求項5>
前記第一レンズ群と前記第二レンズ群とは、屈折力が同じになるように形成されており、
前記第一レンズと前記第二レンズとは、屈折力が同じになるように形成されている
ことを特徴とする請求項4に記載の光源装置。
<請求項6>
前記光学板面から前記第一レンズ群、前記第一ダイクロイックミラー、前記第一レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長が、前記転写面から前記第二レンズ群、前記ミラー、前記第二レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長と等しい、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の光源装置。
<請求項7>
前記転写光学系が、前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを前記転写面に結像する結像光学系である、
ことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
<請求項8>
前記結像光学系が、前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを等倍で前記転写面に結像する、
ことを特徴とする請求項7に記載の光源装置。
<請求項9>
前記結像光学系が複数枚のレンズ及び二枚のミラーを有し、
前記二枚のミラーで前記複数のレンズの光軸が屈曲されることによって、前記転写面が前記共通投射面及び前記光学板面に対して平行であるとともに前記共通投射面に対して対向する、
ことを特徴とする請求項7又は8に記載の光源装置。
<請求項10>
前記第一投射光学系が、
前記光学板面に対向し、前記収束光学系によって前記光学板面に収束された励起光の収束点において前記光学板面に直交する光軸を有した第一レンズ群と、
前記第一レンズ群と直交する光軸を有した第一レンズと、
前記第一レンズ群の光軸と前記第一レンズの光軸との交差部に配置され、前記励起光光源ユニットによって発せられた励起光を前記第一レンズ群に向けて透過させ、前記蛍光体層から発して前記第一レンズ群を通過した蛍光を前記第一レンズに向けて反射させる第一ダイクロイックミラーと、を有し、
前記第二投射光学系が、
前記転写面に対向し、前記結像光学系によって前記転写面に収束された励起光の収束点において前記転写面に直交する光軸を有した第二レンズ群と、
前記第二レンズ群と一致する光軸を有した第二レンズと、を有し、
前記第一投射光学系及び前記第二投射光学系が、
前記第二レンズと前記共通投射面との間に配置され、前記第二レンズ及び前記共通投射面に対向し、前記第二レンズの光軸と一致する光軸を有した第三レンズと、
前記第二レンズと前記第三レンズとの間において前記第一レンズの光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二レンズを通過した励起光を前記第三レンズに向けて透過させ、前記第一レンズを通過した蛍光を前記第三レンズに向けて反射させる第二ダイクロイックミラーと、を有する、
ことを特徴とする請求項9に記載の光源装置。
<請求項11>
前記第一レンズ群と前記第二レンズ群とは、屈折力が同じになるように形成されており、
前記第一レンズと前記第二レンズとは、屈折力が同じになるように形成されている
ことを特徴とする請求項10に記載の光源装置。
<請求項12>
前記光学板面から前記第一レンズ群、前記第一ダイクロイックミラー、前記第一レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長が、前記転写面から前記第二レンズ群、前記第二レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長と等しい、
ことを特徴とする請求項10又は11に記載の光源装置。
<請求項13>
前記転写面に沿って設けられた拡散透過板を更に備える、
ことを特徴とする請求項1から12の何れか一項に記載の光源装置。
<請求項14>
前記透光部には、光を拡散透過する拡散透過部が設けられている、
ことを特徴とする請求項1から13の何れか一項に記載の光源装置。
<請求項15>
前記励起光光源ユニットが、互いに平行に進行する複数のレーザー励起光の束を励起ビームとして発し、
前記収束光学系が、前記第一レンズ群との間に前記第一ダイクロイックミラーを置いて前記第一レンズ群に対向し、前記第一ダイクロイックミラーと前記励起光光源ユニットとの間に配置され、前記前記第一レンズ群の光軸に一致する光軸を有し、前記励起光光源ユニットから発せられた励起ビームを縮径する縮小光学系を有し、
前記第一レンズ群が、前記縮小光学系によって縮径された励起ビームを前記透光部及び前記蛍光体層の光学板面に収束する、
ことを特徴とする請求項4、5、6、10、11又は12に記載の光源装置。
<請求項16>
請求項1から15の何れか一項に記載の光源装置と、
前記光源装置により前記共通投射面に投射された励起光及び蛍光を投射する光源側光学系と、
前記光源側光学系によって投射された光を各画素毎に変調することで、画像を形成する表示素子と、
前記表示素子によって形成された画像を投影する投影光学系と、
を備える、
ことを特徴とする投影装置。
2 光源側光学系
3 表示素子
4 投影光学系
20 収束光学系
33 拡散透過板
41 光学板
41c 透光部
41d 蛍光体層
41e 拡散透過板
42 スピンドルモーター(回転駆動器)
10 励起光光源ユニット
50 第一投射光学系
50a 励起光のスポット
50b 収束面(光学板面)
50c 入射面(共通投射面)
51 レンズ群(第一レンズ群)
52 第一ダイクロイックミラー
53 レンズ(第一レンズ)
54 第二ダイクロイックミラー
55 レンズ(第三レンズ)
59 収束光学系
60 転写光学系
60a 第一焦点
60b 第二焦点
60c 楕円面型凹面鏡
60d 転写面
60e 結像光学系
60i,60k 平面ミラー
70 第二投射光学系
71 第二レンズ群
72 平面ミラー
100、100A 投影装置
Claims (16)
- 回転駆動器と、
前記回転駆動器によって回転させられ、透光部及び蛍光体層を有した光学板と、
励起光を発する励起光光源ユニットと、
前記励起光光源ユニットから発した励起光を前記透光部及び前記蛍光体層に収束する収束光学系と、
前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを、前記光学板の前記透光部及び前記蛍光体層と同一の面である光学板面と異なる転写面に転写する転写光学系と、
前記収束光学系により励起光が前記蛍光体層に収束されることによって前記蛍光体層に形成された蛍光の光源像を前記光学板面及び前記転写面と異なる共通投射面に投影する第一投射光学系と、
前記転写光学系により前記転写面に転写された励起光のスポットを前記共通投射面に投影する第二投射光学系と、を備え、
前記第一投射光学系における前記光学板面から前記共通投射面までの光路長と、前記第二投射光学系における前記転写面から前記共通投射面までの光路長とが互いに等しい、
ことを特徴とする光源装置。 - 前記第一投射光学系の屈折力と前記第二投射光学系の屈折力とが互いに等しい、
ことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記転写光学系が楕円面型凹面鏡であり、前記楕円面型凹面鏡の第一焦点が前記収束光学系によって前記光学板面に収束した励起光のスポットの位置に設定され、前記楕円面型凹面鏡の第二焦点が前記転写面上に設定されている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。 - 前記転写面が前記光学板面及び前記共通投射面に対して垂直であり、
前記第一投射光学系が、
前記光学板面に対向し、前記第一焦点において前記光学板面に直交する光軸を有した第一レンズ群と、
前記第一レンズ群と直交する光軸を有した第一レンズと、
前記第一レンズ群の光軸と前記第一レンズの光軸との交差部に配置され、前記励起光光源ユニットによって発せられた励起光を前記第一レンズ群に向けて透過させ、前記蛍光体層から発して前記第一レンズ群を通過した蛍光を前記第一レンズに向けて反射させる第一ダイクロイックミラーと、を有し、
前記第二投射光学系が、
前記転写面に対向し、前記第二焦点において前記転写面に直交する光軸を有した第二レンズ群と、
前記第二レンズ群と直交する光軸を有した第二レンズと、
前記第二レンズ群の光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二焦点及び前記第二レンズ群を通過した励起光を前記第二レンズに向けて反射させるミラーと、を有し、
前記第一投射光学系及び前記第二投射光学系が、
前記第二レンズと前記共通投射面との間に配置され、前記第二レンズ及び前記共通投射面に対向し、前記第二レンズの光軸と一致する光軸を有した第三レンズと、
前記第二レンズと前記第三レンズとの間において前記第一レンズの光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二レンズを通過した励起光を前記第三レンズに向けて透過させ、前記第一レンズを通過した蛍光を前記第三レンズに向けて反射させる第二ダイクロイックミラーと、を有する、
ことを特徴とする請求項3に記載の光源装置。 - 前記第一レンズ群と前記第二レンズ群とは、屈折力が同じになるように形成されており、
前記第一レンズと前記第二レンズとは、屈折力が同じになるように形成されている
ことを特徴とする請求項4に記載の光源装置。 - 前記光学板面から前記第一レンズ群、前記第一ダイクロイックミラー、前記第一レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長が、前記転写面から前記第二レンズ群、前記ミラー、前記第二レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長と等しい、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の光源装置。 - 前記転写光学系が、前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを前記転写面に結像する結像光学系である、
ことを特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記結像光学系が、前記収束光学系によって前記透光部に収束された励起光のスポットを等倍で前記転写面に結像する、
ことを特徴とする請求項7に記載の光源装置。 - 前記結像光学系が複数枚のレンズ及び二枚のミラーを有し、
前記二枚のミラーで前記複数のレンズの光軸が屈曲されることによって、前記転写面が前記共通投射面及び前記光学板面に対して平行であるとともに前記共通投射面に対して対向する、
ことを特徴とする請求項7又は8に記載の光源装置。 - 前記第一投射光学系が、
前記光学板面に対向し、前記収束光学系によって前記光学板面に収束された励起光の収束点において前記光学板面に直交する光軸を有した第一レンズ群と、
前記第一レンズ群と直交する光軸を有した第一レンズと、
前記第一レンズ群の光軸と前記第一レンズの光軸との交差部に配置され、前記励起光光源ユニットによって発せられた励起光を前記第一レンズ群に向けて透過させ、前記蛍光体層から発して前記第一レンズ群を通過した蛍光を前記第一レンズに向けて反射させる第一ダイクロイックミラーと、を有し、
前記第二投射光学系が、
前記転写面に対向し、前記結像光学系によって前記転写面に収束された励起光の収束点において前記転写面に直交する光軸を有した第二レンズ群と、
前記第二レンズ群と一致する光軸を有した第二レンズと、を有し、
前記第一投射光学系及び前記第二投射光学系が、
前記第二レンズと前記共通投射面との間に配置され、前記第二レンズ及び前記共通投射面に対向し、前記第二レンズの光軸と一致する光軸を有した第三レンズと、
前記第二レンズと前記第三レンズとの間において前記第一レンズの光軸と前記第二レンズの光軸との交差部に配置され、前記第二レンズを通過した励起光を前記第三レンズに向けて透過させ、前記第一レンズを通過した蛍光を前記第三レンズに向けて反射させる第二ダイクロイックミラーと、を有する、
ことを特徴とする請求項9に記載の光源装置。 - 前記第一レンズ群と前記第二レンズ群とは、屈折力が同じになるように形成されており、
前記第一レンズと前記第二レンズとは、屈折力が同じになるように形成されている
ことを特徴とする請求項10に記載の光源装置。 - 前記光学板面から前記第一レンズ群、前記第一ダイクロイックミラー、前記第一レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長が、前記転写面から前記第二レンズ群、前記第二レンズ、前記第二ダイクロイックミラー及び前記第三レンズを経由して前記共通投射面までの光路長と等しい、
ことを特徴とする請求項10又は11に記載の光源装置。 - 前記転写面に沿って設けられた拡散透過板を更に備える、
ことを特徴とする請求項1から12の何れか一項に記載の光源装置。 - 前記透光部には、光を拡散透過する拡散透過部が設けられている、
ことを特徴とする請求項1から13の何れか一項に記載の光源装置。 - 前記励起光光源ユニットが、互いに平行に進行する複数のレーザー励起光の束を励起ビームとして発し、
前記収束光学系が、前記第一レンズ群との間に前記第一ダイクロイックミラーを置いて前記第一レンズ群に対向し、前記第一ダイクロイックミラーと前記励起光光源ユニットとの間に配置され、前記前記第一レンズ群の光軸に一致する光軸を有し、前記励起光光源ユニットから発せられた励起ビームを縮径する縮小光学系を有し、
前記第一レンズ群が、前記縮小光学系によって縮径された励起ビームを前記透光部及び前記蛍光体層の光学板面に収束する、
ことを特徴とする請求項4、5、6、10、11又は12に記載の光源装置。 - 請求項1から15の何れか一項に記載の光源装置と、
前記光源装置により前記共通投射面に投射された励起光及び蛍光を投射する光源側光学系と、
前記光源側光学系によって投射された光を各画素毎に変調することで、画像を形成する表示素子と、
前記表示素子によって形成された画像を投影する投影光学系と、
を備える、
ことを特徴とする投影装置。
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