JP2014165300A - 電子デバイスの製造方法および加圧装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ベースと蓋体とを接合する際に、電子部品を固定している導電性接着剤から発生するアウトガスを除去し、減圧雰囲気で気密封止することができる電子デバイスの製造方法および加圧装置を提供することにある。
【解決手段】一方の主面に接合材が配置されているベース基板と蓋体用基板との間に電子部品を配置し、前記下押圧板に前記ベース基板の他方の主面を当接させて、前記上押圧板と前記下押圧板との間に配置する。次に、スペーサーを前記蓋体用基板に当接させ、前記蓋体用基板と前記ベース基板との間に間隙を設ける。その後、前記下押圧板を加熱手段で加熱しながら、前記導電性接着剤から発生するアウトガスを排気し、前記接合材を溶解する。次に、前記スペーサーを前記蓋体用基板から離して、前記蓋体用基板を前記ベース基板に当接し、減圧雰囲気において、前記蓋体用基板と前記ベース基板とを加圧して接合する電子デバイスの製造方法。
【選択図】図3
【解決手段】一方の主面に接合材が配置されているベース基板と蓋体用基板との間に電子部品を配置し、前記下押圧板に前記ベース基板の他方の主面を当接させて、前記上押圧板と前記下押圧板との間に配置する。次に、スペーサーを前記蓋体用基板に当接させ、前記蓋体用基板と前記ベース基板との間に間隙を設ける。その後、前記下押圧板を加熱手段で加熱しながら、前記導電性接着剤から発生するアウトガスを排気し、前記接合材を溶解する。次に、前記スペーサーを前記蓋体用基板から離して、前記蓋体用基板を前記ベース基板に当接し、減圧雰囲気において、前記蓋体用基板と前記ベース基板とを加圧して接合する電子デバイスの製造方法。
【選択図】図3
Description
本発明は、電子デバイスの製造方法および加圧装置に関する。
従来から、電子機器の小型化、薄型化に伴い、圧電デバイスなどの電子デバイスはより一層の小型化・薄型化が要求されると共に、回路基板等への実装に適した表面実装型のものが多用されている。一般に表面実装型の圧電デバイスは、セラミックなどの絶縁材料で形成したパッケージに圧電振動片を実装し封止する構造が広く採用されている。
例えば、このようなパッケージとして、セラミック材料のシート材を積層した箱型ベースのキャビティ内に圧電振動片を実装し、このベースに蓋体を接合して気密に封止したものが知られている。一般にベースと蓋体とは、それらの間に低融点ガラスのような接合材を配置し、これを加熱溶融させることによって気密に接合する。いずれも個片化されたベースと蓋体とを個別に接合するものである。そのため、個々のベースと蓋体とを正確に接合するためには、それらを個別に位置決めするための治具を用いる必要がある。更に、そのような位置決めや搬送などの作業には、多大の手間および労力を要するので生産性が低下し、且つ製造コストが増大するという問題があった。
このような問題を解決するため特許文献1において、複数のベースからなるベース基板の各ベースのキャビティ内に、例えば圧電振動片などの電子部品を導電性接着剤で固定し、その後、複数の蓋体からなる蓋体用基板を重ねて一括して接合封止する製造方法が開示されている。これにより、個々のベースと蓋体とを個別に位置合わせする必要が無くなり、ベースおよび蓋体の取り扱い、封止作業が簡単になる。そのため、生産性が向上し、且つ製造コストを低減することができる。
例えば、このようなパッケージとして、セラミック材料のシート材を積層した箱型ベースのキャビティ内に圧電振動片を実装し、このベースに蓋体を接合して気密に封止したものが知られている。一般にベースと蓋体とは、それらの間に低融点ガラスのような接合材を配置し、これを加熱溶融させることによって気密に接合する。いずれも個片化されたベースと蓋体とを個別に接合するものである。そのため、個々のベースと蓋体とを正確に接合するためには、それらを個別に位置決めするための治具を用いる必要がある。更に、そのような位置決めや搬送などの作業には、多大の手間および労力を要するので生産性が低下し、且つ製造コストが増大するという問題があった。
このような問題を解決するため特許文献1において、複数のベースからなるベース基板の各ベースのキャビティ内に、例えば圧電振動片などの電子部品を導電性接着剤で固定し、その後、複数の蓋体からなる蓋体用基板を重ねて一括して接合封止する製造方法が開示されている。これにより、個々のベースと蓋体とを個別に位置合わせする必要が無くなり、ベースおよび蓋体の取り扱い、封止作業が簡単になる。そのため、生産性が向上し、且つ製造コストを低減することができる。
しかし、ベースと蓋体との間に配置された接合材を加熱溶融させて気密に接合する際に、接合材を溶融するまでの昇温中に電子部品を固定している導電性接着剤からアウトガスが発生するため、パッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)に保つことができないという問題があった。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例に係る電子デバイスの製造方法は、一方の主面に接合材が配置されているベース基板、蓋体用基板、前記ベース基板と前記蓋体用基板の一方に導電性接着剤により固定されている電子部品および上押圧板と下押圧板とスペーサーとを有する加圧装置を準備する工程と、前記上押圧板と前記下押圧板と重なる方向の平面視でみたとき、前記ベース基板と前記蓋体用基板とが重なり、前記ベース基板と前記蓋体用基板との間に前記電子部品を配置し、前記下押圧板に前記ベース基板の他方の主面を当接させて、前記上押圧板と前記下押圧板との間に前記ベース基板、前記蓋体用基板、および前記電子部品を配置する工程と、前記スペーサーを前記蓋体用基板に当接させ、前記蓋体用基板と前記ベース基板に配置された前記接合材との間に間隙を設ける工程と、前記下押圧板を加熱手段で加熱しながら前記導電性接着剤から発生するアウトガスを排気する工程と、前記スペーサーを前記蓋体用基板から離して、前記蓋体用基板を前記ベース基板に当接する工程と、減圧雰囲気において、前記蓋体用基板と前記ベース基板とを加圧して接合する工程と、を含むことを特徴とする。
本適用例によれば、ベース基板に配置された接合材を加熱して溶融しベース基板と蓋体用基板を接合する際に、スペーサーで蓋体用基板とベース基板との間に間隙を設けることにより、昇温中に電子部品を固定した導電性接着剤から発生するアウトガスを蓋体用基板とベース基板との間から排気することができるため、電子部品が固定されたパッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例2]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記接合材が低融点ガラスを含むことを特徴とする。
本適用例によれば、低融点ガラスを含む接合材とすることで、接合材をスクリーン印刷装置などにより、キャビティを気密封止するのに適した形状パターンでベース基板上に容易に形成することができるため、電子部品が固定されたパッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例3]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記加熱する工程では、前記低融点ガラスの軟化点以上まで加熱することを特徴とする。
本適用例によれば、加熱する工程で低融点ガラスの軟化点以上まで加熱することで、低融点ガラスを含む接合材を溶融することができ、ベース基板と蓋体用基板とが接合されるので、電子部品が固定されたパッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例4]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記電子部品が前記ベース基板に固定されていることを特徴とする。
本適用例によれば、電子部品がベース基板のキャビティに導電性接着剤で固定されている構造のため、ベース基板側の下押圧板をヒーターで加熱すると、ベース基板上の導電性接着剤に熱が伝わり、接合材を溶融するまでの間に、導電性接着剤からのアウトガスをほとんど発生させてしまうため、電子部品が固定されたパッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例5]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記電子部品が前記蓋体用基板に固定されていて、前記配置する工程では上押圧板と蓋体用基板とを当接させ、前記加熱する工程では更に前記上押圧板も加熱することを特徴とする。
本適用例によれば、電子部品が蓋体用基板に固定されている構造のため、上押圧板と蓋体用基板とを当接させ、上押圧板をヒーターで加熱することによって、蓋体用基板上の導電性接着剤に熱が伝わり、接合材を溶融するまでの間に、導電性接着剤からのアウトガスをほとんど発生させてしまうため、パッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例6]本適用例に係る加圧装置は、上押圧板と、加熱手段を有する下押圧板と、前記上押圧板と前記下押圧板との間にあって前記上押圧板との距離の変更が可能なスペーサーと、を備えていることを特徴とする。
本適用例の加圧装置によれば、上押圧板と下押圧板との間に蓋体用基板とベース基板とを挟み込み、更に、スペーサーによって蓋体用基板とベース基板との間に間隙を設けることができる構成であるため、接合材を加熱して溶融しベース基板と蓋体用基板を接合する際に、電子部品を固定した導電性接着剤から発生するアウトガスをスペーサーによって設けられた蓋体用基板とベース基板との間の間隙から排気することができるため、パッケージのキャビティを所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密封止した電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例7]上記適用例に記載の加圧装置において、前記上押圧板は加熱手段を有していることを特徴とする。
本適用例の加圧装置によれば、上押圧板を加熱する手段を有することで、蓋体用基板を加熱することができるため、蓋体用基板に電子部品を固定した構成の電子デバイスを製造することができるという効果がある。
[適用例8]上記適用例に記載の加圧装置において、前記スペーサーは前記下押圧板の押圧面に囲まれた位置に配置されていることを特徴とする。
本適用例の加圧装置によれば、スペーサーが下押圧板の押圧面に囲まれた位置に配置されていることで、スペーサーを下押圧板の外縁の内側とすることができるので、加圧装置の小型化が図れるという効果がある。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板の概略平面図である。図2は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板のA部の拡大図であり、図2(a)は図1のA部の概略平面図、図2(b)は図2(a)のB−B線断面図である。
本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板10は、図1に示すように、複数の貫通孔12とマトリックス状に配置された複数のキャビティ16とが形成されている。キャビティ16は隔壁14に囲まれることで形成されている。なお、ベース基板10は、平板状のセラミックシートとキャビティ16を構成する隔壁14を有するセラミックシートが積層されて形成されている。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板の概略平面図である。図2は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板のA部の拡大図であり、図2(a)は図1のA部の概略平面図、図2(b)は図2(a)のB−B線断面図である。
本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板10は、図1に示すように、複数の貫通孔12とマトリックス状に配置された複数のキャビティ16とが形成されている。キャビティ16は隔壁14に囲まれることで形成されている。なお、ベース基板10は、平板状のセラミックシートとキャビティ16を構成する隔壁14を有するセラミックシートが積層されて形成されている。
また、図2(a)と図2(b)に示すように、隔壁14によって形成されたキャビティ16には、圧電振動片などの電子部品30が導電性接着剤50によって固定されている。更に、隔壁14の上部には、低融点ガラスを含む接合材40が配置されている。なお、低融点ガラスを含む接合材40は、スクリーン印刷装置などにより、キャビティ16を気密封止するのに適した形状パターンをベース基板10の隔壁14の上部に容易に形成することができる。
次に、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。また、図4は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における当接する工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。更に、図5は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における接合する工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。なお、製造方法を説明する際に、概略断面図において上押圧板60を上方向、下押圧板70を下方向として説明する。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。また、図4は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における当接する工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。更に、図5は、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における接合する工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。なお、製造方法を説明する際に、概略断面図において上押圧板60を上方向、下押圧板70を下方向として説明する。
本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、先ず、準備する工程として、一方の主面に接合材40が配置されているベース基板10と、蓋体用基板20と、ベース基板10のキャビティ16に導電性接着剤50によって固定された電子部品30と、上押圧板60と下押圧板70とスペーサー100とを有する加圧装置1と、を準備する。
ここで、本発明の第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いる加圧装置1は、図3に示すように、蓋体用基板20を押えるための上押圧板60と、一方の主面に隔壁14によってキャビティ16が形成され、隔壁14の上に接合材40が配置されたベース基板10の他方の主面を押える下押圧板70と、下押圧板70を加熱するヒーター80と、ベース基板10と下押圧板70とヒーター80とに設けられた貫通孔12,72,82の内部に配置されたスペーサー100と、を備えている。なお、加圧装置1は、内部を減圧雰囲気とすることができるチャンバー(図示せず)に納められている。
また、加圧装置1のスペーサー100は、下押圧板70の押圧面に囲まれた位置に配置されており、貫通孔12,72,82の内部を上下方向に動かすことができ、上方向へ動かすことで蓋体用基板20を押し上げ蓋体用基板20とベース基板10との間に間隙を設けることができる。また、下方向へ動かすことで蓋体用基板20をベース基板10に当接することができる。
次に、ベース基板10、蓋体用基板20および電子部品30を配置する工程として、加圧装置1の上押圧板60と下押圧板70との間に、上押圧板60と下押圧板70と重なる方向の平面視でみたときベース基板10と蓋体用基板20とが重なり、ベース基板10と蓋体用基板20との間に電子部品30を配置し、下押圧板70にベース基板10の他方の主面を当接させて、ベース基板10、蓋体用基板20および電子部品30を配置する。
その後、蓋体用基板20とベース基板10との間に間隙を設ける工程として、図3に示すように、スペーサー100を上方へ動かし蓋体用基板20と上押圧板60とを押し上げ蓋体用基板20とベース基板10の接合材40との間に間隙を設ける。次に、加熱しながら排気する工程として、チャンバー内を排気しながら、ヒーター80で下押圧板70を接合材40に含まれる低融点ガラスの軟化点以上まで加熱し、ベース基板10に配置された接合材40を溶融する。ここで、ベース基板10が加熱されることで、電子部品30を固定するために用いられている導電性接着剤50からアウトガスが発生する。しかし、発生したアウトガスは蓋体用基板20とベース基板10との間に設けられた間隙からチャンバーの外部に備えられた真空ポンプなどによってチャンバーの外部へ排気される。
その後、ベース基板10に蓋体用基板20を当接する工程として、図4に示すように、スペーサー100を下方へ動かし蓋体用基板20をベース基板10に当接する。次に、蓋体用基板20とベース基板10とを接合する工程として、図5に示すように、チャンバー内を減圧雰囲気とした状態で蓋体用基板20とベース基板10とを上押圧板60と下押圧板70とによって加圧し、蓋体用基板20とベース基板10とを接合する。その後、接合した蓋体用基板20とベース基板10とを冷却し、キャビティ16を形成する隔壁14の間をダイシングなどの方法で切断し個片化することで、キャビティ16に電子部品30を有し所望の減圧雰囲気(特に真空)で気密に封止された電子デバイスが製造される。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板の概略平面図である。図7は、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第2の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
次に、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法に用いるベース基板の概略平面図である。図7は、本発明の第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第2の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図6に示すように、第2の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法と比較すると、ベース基板10aに貫通孔12に換わり切り欠き部18が設けられている点が異なっている。ベース基板10aに切り欠き部18を設けることで、下押圧板70の上にベース基板10aを配置する際に、切り欠き部18にスペーサー100を挿入し易くなるため、作業効率が上がり電子デバイスの低コスト化が図れるという効果がある。
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第3の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
次に、本発明の第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第3の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図8に示すように、第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法と比較すると、下押圧板70の上に蓋体用基板20bが配置され、貫通孔12bを有する蓋体用基板20bの上にベース基板10bが配置されている点と、蓋体用基板20bに電子部品30が導電性接着剤50で固定されている点と、加圧装置1aにおいて上押圧板60の上にヒーター90が当接して配置されている点と、が異なっている。
このような構成とすることにより、ヒーター80によって下押圧板70を加熱することで、蓋体用基板20bの導電性接着剤50からアウトガスを発生させることができる。また、ヒーター90によって上押圧板60を加熱することで、ベース基板10bの隔壁14の上に配置された接合材40を溶融することができる。導電性接着剤50からのアウトガス発生が終了した時点で、ベース基板10bと蓋体用基板20bとの間に間隙を設けているスペーサー100を下方向に動かし、ベース基板10bを蓋体用基板20bに当接した後に、上押圧板60と下押圧板70とによって加圧することで、ベース基板10bと蓋体用基板20bとを接合することができる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図9は、本発明の第4の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第4の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
次に、本発明の第4の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図9は、本発明の第4の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第4の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図9に示すように、第4の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法と比較すると、電子部品30が蓋体用基板20cに導電性接着剤50により固定されている点と、加圧装置1aにおいて上押圧板60の上にヒーター90が当接して配置されている点と、が異なっている。
このような構成とすることにより、ベース基板10cの貫通孔12cに挿入されたスペーサー100によって、蓋体用基板20cとベース基板10cとの間に間隙を設けた状態において、ヒーター80によって下押圧板70を加熱し、ベース基板10cの隔壁14の上に配置された接合材40を溶融することができる。また、ヒーター90によって上押圧板60を加熱することで蓋体用基板20cの導電性接着剤50からアウトガスを発生させることができる。導電性接着剤50からのアウトガス発生が終了した時点で、蓋体用基板20cとベース基板10cとの間に間隙を設けているスペーサー100を下方向に動かし、蓋体用基板20cをベース基板10cに当接した後に、上押圧板60と下押圧板70とによって加圧することで、蓋体用基板20cとベース基板10cとを接合することができる。
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図10は、本発明の第5の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第5の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
次に、本発明の第5の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
図10は、本発明の第5の実施形態に係る電子デバイスの製造方法における間隙を設ける工程を説明するための加圧装置の加圧部の概略断面図である。
以下、第5の実施形態について、前述した第1の実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図10に示すように、第5の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、第1の実施形態に係る電子デバイスの製造方法と比較すると、ベース基板10dでは、ベース基板10に設けられていた貫通孔12が形成されていない点が異なっている。また、加圧装置1bにおいては、加圧装置1のスペーサー100を挿入する下押圧板70とヒーター80とに設けられた貫通孔72,82がない点と、スペーサー100aがベース基板10dと下押圧板70aとヒーター80aとの外縁の外側に配置され、スペーサー100aの先端が蓋体用基板20とベース基板10dとの間に配置されている点と、が異なっている。
このような構成により、ベース基板10dと下押圧板70aとヒーター80aとにスペーサー100aを挿入する図1、図3および図6に示す貫通孔12,72,82や切り欠き部18を設ける必要がなくなり、特に、ベース基板10dでは平板状のセラミックシートとキャビティ16を形成するための隔壁14を有するセラミックシートとを積層し焼成する簡単な工程で形成することができるため、低コスト化が図られる。また、貫通孔12や切り欠き部18がないことで破損の虞が低減できるという効果がある。
以上、第1から第5の実施形態における加圧装置1,1a,1bでは、接合材40を溶融するための加熱によって導電性接着剤50から生じるアウトガスを除去するために、蓋体用基板20,20a,20b,20cとベース基板10,10a,10b,10c,10dとの間に間隙を設けるためのスペーサー100,100aを4本用いた構成で説明したが、スペーサー100,100aは少なくとも1本以上であれば構わない。しかし、接合不良やキャビティ16へのアウトガス残留を低減するためには2本以上であることが好ましい。
1…加圧装置、10…ベース基板、12…貫通孔、14…隔壁、16…キャビティ、18…切り欠き部、20…蓋体用基板、30…電子部品、40…接合材、50…導電性接着剤、60…上押圧板、70…下押圧板、72…貫通孔、80…ヒーター、82…貫通孔、90…ヒーター、100…スペーサー。
Claims (8)
- 一方の主面に接合材が配置されているベース基板、蓋体用基板、前記ベース基板と前記蓋体用基板の一方に導電性接着剤により固定されている電子部品および上押圧板と下押圧板とスペーサーとを有する加圧装置を準備する工程と、
前記上押圧板と前記下押圧板と重なる方向の平面視でみたとき、前記ベース基板と前記蓋体用基板とが重なり、前記ベース基板と前記蓋体用基板との間に前記電子部品を配置し、前記下押圧板に前記ベース基板の他方の主面を当接させて、前記上押圧板と前記下押圧板との間に前記ベース基板、前記蓋体用基板、および前記電子部品を配置する工程と、
前記スペーサーを前記蓋体用基板に当接させ、前記蓋体用基板と前記ベース基板に配置された前記接合材との間に間隙を設ける工程と、
前記下押圧板を加熱手段で加熱しながら前記導電性接着剤から発生するアウトガスを排気する工程と、
前記スペーサーを前記蓋体用基板から離して、前記蓋体用基板を前記ベース基板に当接する工程と、
減圧雰囲気において、前記蓋体用基板と前記ベース基板とを加圧して接合する工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 請求項1において、
前記接合材が低融点ガラスを含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 請求項2において、
前記加熱する工程では、前記低融点ガラスの軟化点以上まで加熱することを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記電子部品が前記ベース基板に固定されていることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれか一項において、
前記電子部品が前記蓋体用基板に固定されていて、
前記配置する工程では上押圧板と蓋体用基板とを当接させ、
前記加熱する工程では更に前記上押圧板も加熱することを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 上押圧板と、加熱手段を有する下押圧板と、前記上押圧板と前記下押圧板との間にあって前記上押圧板との距離の変更が可能なスペーサーと、を備えていることを特徴とする加圧装置。
- 請求項6において、
前記上押圧板は加熱手段を有していることを特徴とする加圧装置。 - 請求項6又は7において、
前記スペーサーは前記下押圧板の押圧面に囲まれた位置に配置されていることを特徴とする加圧装置。
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JP2013034261A JP2014165300A (ja) | 2013-02-25 | 2013-02-25 | 電子デバイスの製造方法および加圧装置 |
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WO2015083433A1 (ja) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | 株式会社村田製作所 | 水晶振動装置 |
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