JP2014153149A - 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、及びプログラム - Google Patents

形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、及びプログラム Download PDF

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Abstract

【課題】拡散光以外の光の影響により異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことを回避する。
【解決手段】形状測定装置は、被測定対象の測定領域に測定光を投光する光照射部と、前記被測定対象の測定領域に投光された測定光の像を撮像する撮像部と、前記光照射部及び前記撮像部を前記被測定対象に対して相対的に移動するように構成された駆動部と、前記被測定対象の形状データを記憶する記憶部と、前記被測定対象の形状データと前記測定光が照射されている測定領域の位置情報に基づいて、前記撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定する露出条件設定部と、前記露出条件設定部により設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は前記光照射部を制御する測定制御部と、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状算出部とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、被測定対象(被測定物)の3次元形状を測定するための、形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、及びプログラムに関する。
工業製品等の物体の表面形状を測定する技術は従来から種々提案されており、例えば、被測定物にスリット状の測定光を照射して、測定光が照射された被測定物の像の位置を求めることで、被測定物の断面形状に対応して形成される光切断線から被測定物の3次元形状を測定する光切断法が知られている。
なお、関連する形状測定方法がある(特許文献1を参照)。この特許文献1に記載の形状測定方法では、ユーザが光切断プローブを手動で操作する際に、被測定対象のCADモデルを画面上に表示させ、この画面上に表示されたCADモデルを見ながら光切断プローブを操作することにより、形状測定の効率化を図っている。
米国特許出願公開第2011/0123097号明細書
ところで、上述の光切断法による形状測定装置では、被測定対象の形状測定を行う際に、被測定対象の表面に投光された測定光の像の位置を検出している。このとき、測定光が被測定対象の異なる複数の位置で反射された多重反射光の像が一緒に映り込むことがある。このような場合、上記の多重反射光の位置を検出して生成された点群データに異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことがあった。
本発明は、上記問題を解決すべくなされたもので、その目的は、被測定対象の形状測定を行う際に、拡散光以外の光の影響により異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことを回避できる、形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、及びプログラムを提供することにある。
本発明の一実施形態は、被測定対象の測定領域に測定光を投光する光照射部と、前記被測定対象の測定領域に投光された測定光の像を撮像する撮像部と、前記光照射部及び前記撮像部を前記被測定対象に対して相対的に移動するように構成された駆動部と、前記被測定対象の形状データを記憶する記憶部と、前記被測定対象の形状データと前記測定光が照射されている測定領域の位置情報に基づいて、前記撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定する露出条件設定部と、前記露出条件設定部により設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は前記光照射部を制御する測定制御部と、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状算出部とを備える形状測定装置である。
また、本発明の一実施形態は、構造物の形状に関する構造物設計情報を作成する設計装置と、前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作成する成型装置と、作成された前記構造物の形状を、撮像画像に基づいた測定により形状情報を得る上記の形状測定装置と、前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較する検査装置と、を含む構造物製造システムである。
また、本発明の一実施形態は、被測定対象の形状の測定を制御する過程として、前記被測定対象の測定領域に光照射部からの測定光を投光できる位置に前記光照射部を移動し、前記測定領域の位置に基づいて、撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定し、前記被測定対象の測定領域に前記光照射部から前記測定光を投光し、前記設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は前記光照射部を制御した状態で、前記被測定対象の測定領域に投光された前記測定光の像を前記撮像部により撮像し、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状測定方法である。
また、本発明の一実施形態は、形状測定装置を制御するコンピュータに、被測定対象の形状の測定を制御するステップとして、前記被測定対象の概略形状を記憶するステップと、前記被測定対象の測定領域に光照射部からの測定光が投光されるように前記光照射部を移動するステップと、前記測定光が投光される前記測定領域の位置に基づいて、撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定するステップと、前記設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は光照射部を制御するステップと、前記被測定対象の測定領域に前記光照射部から測定光を投光するステップと、前記被測定対象の測定領域に投光された測定光の像を撮像部により撮像するステップと、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出するステップと、を実行させるためのプログラムである。
本発明によれば、被測定対象の3次元形状の測定を行う際に、拡散光以外の光の影響により異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことを回避できる。
本発明の実施形態における形状測定装置の概要を示す図である。 本実施形態による形状測定装置の具体的な構成例を示す図である。 本実施形態における回転機構の構成を示す図である。 本実施形態による形状測定装置の構成を示す概略ブロック図である。 本実施形態における形状測定装置の測定手順を示す図である。 本実施形態におけるCADデータが無くプリスキャンにより概略形状データを取得する測定手順を示す図である。 本実施形態におけるプリスキャンの画像情報から測光処理範囲を設定する測定手順を示す図である。 拡散光以外の光が混入する例を示す図である。 物体画像と画像センサー像との関係を示す図である。 画像センサー像と測光処理範囲の関係を示す図である。 本実施形態における球体の測定例を示す図である。 本実施形態におけるプローブ座標系を示すベクトル関連図である。 本実施形態における回転軸ベクトルを示すベクトル関連図である。 本実施形態における法線ベクトルの生成例を示す概念図である。 本実施形態における現画像取得位置と次画像取得位置との関係を示すベクトル関連図である。 本実施形態の形状測定装置における複雑な形状の測定例を示す図である。 形状測定装置の変形例について説明するための図である。 本実施形態による形状測定装置を備えた構造物製造システムの構成を示すブロック図である。 構造物製造システムにおける処理の流れを示すフローチャートである。
以下、本発明の実施形態による形状測定装置について図面を参照して説明する。なお、以下の説明において使用される、用語「測定領域」とは、被測定対象3の被測定面に対して撮像部22により形状測定が行われる領域を意味する。また、用語「測光処理範囲」とは、撮像部22の画像センサー部により撮像された撮像面上において、測光処理(例えば、画像の明るさの検出)と、露出条件の設定と、点群データの生成処理とを行うために設定される領域(露出条件設定用領域)を意味する(露出条件設定用領域の具体的な例については、後述する)。
[概要]
図1は、本発明の実施形態における形状測定装置の概要を示す図であり、形状測定装置100の概略構成を示す図である。図1に示す形状測定装置100は、測定装置本体1と、この測定装置本体1を制御する制御装置4とで構成されている。制御装置4は、制御線を介して測定装置本体1に接続されており、測定装置本体1の動作を制御する。測定装置本体1は、回転機構13及びヘッド駆動部14(図2)と、光切断プローブ2とを備えている。なお、ここでは、被測定対象3は、一例として、球体の例を示している。
制御装置4は、制御部41を有しており、この制御部41には、撮像部22から取得された画像データに基づき、測定領域の形状を算出する形状算出部53と、測定領域の位置に基づいて、撮像部22で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定する露出条件設定部57と、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づき、撮像部22又は光照射部21を制御する測定制御部56と、を備えている。
この形状測定装置100では、被測定対象3の表面に光切断プローブ2の光照射部21からライン光(光切断線)を測定光として照射し、この測定光より被測定対象3の表面に形成されるライン光を撮像部22により撮像する。そして、形状算出部53は、撮像部22が検出したライン光の撮像画像を基に、被測定対象3の3次元形状を示す3次元点群データを生成する。
露出条件設定部57は、撮像部22により測定光(光切断線)の撮像画像を取得する際に、被測定対象3の設計データ(CADデータ)、或いは被測定対象3をプリスキャンして得られた被測定対象3の概略形状を示す情報に基づいて、撮像部22の画像センサー部(例えば、CCD(Charge Coupled Device))22A上において画像を検出する範囲を「測光処理範囲(露出条件設定用領域)」として設定する。また、露出条件設定部57は、測光処理範囲の中での画像の明るさに基づき、露出条件を設定する。
この測光処理範囲を設定することにより、制御部41は、撮像部22の画像センサー部22Aにより撮像された画像において、通常の場合には画像が検出されないと推定される範囲の画像をマスク(除外)し、測光処理範囲内の画像のみを検出する。
例えば、後述する図8に示すように、ライン光がL1の方向から照射され、被測定面A1を含む画像が撮像部22の画像センサー部22Aに撮像された場合、拡散光L3のみが撮像される位置を画像センサー部22A上で測光処理範囲として設定することにより、本来の拡散光L3以外の正反射光L2が同時に撮像され、この正反射光L2により異常な点群データが生成されることを回避する。
より具体的には、後述する図10に示すように、画像センサー部22A上の画像6’、7’、8’のそれぞれの撮像位置に対して、幅wを持つ矩形領域(6a、7a、8a)をそれぞれの測光処理範囲として設定する。そして、制御部41は、この測光処理範囲6a、7a、8a内に含まれる画像に対してのみ測光処理(例えば、明るさ(輝度値)の検出)と、露出条件の設定と、点群データの生成処理を行う。
このように、制御部41は、被測定対象3の概略の形状情報を基に画像センサー部22Aにおける測光処理範囲(露出条件設定用領域)を設定し、この測光処理範囲内に含まれる画像に対してのみ点群データの生成処理を行い、測光処理範囲外の画像に対しては、点群データの生成を行なわない。これにより、形状測定装置100では、被測定対象3の3次元形状データを生成する際に、拡散光以外の光の影響による異常な点群データの混入を防ぐことができる。このため、形状測定装置100では、複雑な形状の被測定対象3に対しても精度を高めて形状測定を行うことができる。
また、露出条件設定部57は、測光処理範囲内の画像の検出結果(例えば、輝度値)に基づいて、撮像部22における露光量(露出条件)を設定し、測定制御部56は、露出条件設定部57により設定された露光量に基づき、撮像部22における露光量を制御する。また、露出条件設定部57は、撮像部22の露光量を設定する場合に、測光処理範囲以外の画像を除外し、測光処理範囲内の画像のみに基づいて露光量を設定する。測定制御部56は、露出条件設定部57により設定された露光量に基づき撮像部22を制御し、露光時間(シャッタースピード)、受光感度、ゲイン設定、絞り制御、減光フィルタなどを調整して露光量を設定する。
このように、制御装置4では、測光処理範囲内の画像の輝度値(明るさ)を評価して露光量を制御することにより、最適な露光量による画像を取得できる。
さらに、露出条件設定部57は、測光処理範囲内の画像の検出結果に基づいて、光照射部21から被測定対象3に投光される光量(光源輝度)を設定することができる。つまり、露出条件設定部57は、光照射部21に照射する光量を設定する場合に、測光処理範囲以外の画像を除外し、測光処理範囲内の画像のみに基づいて光量を設定することができる。測定制御部56は、露出条件設定部57により設定された光量に基づいて、LEDやレーザー光源・SLD(Super Luminescent Diode)の発光量を制御して、光量を制御する。
これにより、制御装置4では、測光処理範囲内の画像の検出結果に基づいて、光照射部21における最適な光量を計算し、それに応じた光源輝度を最適に調整することができる。
[形状測定装置100の全体構成]
次に、形状測定装置100の具体的な構成例について説明する。図2は、本実施形態による形状測定装置の具体的な構成例を示す図である。この図2に示す形状測定装置100は、被測定対象3の3次元形状を検出する3次元形状計測装置(例えば、座標測定機(CMM:Coordinate Measuring Machine))である。つまり、形状測定装置100は、光切断法を用いることで、被測定対象3の表面に一本の測定光(光切断線)からなるライン状投影パターンを投影し、被測定対象3の表面の全域(より正確には、ユーザにより設定される測定領域)を走査させる毎に投影方向と異なる角度から被測定対象3に投影されたライン状投影パターンを撮像する。そして、この形状測定装置100は、撮像された被測定対象3表面の撮像画像よりライン状投影パターンの長手方向の画素毎に三角測量の原理等を用いて被測定対象3表面の基準平面からの高さを算出し、被測定対象3の表面の3次元形状を求める装置である。
図2において、形状測定装置100は、測定装置本体1及び制御装置4を備えている。測定装置本体1は、回転機構13及びヘッド駆動部14を有する駆動部11(図4)と、位置検出部12(図4)と、ヘッド部17と、定盤18と、光切断プローブ2とを備えている。なお、ここでは、被測定対象3は、一例として、球体を示しており、定盤18の上に配置されている。定盤18は、石製又は鋳鉄製からなるものであり、上面が水平に保たれたものとなっている。
ヘッド駆動部14は、制御装置4から供給される駆動信号に基づいて、互いが直交するX軸、Y軸、Z軸の直交3軸の方向にヘッド部17を移動させる。ヘッド駆動部14は、X軸移動部141、Y軸移動部142、及びZ軸移動部143を備えている。ここで、XY平面とは、定盤18の上面と平行な面を規定するものである。すなわち、X軸方向とは、定盤18上における一方向を規定するものであり、Y軸方向とは、定盤18の上面においてX軸方向に直交する方向を規定するものであり、Z軸方向とは、定盤18の上面に直交する方向を規定するものである。
X軸移動部141は、ヘッド部17をX軸方向に駆動するX軸用モータを備え、定盤18上の所定の範囲内でX軸方向にヘッド部17を移動させる。Y軸移動部142は、ヘッド部17をY軸方向に駆動するY軸用モータを備え、定盤18上の所定の範囲内でY軸方向にヘッド部17を移動させる。また、Z軸移動部143は、ヘッド部17をZ軸方向に駆動するZ軸用モータを備え、所定の範囲内でZ軸方向にヘッド部17を移動させる。
なお、ヘッド部17は、光切断プローブ2の上部に位置し、回転機構13を介して光切断プローブ2を支持している。すなわち、ヘッド駆動部14は、互いに直交する3次元座標系の座標軸方向それぞれに、光切断プローブ2を移動させる。
図3は、本実施形態における回転機構13の構成を示す図である。
図3に示すように、回転機構13は、ヘッド部17と光切断プローブ2との間に配置され、ヘッド駆動部14に対して光切断プローブ2を回転可能に支持する。すなわち、回転機構13は、被測定対象3の表面に対して光切断プローブ2を任意の角度に回転可能とする。
また、回転機構13は、A回転軸131、B回転軸132、及びC回転軸133を備えている。なお、回転機構13は、A回転軸131、B回転軸132、及びC回転軸133の各軸を回転させる駆動モータを備えており、制御装置4から供給される駆動信号に基づいて、光切断プローブ2を任意の角度に回転させる。
A回転軸131は、A回転軸131の下に取り付けられたB回転軸132及びC回転軸133を含めて光切断プローブ2を360度の範囲でZ軸回転させる回転軸である。B回転軸132は、A回転軸131下部に取り付けられ、C回転軸133を含めて光切断プローブ2を上下方向に−90〜+90度の範囲で回転させる機構である。C回転軸133は、B回転軸132に取り付けられ、光切断プローブ2を360度の範囲で回転させる機構である。
光切断プローブ2は、被測定対象3に光切断を行うためのライン光を照射する光照射部21と、ライン光の照射方向とは異なる方向から被測定対象3に照射されたライン光を検出する撮像部22とを有している。また、光切断プローブ2は、撮像部22における露光量(例えば、シャッタースピード)や、光照射部21における光源輝度値の設定を可能にするプローブ調整部23(図4)を有している。
光照射部21は、図示しないシリンドリカルレンズや細い帯状の切り欠きを有したスリット板等から構成され、光源からの照明光を受けて扇状のライン光を測定光として生じさせるものである。光源としては、LEDやSLD等を用いることができる。
撮像部22は、光照射部21の光照射方向とは異なる方向から被測定対象3の表面に投影されるライン状の測定光(光切断線)を撮像する。すなわち、撮像部22は、ライン光が照射されることで光切断面(線)が現れた被測定対象3の表面を検出する。
また、撮像部22は、図示しない結像レンズやシャッター機構やCCD等から構成され、後述のように駆動部11を駆動させてライン光が所定間隔で走査される毎に被測定対象3を撮像するようになっている。なお、光照射部21及び撮像部22の位置は、被測定対象3の表面上の測定光の撮像部22に対する入射方向と、光照射部21の光照射方向とが、所定角度θをなすように規定されている。なお、本実施形態では、上記所定角度θが、例えば、45度に設定されている。
次に、図4を参照して、形状測定装置100の構成を詳細に説明する。
図4は、本実施形態による形状測定装置100の構成を示す概略ブロック図である。なお、この図において、図1、図2及び図3と同じ構成部分には、同じ符号を附している。
図4において、形状測定装置100は、測定装置本体1と制御装置4とを備えている。
また、測定装置本体1は、駆動部11、位置検出部12、及び光切断プローブ2を備えている。駆動部11は、回転機構13とヘッド駆動部14とを備え、制御装置4から供給される駆動信号に基づいて、光切断プローブ2の位置及び姿勢を変更させる。すなわち、駆動部11は、光切断プローブ2と被測定対象3とを相対移動させる。
位置検出部12は、回転位置検出部15とヘッド位置検出部16とを備えている。ヘッド位置検出部16は、ヘッド駆動部14のX軸、Y軸、及びZ軸方向の位置をそれぞれ検出するX軸用エンコーダ、Y軸用エンコーダ、及びZ軸用エンコーダを備える。ヘッド位置検出部16は、それらのエンコーダによってヘッド駆動部14の位置を検出し、ヘッド駆動部14の位置を示す信号を後述の座標検出部51に供給する。
回転位置検出部15は、A回転軸131、B回転軸132、及びC回転軸133の回転位置をそれぞれ検出するエンコーダを備える。回転位置検出部15は、それらのエンコーダを用いて、A回転軸131、B回転軸132、及びC回転軸133の回転位置を検出し、検出した回転位置を示す信号を座標検出部51に供給する。
光切断プローブ2は、上述したように、光切断方式により被測定対象3の表面形状を検出するために、光照射部21及び撮像部22を備えている。光照射部21は、被測定対象3にライン状のスリット光を測定光として照射する。
撮像部22は、光照射部21からの照射光により被測定対象3の表面に形成される測定光(光切断線)を撮像する。ここで、測定光(光切断線)は、被測定対象3の断面形状に応じて形成される。そして、撮像部22は、被測定対象3の表面に形成されるライン状のスリット光のパターンを撮像し、撮像した画像情報を間隔調整部52に供給する。これにより、制御装置4は、形状測定データを取得する。
また、光切断プローブ2は、プローブ調整部23を備えており、このプローブ調整部23は、測定制御部56からの制御信号を間隔調整部52を介して受信することにより、光照射部21における発光輝度や、撮像部22における露光量を制御する。例えば、プローブ調整部23は、光照射部21のLEDやSLD等の発光輝度を調整し、また、撮像部22内のシャッター機構を制御することにより露光量(シャッタースピード)を調整する。
続いて、制御装置4について説明する。
制御装置4は、制御部41と、入力装置42と、ジョイスティック43と、モニタ44とを備えている。
入力装置42は、ユーザが各種指示情報を入力するキーボードなどを備える。入力装置42は、入力された指示情報を検出し、検出した指示情報を記憶部55に記憶させる。
ジョイスティック43は、ユーザの操作を受けて、その操作に応じて駆動部11を駆動させる制御信号を生成して駆動制御部54に供給する。このように、ジョイスティック43は、光切断プローブ2を配置させる状態を示す情報を検出し、検出した情報に基づいて
光切断プローブ2を配置させる制御指令情報として、入力することができる。
モニタ44は、データ出力部60から供給された測定データ(全測定ポイントの座標値)等を受け取る。モニタ44は、受け取った測定データ等を表示する。また、モニタ44は、計測画面、指示画面等を表示する。
制御部41は、形状測定装置100における被測定対象3の形状測定動作を制御するとともに、被測定対象3表面の基準平面からの高さを算出し、被測定対象3の3次元形状を求める演算処理を行う。また、制御部41は、座標検出部51、間隔調整部52、形状算出部(点群データ生成部)53、駆動制御部54、記憶部55、測定制御部56、露出条件設定部57、データ出力部60、及びハードディスク61を備えている。
座標検出部51は、回転位置検出部15及びヘッド位置検出部16から出力される6軸座標信号によって、光切断プローブ2の位置、及び光切断プローブ2の姿勢を検知する。
ここで、6軸座標信号とは、X軸、Y軸、Z軸の直交3軸、及びA回転軸131、B回転軸132、C回転軸133の3軸の座標を示す信号である。
つまり、座標検出部51は、ヘッド位置検出部16から出力される直交3軸の座標信号によって、光切断プローブ2の位置、すなわち水平方向における観察位置(光軸中心位置)と上下方向における観察位置とを検知する。また、座標検出部51は、回転位置検出部15から出力される回転位置を示す信号によって、光切断プローブ2の姿勢を検知する。
また、座標検出部51は、光切断プローブ2の位置、及び光切断プローブ2の姿勢を示す情報として、6軸の座標情報を形状算出部53に供給する。また、座標検出部51は、光切断プローブ2の6軸の座標情報に基づいて、光切断プローブ2の移動経路、移動速度などを検出する。
間隔調整部52は、予め定められた所定のサンプリング周波数で、撮像部22から画像情報を受け取る。そして、間隔調整部52は、フレームが間引かれた画像情報を形状算出部53に供給する。
形状算出部(点群データ生成部)53は、間隔調整部52から供給されたフレームが間引かれた画像情報を受け取る。形状算出部53は、座標検出部51から供給された光切断プローブ2の6軸の座標情報を受け取る。形状算出部53は、間隔調整部52から供給された画像情報と、座標検出部51から供給された6軸の座標情報とに基づき、各測定ポイントの座標値(3次元座標値)の点群データを算出する。すなわち、形状算出部53は、撮像部22からの検出結果(画像情報)と測光処理範囲の設定情報とに基づいて被測定対象3の形状を検出する。
形状算出部53におけるこの点群データの具体的な算出方法は、以下の通りである。まず、形状算出部53は、受け取った光切断プローブ2の6軸の座標情報から、光切断プローブ2に固定された光照射部21の座標と、撮像部22の座標とを算出する。
ここで、光照射部21は、光切断プローブ2に固定されているので、光照射部21の照射角度は、光切断プローブ2に対して固定である。また、撮像部22も光切断プローブ2に固定されているので、撮像部22の撮像角度は、光切断プローブ2に対して固定である。
形状算出部53は、照射した光が被測定対象3にあたった点を、撮像された画像の画素毎に、三角測量を用いて算出する。ここで、照射した光が被測定対象3にあたった点の座標は、光照射部21の座標から光照射部21の照射角度で描画される直線と、撮像部22の座標から撮像部22の撮像角度で描画される直線(光軸)とが交わる点の座標である。なお、上記の撮像された画像は、測定位置に配置された光切断プローブ2によって検出された画像を示す。
これによって、形状測定装置100は、被測定対象3に照射されるスリット光(測定光)を所定の方向に走査させることにより、形状算出部53により、光が照射された位置の座標を算出することができる。つまり、被測定対象3の表面形状を求めることができる。形状算出部53は、被測定対象3の形状をライン光に基づいて検出された点群の位置情報である点群データとして検出する。形状算出部53は、算出した3次元座標値の点群データを記憶部55に記憶させる。
なお、形状測定装置100における被測定対象3の形状測定は、データ取得ピッチ(画像取得間隔)を変更することにより、測定精度を変更することができる。例えば、データ取得ピッチをミリメートル(mm)単位に設定することにより、形状測定装置100は、被測定対象3の被測定面を高速でスキャン(プリスキャン)して、被測定対象3の概略形状を測定することができる。そして、形状測定装置100では、上記プリスキャンにより被測定対象3の概略形状を測定した後に、データ取得ピッチをミクロンメートル(μm)単位に変更して、本測定(被測定対象3の精密測定)を行うことができる。この本測定を行う際に、制御部41は、プリスキャンにより得られた被測定対象3の概略形状に基づいて、上記の測光処理範囲を設定することができる。
記憶部55は、例えば、RAM(Random Access Memory)などのメモリであり、入力装置42から供給された各種指示情報を測定条件テーブルとして記憶する。ここで、測定条件テーブルには、測定領域の情報、例えば、被測定対象3の測定開始点(最初の測定ポイント)や測定終了点の座標値や、測定開始位置での測定目標方向や、各測定ポイントの初期値を示すデータ(例えば、露光量の初期値)や、データ取得ピッチなどの項目が含まれる。また、記憶部55は、形状算出部53から供給された3次元座標値の点群データを測定データとして記憶する。また、記憶部55は、座標検出部51から供給された各測定ポイントの座標値データ(6軸の座標情報)を経路情報として記憶する。また、記憶部55は、被測定対象3のCADデータ(設計情報)を記憶する。
なお、記憶部55は、形状記憶部551と、経路記憶部552と、CADデータ記憶部553と、を備えている。形状記憶部551は、上述した形状算出部53から供給された3次元座標値の点群データを測定データとして記憶する。つまり、形状記憶部551は、後述する測定制御部56によって制御された相対位置に対応させて形状算出部53が検出した検出値(形状)である点群データを記憶する。
ここで、相対位置とは、光切断プローブ2の測定位置及び姿勢(向き)のことであり、光切断プローブ2と被測定対象3との相対的な位置を示し、被測定対象3が固定されている場合には、光切断プローブ2の測定位置を示す。
経路記憶部552は、変更させた上述の相対位置(各測定ポイント)に対応する光切断プローブ2の座標値データ(6軸の座標情報)を相対位置の経路情報として記憶する。CADデータ記憶部553は、被測定対象3のCADデータ(設計情報)を記憶する。
駆動制御部54は、ジョイスティック43からの操作信号に基づいて、又は、測定制御部56からの指令信号に基づいて、ヘッド駆動部14及び回転機構13に駆動信号を出力して、駆動部11を移動させる制御を行う。
測定制御部56は、法線算出部561と、駆動制御部54に補正制御情報を供給する相対移動制御部562とを備えており、この測定制御部56は、被測定対象3の測定領域近傍の測定結果(形状データ)に基づき、測定対象に対する光切断プローブ2の位置を補正するための移動動作情報を出力するとともに、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づき撮像部22又は光照射部21を制御する。また、測定制御部56は、形状算出部53における測定(点群データの生成)動作を制御する。また、測定制御部56は、記憶部55から測定条件テーブルに登録された被測定対象3の測定領域の情報、例えば、測定開始点(最初の測定ポイント)位置やデータ取得ピッチ等を読み出す。
測定制御部56の相対移動制御部562は、駆動制御部54を介して駆動部11を制御して、光照射部21と撮像部22の相対位置関係を一定に保持しながら、被測定対象3と光照射部21とを相対的に移動させる。つまり、相対移動制御部562は、光切断プローブ2がライン光(測定光)を検出する際の相対位置が一定になるよう撮像部22又は光照射部21を制御する。また、測定制御部56は、法線算出部561により、検出値(3次元座標値の点群データ)に基づいて、ライン光が投影された位置における被測定対象3の法線方向を示す法線ベクトルを算出し、算出した法線ベクトルに基づいて、ライン光を照射する光切断プローブ2の向き(姿勢)を制御することができる。
この場合に、法線算出部561は、形状記憶部551から読み出した、現在の相対位置に対する3次元座標値の点群データと現在より過去に検出された(例えば、1つ前の)相対位置に対する3次元座標値の点群データとに基づいて、現在の相対位置における法線ベクトルを算出する。すなわち、法線算出部561は、連続する2枚のライン光の撮像画像から被測定対象3の測定面の法線方向(面の傾斜情報)を示す法線ベクトルを算出する。この法線ベクトルの算出の例については、後述する。
また、露出条件設定部57は、領域設定部571により、画像センサー部22A上での測光処理(例えば、明るさの検出)と点群データの生成とを行うべき測光処理範囲を設定する。すなわち、領域設定部571は、画像センサー部22Aで撮像される画像に対して、測光処理や点群データの生成対象となる画像の範囲を測光処理範囲として設定する。
また、露出条件設定部57は、撮像画像の測光処理範囲内に含まれる画像(測定光の画像)に基づいて、次に取得される画像の取得条件を設定する。つまり、露出条件設定部57は、光照射部21の発光輝度や撮像部22の露光量等の画像取得条件を設定する。例えば、露出条件設定部57は、測光処理範囲内の画像の明るさの情報に基づいて、次画像取得のための撮像部22の露光量(シャッタースピード)や、光照射部21のLEDやSLD等の輝度を露出条件として設定する。測定制御部56は、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づいて、光照射部21又は撮像部22を制御する。
これにより、被測定対象3の形状(面の傾き)が急峻に変化する場合等、撮像部22で検出する散乱光の明るさが変化する場合に、測定制御部56は、この散乱光の明るさの変化に応じて、画像を検出する撮像部22の露光量(シャッタースピード)や、光照射部21の発光輝度等を撮像状態として設定することができる。
なお、上記撮像部22における露光量の制御は、露出条件設定部57が、測光処理範囲内の画像に基づいて露光量を計算し、露光量変数Sを更新することにより行われる。この露光量変数Sは、光照射部21の輝度値Bと反比例の関係にあり、規格化するための定数をKとすると、露光量変数Sは、「S=K/B」の関係で示される。
このように、測定制御部56が、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づいて、撮像部22の露光量(シャッタースピード)や光照射部21の発光輝度を調整することにより、形状測定装置100は、被測定対象3が複雑な形状である場合など、被測定対象3の形状(面の傾き)が急峻に変化する場合において、連続的に撮像する撮像画像の明るさにムラが発生することを回避し、点群データの品質を一定に保つことができる。
ところで、上述したように、測定制御部56は、法線算出部561により、光切断プローブ2を走査方向に沿って移動させる間に形状算出部53によって得られた複数回の点群データの測定結果に基づいて、法線ベクトルを算出し、この法線ベクトルの方向に基づいて光切断プローブ2の姿勢を制御することができる。例えば、本実施形態の形状測定装置100では、法線算出部561により算出した法線ベクトルの向きと、ライン光の照射方向とが一致する向きになるように光切断プローブ2を制御することができる。
例えば、図11は、本実施形態の形状測定装置100における球体(被測定対象)3の測定例を示す図である。この図において、形状測定装置100では、測定制御部56により、光切断プローブ2を測定位置P3から測定位置P6まで移動させ、球体(被測定対象)3の形状を測定する。なお、測定経路R1は、測定位置P3から測定位置P6までの測定を行う際の経路を示す。
この図11に示すように、ユーザによって、測定開始位置P3に光切断プローブ2が移動され、測定光(光切断線)の照射方向が指定された場合、測定制御部56は、法線算出部561により、被測定対象3(球体)の法線方向を算出する。次に、測定制御部56は、算出した法線方向、測定光の照射方向、及びデータ取得ピッチに基づいてプローブ角度を含む次画像取得位置を計算して、測定経路R1に示すように、連続的に被測定対象3に対して光切断プローブ2の姿勢と位置を変えながら、各測定領域の形状計測を実行する。特に、測定光の被測定対象3への投影方向が被測定対象3の面の向きに対して、ほぼ同じ投影方向となるように光切断プローブ2の位置と姿勢を決定している。また、露出条件設定部57は、各測定位置において、画像センサー部22A上での測光処理範囲を設定し、形状算出部53において異常な点群データが生成されないようにする。また、露出条件設定部57は、最適な明るさの画像が得られるようにシャッタースピード等の露出条件を設定する。測定制御部56は、露出条件設定部57により設定されたシャッタースピード等の露出条件に合致するように、撮像部22を制御する。
また、測定制御部56は、形状算出部53によって点群データを繰り返し算出させる際に、変更させた相対位置(光切断プローブ2の測定位置及び姿勢)に対応する光切断プローブ2の座標値データ(6軸の座標情報)を経路記憶部552に記憶させる。測定制御部56は、再び同じ被測定対象3の形状を検出させる場合に、経路記憶部552から読み出した相対位置の経路に基づいて、新たな測定領域に測定光を投影する際の投影方向が、新たな測定領域の法線に対して今までの投影方向と同じ方向となるように、光切断プローブ2の6軸の座標情報を変更させて、測定光が測定領域に投影されたときの画像を取得する。そのように、常に測定光の投影方向と測定領域の法線方向との関係が実質的に同じ状態で、画像センサー部22Aで画像を取得できるようにしている。このような画像を用いて形状算出部53により測定領域の位置が変わる毎に点群データを繰り返し検出させることができる。
データ出力部60は、記憶部55から測定データ(全測定ポイントの座標値)等を読み出す。データ出力部60は、その測定データ(全測定ポイントの座標値)等をモニタ44に供給する。また、データ出力部60は、測定データ(全測定ポイントの座標値)等をプリンタ(不図示)へ出力する。
ハードディスク61は、磁気記憶装置などの不揮発性の記憶装置であり、記憶部55に記憶されている情報を保存しておく目的のために記憶する。記憶部55に記憶されている情報は、例えば、形状記憶部551に記憶されている点群データや、経路記憶部552に記憶されている経路情報や、CADデータ記憶部553に記憶されている設計情報(CADデータ)などである。これらの情報は、測定制御部56によって、記憶部55から読み出されて、ハードディスク61に記憶される。また、ハードディスク61に記憶されている情報は、測定制御部56によって、ハードディスク61から読み出され、記憶部55に記憶されて、測定の際に使用されてもよい。
なお、上記の形状算出部53は、点群データを生成する際に、後述するプローブ座標から後述するワールド座標に変換する。以下、形状算出部53が、プローブ座標からワールド座標に変換して、点群データを生成する一例を説明する。
(プローブ座標系について)
まず、本実施形態におけるプローブ座標系について説明する。
図12は、本実施形態におけるプローブ座標系を示すベクトル関連図である。
この図において、プローブ座標系は、光切断プローブ2単体において、照明光軸L1と撮像光軸L2が交わる点を原点とし、光照射部21の方向をZ軸のプラス方向、Z軸と直交する紙面右に向かう方向をX軸のプラス方向、紙面奥に向かう方向をY軸のプラス方向として示される。本実施形態では、例えば、撮像部22は、画像センサー部22Aとして、1024×1024画素のCCDカメラを使用し、測定光(光切断線)の長手方向を垂直方向として撮像する。そのため、形状算出部53は、最大輝度位置の検出を水平方向に行うことにより、最大1024個のピーク位置を検出することが可能である。
これにより、予め光切断プローブ2単体の校正がされた状態では、形状算出部53は、撮像された画像(測光処理範囲内の画像)内の精密な水平画素位置から、校正データを基にした補正演算により、光切断面内のプローブ座標系での3次元座標を生成することが可能である。
なお、本実施形態において、光切断プローブ2単体校正が完了しているものとし、補正演算内容の詳細に関しては、説明を省略する。
(ワールド座標系について)
次に、本実施形態におけるワールド座標系について説明する。
ワールド座標系は、例えば、図2に示された形状測定装置100の定盤18上における左手前を原点としてX軸、Y軸、及びZ軸方向での測定空間内の3次元位置を示す座標系である。形状算出部53は、点群データをこのワールド座標系の位置情報(座標情報)として生成する。
(プローブ座標からワールド座標への変換)
次に、形状算出部53における、プローブ座標からワールド座標に変換して、点群データを生成する処理について説明する。形状算出部53は、プローブ座標系として生成された点群座標に6軸の座標情報を加味した演算を行い、ワールド座標系に変換する。
ここで、プローブ座標系によって示される点の3次元座標を式(1)として示す。
Figure 2014153149
図13は、本実施形態における回転軸ベクトルを示すベクトル関連図である。
この図において、A回転軸131及びB回転軸132の回転中心をポイントP1とし、C回転軸133の回転中心(プローブ座標原点でもある)をポイントP2として示す。また、光切断プローブ2によって画像が取得される際のA回転軸131の角度を角度aとし、B回転軸132の角度を角度bとし、C回転軸133の角度を角度cとして示す。
ここで、A回転軸131、B回転軸132、及びC回転軸133の各回転軸に対応する回転行列をそれぞれMa、Mb、及びMcとすると、ワールド座標への変換は、式(2)として示される。
Figure 2014153149
ここで、O(オー)は、A回転軸131及びB回転軸132の回転中心におけるワールド座標を示すベクトルであり、座標検出部51が検出した形状測定装置100のX軸、Y軸、及びZ軸の座標情報と一致させるように校正されている。
また、Lは、(a=b=0)である場合のA回転軸131及びA回転軸132の回転中心を基点として、C回転軸133の回転中心に向けてのベクトルを示す。ベクトルLのノルムをl(エル)とすると、ベクトルLは、式(3)として示される。
Figure 2014153149
式(2)として示される演算処理により、形状算出部53は、ベクトルLの先端、即ち、プローブ座標系の原点ポイントP2を、ワールド座標系に変換することができる。つまり、形状算出部53は、光切断プローブ2によって検出された被測定対象3の表面の位置情報(点群データ)をワールド座標系に変換することができることを示している。
また、形状算出部53は、生成した点群データを形状記憶部551に記憶させる。
[形状データを作成するまでの手順]
次に、図5を参照して、形状測定装置100が被測定対象3を光切断プローブ2によりスキャンし形状データを作成するまでの手順を説明する。
(CADデータがある場合の測定手順)
図5は、本実施形態における形状測定装置100の測定手順を示す図であり、CADデータがある場合の例である。
この図において、まず、制御装置4において、制御部41は、被測定対象3の3次元情報を取得する(ステップS101)。例えば、制御部41は、被測定対象3の測定スキャンに先立ち、被測定対象3の設計データ(CADデータ)を取得する。
次に、ユーザは、被測定対象3の3次元形状を測定する測定領域を設定する(ステップS102)。この測定領域の指定は、被測定対象3の設計データ(CADデータ)に基づいて得られた3次元点群データの情報(被測定対象3の概略構成を示す形状)をモニタ44上に表示し、このモニタ44に表示された画像において、ユーザは、入力装置42やジョイスティック43を操作して測定領域を指定することができる。
また、ユーザは、被測定対象3に対して、走査方向に沿ってする複数の測定領域を設定する際に、測定開始点と測定終了点と測定領域の間隔であるデータ取得ピッチとを設定することで、複数の測定領域を設定することもできる。例えば、ユーザは、光切断プローブ2から照射される測定光(光切断線)が被測定対象3の測定開始位置に照射されるように、例えば、移動ツマミ(入力装置42の一部)、又はジョイスティック43を用いて、ヘッド駆動部14及び回転機構13を移動及び回転させ、測定開始位置に測定光が投影されるように指定することができる。入力装置42又はジョイスティック43は、指定された測定終了位置を記憶部55に記憶させる。同様にして、ユーザは、入力装置42又はジョイスティック43により、ヘッド駆動部14及び回転機構13を移動及び回転させることにより、測定終了位置に測定光が投影されるように指定することができる。指定された測定開始位置や測定終了位置として、記憶部55に記憶させる。
次に、少なくとも測定開始位置の測定光の照射方向(測定目標方向)と移動方向が、ユーザによって指定される(ステップS103)。つまり、ユーザによって、C回転軸133を移動ツマミ又はジョイスティック43により測定光の長手方向を被測定対象3に合わせて、測定光の照射方向が、調整される。また、ユーザは、光切断プローブ2の移動方向(スキャン方向)を設定する。また、測定終了位置及び測定開始位置と測定終了位置の間の測定領域での測定光の照射方向と移動方向を別途設定してもよい。
ここで、駆動制御部54は、移動ツマミ又はジョイスティック43からの操作信号に基づいて、回転機構13のC回転軸133を回転させるとともに、登録位置として設定された測定開始位置での測定目標方向を記憶部55に記憶させる。
次に、制御装置4では、被測定対象3の表面のデータ取得ピッチ(データ取得間隔)がユーザによって指定される(ステップS104)。つまり、入力装置42又はジョイスティック43を用いて、データ測定ピッチが指定され、入力装置42又はジョイスティック43は、指定されたデータ測定ピッチを記憶部55に記憶させる。
次に、制御部41では、被測定対象3の測定領域に対する3次元情報を設定する(ステップS105)。つまり、制御部41は、測定制御部56により、被測定対象3の設計データ(CADデータ)を基にした形状情報(被測定対象3の概略構成を示す情報)を、被測定対象3の測定領域における3次元情報として設定する。これにより、制御部41は、領域設定部571により、被測定対象3の測定領域における3次元情報を基にして、撮像部22における測光処理範囲を設定することができる。
以上により、形状測定装置100において、被測定対象3の形状を測定するための設定が完了する。
次に、制御部41は、被測定対象3の形状の測定を開始する(ステップS106)。この測定を開始する際に、制御部41は、露出条件設定部57により、1枚当たりの透過像を取得する際の露出量を定めるパラメータである露出量変数を予め定めた初期値に設定する。そして、測定制御部56は、上述で設定された測定条件テーブルを記憶部55から読み出して、測定条件テーブルに基づいて被測定対象3の形状の測定を開始する。
そして、測定制御部56は、光切断プローブ2の測定光を最初の測定領域(最初は測定開始位置)に移動させる(ステップS107)。続いて、測定制御部56は、露光量変数(最初は所定の初期値)を撮像部22の画像センサー部22Aまたは光照射部21で適用されるように撮像部22または光照射部21を制御する(ステップS108)。つまり、測定制御部56は、露光量変数を基に撮像部22内のプローブ調整部23を制御することにより、画像を取得する際の撮像部22の露光量(シャッタースピード)や、光照射部21のLEDやSLDの輝度値を設定する。なお、この露光量変数は、測光処理範囲内において取得された画像(現画像)に応じて次の画像を取得する際に変更されるものである。
上記のステップS108において露光量変数を撮像部22内の画像センサー部22Aまたは光照射部21に適用した後に、制御部41は、座標検出部51に6軸の現座標情報を検出させるとともに、間隔調整部52を介して撮像部22から測定光(光切断線)の画像を取得する(ステップS109)。つまり、測定制御部56は、光切断プローブ2の測定位置を移動し、座標検出部51に6軸の現座標情報を検出させるとともに、間隔調整部52を介して撮像部22にライン光(光切断線)の画像を取得させる。
また、撮像部22によって光切断プローブ2が画像を取得するのと同期して、座標検出部51は、位置検出部12が検出した移動後の(現在の)6軸の座標情報をラッチし、形状算出部53に供給する。また、撮像部22によって取得された画像は、間隔調整部52を介して形状算出部53に供給される。
次に、制御部41では、形状算出部53により、ステップS101で取得した3次元情報を示す物体面座標(ワールド座標)から2次元情報を示すCCD面座標(画像センサー部22A内のスクリーン座標)へ座標変換を行い、また、画像センサー部22A内で撮像される測定光(光切断線)の画像位置を特定する(ステップS110)。
そして、制御部41では、領域設定部571により、画像センサー部22A内のスクリーン座標上の像の位置から、画像情報から測光処理と点群データ生成処理を行う範囲(測光処理範囲)を設定する(ステップS111)。
すなわち、領域設定部571は、撮像部22で取得される画像データのうち、被測定対象3の概略形状を示す3次元形状データに基づいて、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置を推定し、この推定した位置を含み、推定した位置から予め定められる所定の範囲を露出条件設定用領域とする。
例えば、図9は、本実施形態における物体画像と画像センサー像(画像センサー部により撮像される画像)との関係を示す図である。この図9に示す例では、光切断プローブとして、シャインプルーフの原理(Scheimpflug principle)を使用した撮像光学系の例を示し、この例では、CCDで構成される画像センサー部22Aの設置位置を撮像系光軸Lxからさらに角度θだけ傾けた配置をとっている。
この図9に示す例では、画像センサー部22A上でのCCD面座標(u,v)と、ワールド座標系の光切断面座標(x,y,z)との関係式は、例えば、以下の式(4)、式(5)及び式(6)となる。
Figure 2014153149
なお、ここで、f:焦点距離、b:像側距離、θ:物体面傾斜角、φ:撮像光軸からのカメラ光軸角である。
例えば、光切断センサー2を走査することにより、図9(a)に示すように、被測定対象3の物体面に於いて光切断面31(光照射部21から照射されるライン光が形成する光プレーン)内で、照明光軸方向5に沿って被測定面の物体画像(測定光である測定光の画像)6、7、8の位置が「6→7→8」と順に移動した場合、撮像部22の画像センサー部22Aに撮像される画像6’、7’、8’の位置は、図9(b)に示すように、撮像方向5Aに沿って「6’→7’→8’」と順に変化する。この図9(b)に示す画像センサー部22A上での画像6’、7’、8’の位置は、被測定対象3のCADデータ、或いはプリスキャンされた形状データに基づいて、上述した3次元座標から2次元座標への座標変換式(又は、予め用意した変換テーブル)により、予め算出することができる。
すなわち、領域設定部571(露出条件設定用領域設定部)は、上述した3次元座標から2次元座標への座標変換により、各画像取得位置における光切断面での物体面座標から、図9(b)に示すように、画像センサー部22Aに撮像される画像6’、7’、8’の位置をCCD面上に設定する。なお、図9(a)及び(b)では、図面の見易さのために、画像(光切断線の画像)を3つのみ示しているが、実際には、画像(光切断線の画像)は密に存在するものである。
そして、領域設定部571は、上記の画像6’、7’、8’の位置を含み、この位置から所定の範囲を測光処理範囲(露出条件設定用領域)として設定する(ステップS111)。つまり、領域設定部571は、画像センサー部22A上での画像が撮像されるべき位置に対して、その位置を含む所定の領域を、測光処理と点群データの生成処理を行う測光処理範囲として設定する。
例えば、図10に示すように、領域設定部571は、画像センサー部22A上の画像6’、7’、8’のそれぞれの撮像位置に対し、所定の幅wを持つ領域(6a、7a、8a)をそれぞれ測光処理範囲(露出条件設定用領域)として設定する。なお、この測光処理範囲の設定は、図10に示すような矩形領域による設定だけでなく、任意の多角形、円、楕円等、任意の形状の領域により設定することもできる。また、測光処理範囲の設定は、画素毎に指定するようにしてもよい。また、画像6’、7’、8’は湾曲する曲線であってもよく、この曲線に対して所定の幅wを持つ領域を設定することができる。
また、上記の幅wは、CMMにおける駆動系の位置決め精度、被測定対象3の設置誤差などによる被測定対象3の配置位置の再現性に応じて余裕(マージン)を考慮して設定することができる。また、幅wは、連続的に画像を取得するシーケンスにおいて次に取得される画像の画像取得条件を設定する必要性から、データ取得ピッチ(画像取得ピッチ)を考慮して設定することができる。このようにすることで、測定光の被測定対象による1回の反射光の像だけで、露出条件を設定できるので、正確な露出条件が得られる。例えば、撮像部の視野内に被測定対象での多重反射光により形成される像が撮像部22により撮像されたとしても、その多重反射光により形成される像に最適化され、本来適正露出で撮影した被測定対象での1回の反射光の像が適正露出で撮影出来無いという問題を解消することができる。
そして、図5に戻り、制御部41は、ステップS111において設定した測光処理範囲内の画像の輝度(明るさ)の測光処理を行う(ステップS112)。なお、この測光処理は、例えば指定範囲内の最高輝度値で規格化する手法や、平均輝度値を算出して規格化する手法、輝度分布から算出する手法等を用いることができる。
次に、露出条件設定部57は、ステップS112における測光処理範囲内の画像の測光処理の結果に基づいて、露光量の算出と、露光量変数Sの更新を行う(ステップS113)。すなわち、露出条件設定部57は、画像センサー部22A上で設定された測光処理範囲内において、連続的(例えば、測定領域を10μmごとに移動するたび)に画像を取得する際に、次に取得される画像に対する撮像部22の露光量や光照射部21の発光輝度等を画像取得条件(露出条件)として設定する。なお、上述のように。露光量変数Sは、光照射部21における輝度値Bと反比例の関係にあり、規格化する為の定数をKとすると、「S=K/B」の関係にある。
次に、制御部41では、形状算出部(点群データ生成部)53により、設定された測光処理範囲内の画像から点群データの生成処理を行う(ステップS114)。つまり、形状算出部53は、領域設定部571から測光処理範囲の情報を入力し、この測光処理範囲内において、撮像画像から点群データの生成処理を行う。
この点群データの生成処理において、形状算出部53は、輝度信号のピークの検出位置を画素間で補間し、サブピクセルの位置情報を算出後、画像センサー部22A内の座標から物体面座標に座標変換を行い、点群データを生成する。つまり、形状算出部53は、座標検出部51から供給された6軸の座標情報と、間隔調整部52から供給された画像(測光処理範囲内の画像)とに基づいて、1画像分の点群データを生成する。形状算出部53は、生成した点群データを形状記憶部551に記憶させる。
これにより、形状測定装置100で、被測定対象3の3次元形状を測定する際に、拡散光以外の光により異常な点群データが生成されることを回避できる。
例えば、前述した図8は、拡散光以外の光が混入する例を示す図であり、被測定対象3として平歯車の形状測定を行う場合の例を示している。
この図8に示すように、撮像部22により被測定面A1(測定したい歯面)からの拡散光以外の光が撮像され、被測定面A1以外の形状データとして点群データが生成される可能性がある。
例えば、測定光がライン状のパターンの場合、ライン状のパターンがL1の方向から照射され、被測定面A1を含む画像が撮像部22の画像センサー部22Aに撮像された場合に、歯の先端部からの正反射光L2が同時に撮像される可能性がある。そこで、領域設定部571が、本来拡散光L3が撮像される位置(測光処理範囲)を画像センサー部22A上で設定することにより、拡散光L3以外の画像により点群データが生成されることを回避できる。
そして、図5に戻り、ステップS114における測光処理範囲内の画像からの点群データの生成処理が完了すると、続いて、制御部41は、ステップS102において設定された測定領域の範囲内での形状測定を完了したか否かを判定する(ステップS115)。
そして、ステップS115の判定処理において測定領域内の形状測定を完了していると判定された場合に(ステップS115:Yes)、制御部41は、ステップS116の処理に移行し、形状算出部53により、各測光処理範囲内で生成した点群データの合成処理を行い、被測定対象3の3次元点群データを生成する(ステップS116)。そして、形状算出部は、合成した点群データを形状記憶部551に記憶させる。また、測定制御部56は、形状算出部53で合成した点群データをハードディスク61にセーブする(記憶させる)。つまり、測定制御部56は、形状記憶部551に記憶されている被測定対象3の形状情報である点群データをハードディスク61に記憶させる。なお、測定制御部56は、経路記憶部552に記憶されている経路情報(上述の相対位置の経路)をハードディスク61に記憶させてもよい。
また、測定制御部56は、再び形状算出部53に被測定対象3の形状を検出させる場合に、経路記憶部552から読み出した経路情報に基づいて光切断プローブ2の座標情報を変更させて、形状算出部53に点群の位置情報を繰り返し検出させてもよい。この場合、測定制御部56は、ハードディスク61に記憶されている経路情報を読み出して使用してもよいし、ハードディスク61に記憶されている経路情報を経路記憶部552に記憶させて、使用してもよい。
一方、ステップS115の判定処理において測定領域内の測定を完了していないと判定された場合に(ステップS115:No)、制御部41は、ステップS107の処理に戻り、次の画像取得位置に光切断プローブ2を移動する。
この光切断プローブ2を次画像の取得位置に移動させる場合に、測定制御部56は、ユーザが指定した方向とデータ取得ピッチに基づいて、光切断プローブ2を次画像の取得位置に向けて移動させることができる。又、測定制御部56は、法線算出部561により、前画像、現画像の点群位置から被測定対象3の表面の法線を検出し、この法線ベクトルとデータ取得ピッチとに基づいて、次画像の取得位置を決めることもできる。
以下では、測定制御部56が、法線ベクトルに基づいて、次画像の取得位置を決める例について説明する。
(法線ベクトルの算出例)
測定制御部56の法線算出部561は、形状記憶部551から1つ前の測定位置(相対位置)に対する検出値(形状)である前画像の点群データと、現在の測定位置(相対位置)に対する検出値(形状)である現画像の点群データとを読み出す。そして、法線算出部561は、形状記憶部551から読み出した、前画像の点群データと現画像の点群データとに基づいて、現在の測定位置(相対位置)における法線ベクトルを算出する。
図14は、本実施形態における法線ベクトルの生成例を示す概念図である。
図14(a)において、点群データD2は、現在の測定位置において取得された画像n(現画像)に基づいて、生成されたワールド座標系による点群データを示している。点群データD1は、画像n(現画像)の1つ前の測定位置において取得された画像(n−1)(前画像)に基づいて、生成されたワールド座標系による点群データを示している。この点群データD1及びD2において、四角で囲まれた1〜1024の数字は、点群の番号を示している。
法線算出部561は、現画像nから生成された点群から選定された最大1024点に対応した法線ベクトル計算を行う。
なお、ここでは、一例として、現画像nの5番目の走査線位置から生成された3次元座標における法線ベクトルの計算例を示す。
図14(b)は、図14の現画像n及び前画像(n−1)における5番目近傍の点群データD3を示している。この図において、ベクトルV0は、現画像nの5番目の点を基点として、現画像nの4番目に向かう3次元ベクトルを示し、ベクトルV1は、現画像nの5番目の点を基点として、前画像(n−1)の4番目に向かう3次元ベクトルを示す。また、ベクトルV2は、現画像nの5番目の点を基点として、前画像(n−1)の5番目に向かう3次元ベクトルを示す。さらに、ベクトルV3は、現画像nの5番目の点を基点として、現画像nの6番目に向かう3次元ベクトルを示し、ベクトルV4は、現画像nの5番目の点を基点として、前画像(n−1)の6番目に向かう3次元ベクトルを示す。
上述のように、ベクトルV0〜V4を定義した場合、この現画像nの5番目の点における法線ベクトルNは、式(7)として示される。
Figure 2014153149
この式(7)において、「×」は外積を示し、「unit」は単位ベクトル化関数を示す。また、「+」はベクトル加算を示す。
なお、式(7)の方式では、周辺4ベクトルを平均化して求める方式であるため、測定制御部56は、安定した法線ベクトルNを算出することができる。
また、この現画像nの5番目の周辺点群に欠落がある場合には、平均数は3以下として対応してもよい。
測定制御部56内の法線算出部561は、上述の式(7)として示される演算方法によって、1画像から最大1024点に対応した法線ベクトルを算出する。
そして、上記の法線ベクトルの設定処理が完了すると、次に、制御部41は、ステップS104において設定したデータ取得ピッチに応じて、次画像取得の6軸の座標情報を計算する。この6軸の座標情報の計算処理において、測定制御部56は、式(7)に示される演算方法によって算出された法線ベクトルNと、ベクトルV0及びV4とに基づいて、次の測定位置である次画像取得位置に向かう方向ベクトルDを算出する。
この方向ベクトルDは、式(8)として示される。
Figure 2014153149
また、記憶部55から読み出した、上述のステップS104において設定したデータ取得ピッチを被測定対象3の表面のデータ取得ピッチtとすると、移動ベクトルMは、式(9)として示される。
Figure 2014153149
ここで、次画像を取得する位置を示す次画像取得位置ベクトルSを式(10)として示す。
Figure 2014153149
また、現在の画像取得位置のワールド座標を示す現画像取得位置のワールド座標位置ベクトルWを式(11)として示す。
Figure 2014153149
この現画像取得位置のワールド座標位置ベクトルWを式(11)として示す場合、次画像取得位置Sは、式(12)として示される。
Figure 2014153149
この場合におけるベクトル関連図を図15に示す。
図15では、本実施形態における現画像取得位置ベクトルWと次画像取得位置Sとの関係を示している。
また、ワールド座標における次画像取得位置Sでの6軸の座標P=[x y z a b c]の各成分は、測定制御部56によって次のように演算される。法線ベクトルNの各成分をN=[XN YN ZN](Tは転置ベクトルを示す)とすると、法線方向に光切断プローブ2を向けるための角度a及びbは、それぞれ式(13)及び式(14)として示される。
Figure 2014153149
なお、成分cは、測定開始前に予め指定された測定光照射方向である。
また、A回転軸131及びB回転軸132における各回転軸の回転行列をそれぞれMa、Mbとすると、A回転軸131及びB回転軸132の回転中心座標Oは、式(15)として示される。
Figure 2014153149
ここで、Lは、(a=b=0)である場合のA回転軸131及びB回転軸132の回転中心を基点として、C回転軸133の回転中心に向けてのベクトルを示し、ベクトルLのノルムをl(エル)とすると、ベクトルLは、式(16)として示される。
Figure 2014153149
したがって、測定制御部56は、次画像取得位置Sにおける6軸の座標Pを式(13)〜式(15)により算出することができる。
このように、制御部41は、ユーザが指定した方向又は算出した法線ベクトルに基づいて、6軸を制御して、次画像取得位置に光切断プローブ2を移動させる(図5のステップS107)。つまり、測定制御部56は、算出された6軸の座標Pを指令値として、駆動制御部54により駆動部11を移動させる。これにより、駆動制御部54は、駆動部11を検出値に応じて6軸の座標に移動させ、光切断プローブ2を次画像取得位置に移動させる。
また、測定制御部56は、移動させた次画像取得位置に対応する座標情報(光切断プローブ2の座標情報)を経路記憶部552に記憶させる。すなわち、測定制御部56は、形状算出部53に点群の位置情報を繰り返し検出させる際に、変更させた測定位置(相対位置)に対応する光切断プローブ2の座標情報を経路記憶部552に記憶させる。
このようにすることで、測定領域の面の方向に対して、測定光の投影方向が一定の関係を有する。したがって、測定領域の面の方向により、あるときには測定光の測定領域による正反射光が撮像部22に入射してしまうというような、極端な測定光の像の光量変化が測定位置の変化により発生してしまう問題を解消することができる。
(CADデータが無く、プリスキャンにより概略形状データを取得する処理)
図5に示した処理の例では、CADデータから被測定対象3の概略形状を取得して、測光処理範囲を設定する例について説明したが、ここでは、CADデータが無く、プリスキャンにより概略形状データを取得して、測光処理範囲を設定する例について説明する。
図6は、CADデータが無く、プリスキャンにより疎形状(概略形状)データを取得する測定手順を示す図である。
この図6に示す処理の流れは、図5に示す処理の流れと比較して、ステップS101A〜S106Aに示すプリスキャンの処理ステップが、図5に示す処理の手順と異なり、処理ステップS107〜S116は、図5に示す処理手順と同じである。このため、同一の処理内容のステップには同じ符号を付して示している。
図6において、まず、ユーザは、測定制御部56に対して、被測定対象3をプリスキャンして概略形状(疎形状)を取得するためのプリスキャンの測定パスを設定する(ステップS101A)。
測定制御部56は、光切断プローブ2を所定のプリスキャン速度で移動させながら被測定対象3に対して測定光(光切断線)を照射し、被測定対象3に投光された測定光の像を撮像する。形状算出部53は、撮像部22により取得された画像データに基づき、逐次に測定位置の座標を算出する(ステップS102A)。
次に、形状算出部53は、測定位置の座標情報を形状記憶部551に保管し、被測定対象3の3次元情報を算出する(ステップS103A)。
次に、制御部41は、ステップS104Aに移行する。このステップS104Aの処理は、図5に示したステップS103及びS104と同じ処理である。すなわち、ステップS104Aにおいては、被測定対象3をプリスキャンして得られた3次元点群データの情報(被測定対象3の概略構成を示す形状)をモニタ44上に表示し、このモニタ44に表示された画像において、ユーザは、入力装置42やジョイスティック43を操作して測定領域を指定する。また、ユーザは、測定光(光切断線)の照射方向(測定目標方向)と移動方向と、データ取得ピッチ(データ取得間隔)とを指定する(ステップS104A)。
続いて、制御部41では、被測定対象3の測定領域に対する3次元情報を設定する(ステップS105A)。つまり、制御部41は、測定制御部56により、被測定対象3をプリスキャンして得られた3次元点群データを基にした形状情報(被測定対象3の概略構成を示す情報)を、被測定対象3の測定領域における3次元情報として設定する。
以上により、形状測定装置100において、被測定対象3の形状を測定するための設定が完了し、測定を開始する(ステップS106A)。以降の形状測定処理は、図5に示す処理と同じであり、重複する説明は省略する。
このように、制御部41では、CADデータが無い場合においても、プリスキャンにより概略形状データを取得して、領域設定部571により、測光処理範囲を設定することができる。
(プリスキャンで画像情報から測光処理範囲を設定する処理)
図5及び図6に示す処理では、形状データの測定開始の際に、最初に露光量変数を初期設定し、被測定対象3に対する形状測定動作を進める中で、露光量変数を更新する例について説明したが、この露光量変数と測光処理範囲とを、プリスキャンにより予め設定することもできる。
以下では、プリスキャンの画像情報から測光処理範囲と露光量変数とを予め設定する例について説明する。
図7は、プリスキャンの画像情報から測光処理範囲を設定する測定手順を示す図である。
図7において、まず、ユーザは、測定制御部56に対して、この被測定対象3をプリスキャンして概略形状(疎形状)を取得するためのプリスキャンの測定パスを設定する(ステップS201)。
測定制御部56は、設定された測定パスに従ってプリスキャンを開始し(ステップS202)、光切断プローブ(光切断センサ)2を所定のプリスキャン速度で移動させながら被測定対象3に対して測定光を照射する(ステップS203)。撮像部22は、被測定対象3に投光された測定光の画像を取得する(ステップS204)。
制御部41は、形状算出部53により、測定光の画像から測定光の位置を取得し、露出条件設定部57は、測定した画像における測定光の位置から当該測定位置の測光処理範囲(露出条件設定用領域)を設定する(ステップS205)。
次に、露出条件設定部57は、測光処理範囲内の画像データから、当該位置における露光量変数を設定し、記憶部55に位置情報と対応付けて記憶する(ステップS206)。
その後、制御部41は、ステップS207の処理に移行し、プリスキャンパスを全てトレースしたか否かを判定する(ステップS207)。
そして、制御部41は、ステップS207の処理においてプリスキャンパスを全てトレースしていないと判定された場合(ステップS207:No)、ステップS203の処理に戻り、プリスキャン動作を継続する。一方、制御部41は、ステップS207の処理においてプリスキャンパスを全てトレースしたと判定された場合(ステップS207:Yes)、プリスキャン処理を終了し、ステップS208に移行して、形状測定のための本スキャンを開始する。
そして、本スキャンが開始されると、測定制御部56は、光切断プローブ2を本スキャン開始位置に移動させる(ステップS208)。その後、測定制御部56は、測定領域内の各位置での測定を行う毎に、光切断プローブ2を画像取得位置に移動させる(ステップS209)。
次に、測定制御部56は、記憶部55を参照し、測定を行う位置に対して、プリスキャン処理において記憶部55に記憶させた測定位置と合致又は類似する位置の露出量変数(露出条件)を読み出す。そして、測定制御部56は、この露出量変数を、プローブ調整部23を介して、光切断プローブ2の撮像部22に適用する(ステップS210)。
続いて、撮像部22は、ステップS210において設定された露出量の基で、被測定対象3の測定光の画像を取得する(ステップS211)。
次に、形状算出部(点群データ生成部)53は、設定された測光処理範囲内の画像から点群データの生成処理を行う(ステップS212)。つまり、形状算出部53は、測光処理範囲の情報を入力し、この測光処理範囲内において、撮像画像から点群データを生成する処理を行う(ステップS212)。
そして、ステップS212における測光処理範囲内の画像の点群データの生成処理が完了すると、測定制御部56は、測定領域の範囲内での形状測定を完了したか否かを判定する(ステップS213)。
そして、ステップS213の判定処理において測定領域内の形状測定を完了していると判定された場合に(ステップS213:Yes)、ステップS214の処理に移行し、形状算出部53は、各測光処理範囲内で生成した点群データの合成処理を行い、被測定対象3の3次元点群データを生成する(ステップS214)。
一方、ステップS213の判定処理において測定領域内の測定を完了していないと判定された場合(ステップS213:No)、制御部41は、ステップS209の処理に戻り、次の画像取得位置に光切断プローブ2を移動させる。
この図7に示す処理を行なうことにより、プリスキャンの際に、予め測光処理範囲と露出条件を設定し、本スキャンの際に、プリスキャンで予め設定した測光処理範囲と露出条件とを利用して、被測定対象3の形状測定を行うことができる。これにより、形状測定装置100では、被測定対象3の形状測定の時間を短縮することができる。
(複雑な形状の被測定対象3を測定する場合の一例)
次に、本実施形態による形状測定装置100が、複雑な形状の被測定対象3を測定する場合の一例について説明する。
図16は、本実施形態の形状測定装置100における複雑な形状の測定例を示す図である。
この図において、形状測定装置100は、測定位置P10から測定位置P15まで光切断プローブ2をX方向に移動させて、被測定対象3の形状を測定する。なお、測定経路R2は、測定位置P10から測定位置P15までの測定を行う際の経路を示す。ここで、本実施形態の形状測定装置100では、測定制御部56は、測定位置P10から測定位置P15まで測定光(光切断線)を被測定対象3の法線に近い角度で照射するように光切断プローブ2を制御する。
そして、露出条件設定部57は、領域設定部571により、被測定対象3の設計データ(CADデータ)或いは被測定対象3をプリスキャンして得られた被測定対象3の概略構成を示す情報を基に、撮像部22(より正確には画像センサー部22A)における測光処理範囲を設定する。そして、形状算出部53は、この測光処理範囲内に含まれる画像に対してのみ点群データの生成処理を行う。これにより、形状測定装置100では、拡散光以外の光の影響による異常な点群データの混入を防ぐことができる。このため、形状測定装置100は、複雑な形状の被測定対象3に対しても精度を高めて形状測定を行うことができる。
なお、上述した形状測定装置100では、法線ベクトルを算出し、この法線ベクトルの向きとライン光の照射方向とが一致するように光切断プローブ2の姿勢を制御する例について説明した。しかしながら、本発明の形状測定装置100は、これに限定されず、例えば、図17の変形例に示すように、ライン光L1の照射方向(照射角度)と法線ベクトル方向とを一致させることなく、一定の照射角度のまままでライン光L1を測定面に照射して撮像を行う場合においても効果的に適用できるものである。
例えば、形状測定装置100が、図17に示すような複雑な形状の被測定対象3を測定する場合、次のような問題が発生する可能性がある。
例えば、光切断プローブ2の相対位置(姿勢)と画像取得条件とを測定点P10のような平面形状を測定する場合に合わせて設定すると、測定位置P8のような傾斜形状を測定する場合には、図17(a)に示すように、照明光軸L1と撮像光軸L2とを2分する角度に被測定対象3の表面が位置するため、反射光が撮像部22に入力し、被測定対象3の正しい形状測定が行えない場合がある。また、測定位置P9のような形状を測定する場合、図17(b)に示すように、測定光(光切断線)の撮像角度が大きく平坦な波形として捉えられ、撮像画像が暗くなる場合がある。
すなわち、法線ベクトルに基づいて、測定光の照射方向きを制御しない場合においては、面の傾き(法線ベクトルの方向)に応じて測定光の照射方向が変化することにより、反射光が撮像部22に入力し、被測定対象3の正しい形状測定が行えない場合があり、また、撮像画像が暗くなる場合がある。
そこで、露出条件設定部57は、領域設定部571により、被測定対象3の設計データ(CADデータ)或いは被測定対象3をプリスキャンして得られた被測定対象3の概略構成を示す情報に基づいて、撮像部22(より正確には画像センサー部22A)における測光処理範囲を設定する。形状算出部53は、この測光処理範囲内に含まれる画像に対してのみ点群データの生成処理を行う。これにより、形状測定装置100では、拡散光以外の光の影響による異常な点群データの混入を防ぐことができる。
また、露出条件設定部57は、撮像部22により受光する光量が大きく変化する場合においても、測光処理範囲内の画像の明るさに応じて、撮像部22における露光量(例えば、シャッタースピード)や、光照射部21の発光輝度を露出条件として設定することができる。これにより、測定制御部56は、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づいて光照射部21や撮像部22を制御し、最適な撮像条件を設定することができる。これにより、形状測定装置100では、複雑な形状の被測定対象3に対しても精度を高めて形状測定を行うことが可能になる。
[構造物製造システムの例]
次に、上述した形状測定装置100を備えた構造物製造システムの例について説明する。
図18は、本発明の実施形態による形状測定装置100を備える構造物製造システム200の構成を示すブロック図である。構造物製造システム200は、上述した形状測定装置100と、設計装置110と、成形装置120と、構造物製造制御装置(検査装置)150と、リペア装置140とを備える。
設計装置110は、構造物の形状に関する設計情報を作製し、作成した設計情報を成形装置120に送信する。また、設計装置110は、作成した設計情報を構造物製造制御装置150の後述する座標記憶部151に記憶させる。ここで、設計情報とは、構造物の各位置の座標を示す情報である。
成形装置120は、設計装置110から入力された設計情報に基づいて上記構造物を作製する。成形装置120の成形工程には、鋳造、鍛造、または切削等が含まれる。形状測定装置100は、作製された構造物(被測定対象3)の座標を測定し、測定した座標を示す情報(形状情報)を構造物製造制御装置150へ送信する。
構造物製造制御装置150は、座標記憶部151と、検査部152とを備える。座標記憶部151には、前述の通り、設計装置110により設計情報(例えば、前述のCAD情報)が記憶される。検査部152は、座標記憶部151から設計情報を読み出す。検査部152は、形状測定装置100から受信した座標を示す情報(形状情報)と座標記憶部151から読み出した設計情報とを比較する。
検査部152は、比較結果に基づき、構造物が設計情報通りに成形されたか否かを判定する。換言すれば、検査部152は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する。
検査部152は、構造物が設計情報通りに成形されていない場合、修復可能であるか否か判定する。修復できる場合、検査部152は、比較結果に基づき、不良部位と修復量を算出し、リペア装置140に不良部位を示す情報と修復量を示す情報とを送信する。
リペア装置140は、構造物製造制御装置150から受信した不良部位を示す情報と修復量を示す情報とに基づき、構造物の不良部位を加工する。
図19は、構造物製造システム200による処理の流れを示したフローチャートである。
まず、設計装置110が、構造物の形状に関する設計情報を作製する(ステップS301)。次に、成形装置120は、設計情報に基づいて上記構造物を作製する(ステップS302)。次に、形状測定装置100は、作製された上記構造物の形状を測定する(ステップS303)。次に、構造物製造制御装置150の検査部152は、形状測定装置100で得られた形状情報と、上記設計情報とを比較することにより、構造物が設計情報通りに作成されたか否か検査する(ステップS304)。
次に、構造物製造制御装置150の検査部152は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する(ステップS305)。作成された構造物が良品である場合(ステップS305;YES)、構造物製造システム200はその処理を終了する。一方、作成された構造物が良品でない場合(ステップS305;NO)、構造物製造制御装置150の検査部152は、作成された構造物が修復できるか否か判定する(ステップS306)。
作成された構造物が修復できると検査部152が判断した場合(ステップS306;YES)、リペア装置140は、構造物の再加工を実施し(ステップS307)、ステップS303の処理に戻る。一方、作成された構造物が修復できないと検査部152が判断した場合(ステップS306;NO)、構造物製造システム200はその処理を終了する。以上で、本フローチャートの処理を終了する。
以上により、上記の形状測定装置100は、被測定対象3の形状測定を行う際に、拡散光以外の光の影響による異常な点群データが混入することを回避できるので、上記の構造物製造システム200は、作成された構造物が良品であるか否かを正確に判定することができる。また、構造物製造システム200は、構造物が良品でない場合、構造物の再加工を実施し、修復することができる。
(1)なお、上記実施形態において、形状測定装置100は、被測定対象3の測定領域に測定光を投光する光照射部21と、被測定対象3の測定領域に投光された測定光(ライン光)の像を撮像する撮像部22と、光照射部21及び撮像部22を被測定対象3に対して相対的に移動するように構成された駆動部11と、被測定対象3の形状データを記憶する記憶部55と、被測定対象3の形状データと測定光が照射されている測定領域の位置情報に基づいて、撮像部22で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定する露出条件設定部57と、露出条件設定部57により設定された露出条件に基づき、撮像部22又は光照射部21を制御する測定制御部56と、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状算出部とを備える。
このような構成の形状測定装置100では、光照射部21により、被測定対象3の表面に測定光(ライン光)を投光し、撮像部22により、測定領域に投光された測定光の像を撮像する。駆動部11は、光照射部21及び撮像部22を被測定対象3に対して相対的に移動するように構成される。記憶部55は、被測定対象3の形状データを記憶する。
露出条件設定部57は、被測定対象3の形状データと測定光が照射されている測定領域の位置情報に基づいて、撮像部22で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定し、測定制御部56は、設定された露出条件に基づき、撮像部22又は光照射部21を制御する。そして、形状算出部53は、設定された露出条件で得られた画像データから被測定対象3の形状を算出する。
これにより、形状測定装置100は、被測定対象3の3次元形状測定を行う際に、拡散光以外の光の影響により異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことを回避できる。このため、形状測定装置100は、複雑な形状の被測定対象3に対して精度を高めて形状測定を行うことができる。
(2)また、上記実施形態において、露出条件設定部57は、測定領域の位置に応じて、撮像部22で取得される画像データの撮像範囲の中から露出条件設定領域を設定する領域設定部571を更に有し、領域設定部571で設定された露出条件設定用領域(測光処理範囲)の中での画像の明るさに基づき、露出条件を設定する。
このような構成の形状測定装置100であれば、露出条件設定部57は、領域設定部571を有し、この領域設定部571は、測定領域の位置に応じて、撮像部22における露出条件を設定するための露出条件設定用領域(測光処理範囲)を画像データの撮像範囲の中から設定する。そして、露出条件設定部57は、領域設定部571で設定された測光処理範囲の中での画像の明るさに基づき、露出条件を設定する。
これにより、形状測定装置100では、撮像部22における露出条件を設定するための露出条件設定用領域(測光処理範囲)を画像データの撮像範囲の中から設定し、この測光処理範囲の中での画像の明るさに基づき、露出条件を設定することができる。
(3)また、上記実施形態において、記憶部55は、被測定対象3の概略形状を示す3次元形状データを記憶する。領域設定部571は、記憶部55に記憶された3次元形状データに基づいて、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置を推定し、この推定した位置を含み、推定した位置から予め定められる所定の範囲を露出条件設定用領域とする。
このような構成の形状測定装置100であれば、領域設定部571は、被測定対象3の概略形状を示す3次元形状データに基づいて、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置を推定する。そして、領域設定部571は、この推定した測定光(ライン光)の像の位置から所定の範囲の領域を露出条件設定用領域(測光処理範囲)として定める。
これにより、形状測定装置100は、被測定対象3の概略形状を示す3次元形状データに基づいて、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置を推定し、測定光(ライン光)を検出する露出条件設定用領域(測光処理範囲)を設定することができる。
(4)また、上記実施形態において、領域設定部571は、3次元形状データに基づいて撮像部22の撮像面上において、被測定対象3に投光された測定光の像のうち、被測定対象3の表面を複数回反射することで形成される像の位置が露出条件設定用領域に含まれないように露出条件設定用領域を定める。
このような構成の形状測定装置100であれば、領域設定部571は、3次元形状データに基づいて、多重反射光による画像が検出されないよう露出条件設定用領域(測光処理範囲)を設定することができる。
(5)また、上記実施形態において、領域設定部571は、測定領域の位置毎に、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置を検出し、測定光の像の位置に応じて、露出条件設定用領域を定める。
これにより、領域設定部571は、測定領域の測定位置ごとに、測定光の像の位置に応じて、露出条件設定用領域(測光処理範囲)を設定することができる。
(6)また、上記実施形態において、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域(測光処理範囲)の中での画像の明るさに基づき、撮像部22の撮影感度を設定する。
このような構成の形状測定装置100であれば、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域(測光処理範囲)内の画像の明るさに基づいて、撮像部22の撮影感度を調整する。つまり、露出条件設定部57は、撮像部22における撮影感度を設定する場合に、露出条件設定用領域(測光処理範囲)外の画像を除外し、露出条件設定用領域内の画像のみに基づいて撮影感度を設定する。
これにより、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域(測光処理範囲)の中での画像の明るさに基づき、撮像部22の撮影感度を最適に設定することができる。
(7)また、上記実施形態において、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、光照射部21からの測定光の光量を調整する。
このような構成の形状測定装置100であれば、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域(測光処理範囲)内の画像の明るさに基づいて、光照射部21から被測定対象3に投光させる光量を調整する。つまり、露出条件設定部57は、光照射部21における光量(光源輝度)を設定する場合に、露出条件設定用領域(測光処理範囲)外の画像を除外し、露出条件設定用領域内の画像のみに基づいて光量を設定する。例えば、測定制御部56は、LEDやSLDの発光量を制御して、光量を設定する。
これにより、形状測定装置100では、露出条件設定用領域(測光処理範囲)内の画像の検出結果に基づいて、光照射部21における最適な光量を計算し、それに応じた光照射部21の光量を最適に調整することができる。
(8)また、上記実施形態において、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、撮像部22の露光時間を設定する。
このような構成の形状測定装置100であれば、露出条件設定部57は、露出条件設定用領域(測光処理範囲)内の画像の明るさに基づいて、撮像部22の露光時間(露出時間)を設定する。つまり、露出条件設定部57は、撮像部22における露光時間を、測光処理範囲(露出条件設定用領域)外の画像を除外し、測光処理範囲内の画像の明るさに基づいて露光時間を設定する。
これにより、露出条件設定部57では、測光処理範囲内の画像の明るさに基づいて、撮像部22における最適な露光時間を計算し、それに応じた撮像部22の露光時間を調整することができる。
(9)また、上記実施形態において、形状算出部53は、測定制御部56によって設定された露出条件で撮像部22が制御されたときの画像データのうち、露出条件設定用領域(測光処理範囲)で設定された領域内での画像データに基づき、測定領域における被測定対象3の形状を示す点群データを生成する。
このような構成の形状算出部53であれば、形状算出部53は、露出条件設定部57により設定された露出条件で撮像された画像において、測光処理範囲(露出条件設定用領域)内の画像に対して点群データを生成する。
これにより、形状測定装置100は、被測定対象3の3次元形状測定を行う際に、拡散光以外の光の影響により異常な点群データが混入し、正常な形状データの取得ができないことを回避できる。
(10)また、上記実施形態において、形状測定装置100は、光照射部21と撮像部22の相対位置関係を一定に保持しながら、被測定対象3と光照射部21とを相対的に移動するように補正制御情報を駆動制御部54に供給し、駆動制御部54を介して駆動部11を制御する相対移動制御部562を更に備え、形状算出部53は、光照射部21と撮像部22の相対位置関係と、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置に基づいて、被測定対象3の形状を示す点群データを生成する。
このような構成の形状測定装置100であれば、相対移動制御部562は、光照射部21と撮像部22の相対位置関係を一定に保持し、被測定対象3と光照射部21とを相対的に移動させる。つまり、相対移動制御部562は、光切断プローブ2がライン光(測定光)を検出する際の相対位置(被測定対象3に対する光切断プローブ2の測定位置及び姿勢)が一定になるよう光切断プローブ2を制御する。そして、形状算出部53は、光照射部21と撮像部22の相対位置関係と、撮像部22の撮像面上における測定光の像の位置に基づいて、被測定対象3の形状を示す点群データを生成する。
これにより、形状測定装置100は、三角測量の原理を用いて、被測定対象3の形状を示す点群データを容易に生成することができる。
(11)記憶部55は、形状算出部53によって生成された点群データを形状データとして記憶する。
これにより、形状測定装置100は、形状算出部53によって生成された点群データを形状データとして記憶することから、被測定対象3の形状を示す形状データを点群データを基に容易に生成することができる。なお、記憶部55は、形状算出部53によって生成された点群データに代え、点群データから算出されるポリゴンデータを形状データとして記憶してもよい。
(12)相対移動制御部562は、記憶部55で記憶された形状データを基に、光照射部21から被測定対象3の測定領域に測定光を投影する方向を測定領域の法線方向に対してほぼ一定の関係を維持するように被測定対象3と光照射部21とを相対的に移動させるように駆動部11を制御する。
これにより、形状測定装置100は、記憶部55で記憶された形状データを基に、光照射部21から被測定対象3の測定領域に測定光を投影する方向を測定領域の法線方向に対してほぼ一定の関係を維持するように被測定対象3と光照射部21とを相対的に移動させることができる。
(13)また、上記実施形態において、光照射部21から投光される測定光の明るさの分布は、ライン状の分布を有しており、かつ測定制御部56は、ライン状の分布の短手方向に沿って、光照射部21を被測定対象3に対して相対的に移動するように制御する一方、測定領域の変更に伴い撮像部22による露出開始を制御する。
これにより、測定制御部56は、ライン状の分布の短手方向に沿って、光照射部21を被測定対象3に対して相対的に移動させることができるとともに、測定領域の位置に応じて、撮像部22による撮像動作を制御することができる。
(14)また、上記実施形態において、構造物製造システム200は、構造物の形状に関する構造物設計情報を作製する設計装置110と、構造物設計情報に基づいて構造物を作製する成形装置120と、作成された構造物の形状を、撮像画像に基づいて測定する形状測定装置100と、測定によって得られた形状情報と、構造物設計情報とを比較する検査装置(構造物製造制御装置150)とを含む。
これにより、構造物製造システム200は、形状測定装置100により被測定対象3の形状測定を行う際に、精度を高めて形状測定を行うことができるので、構造物製造システム200は、作成された構造物が良品であるか否かを正確に判定することができる。
以上、本発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
また、上記の実施形態の形状測定装置100において、制御部41の各部は専用のハードウェアにより実現されるものであってもよく、また、メモリ及びCPU(Central Processing Unit)を備えて、プログラムによって実現されてもよい。
また、上述の形状測定装置100は内部に、コンピュータシステムを有している。そして、上述した被測定対象3の形状を測定する処理過程は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータが読み出して実行することによって、上記処理が行われる。ここでコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、半導体メモリ等をいう。また、このコンピュータプログラムを通信回線によってコンピュータに配信し、この配信を受けたコンピュータが当該プログラムを実行するようにしてもよい。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明の形状測定装置、及び構造物製造システムは、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
2 光切断プローブ、3 被測定対象、13 回転機構、14 ヘッド駆動部、21 光照射部、22 撮像部、4 制御装置、41 制御部、51 座標検出部、52 間隔調整部、53 形状算出部、54 駆動制御部、55 記憶部、
551 形状記憶部、552 経路記憶部、553 CADデータ記憶部、
56 測定制御部、561 法線算出部、562 相対移動制御部、
57 露出条件設定部、571 領域設定部(露出条件設定用領域設定部)、
100 形状測定装置、110 設計装置、120 成形装置、140 リペア装置、
150 構造物製造制御装置(検査装置)、151 座標記憶部、152 検査部、
200 構造物製造システム

Claims (18)

  1. 被測定対象の測定領域に測定光を投光する光照射部と、
    前記被測定対象の測定領域に投光された測定光の像を撮像する撮像部と、
    前記光照射部及び前記撮像部を前記被測定対象に対して相対的に移動するように構成された駆動部と、
    前記被測定対象の形状データを記憶する記憶部と、
    前記被測定対象の形状データと前記測定光が照射されている測定領域の位置情報に基づいて、前記撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定する露出条件設定部と、
    前記露出条件設定部により設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は前記光照射部を制御する測定制御部と、
    前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状算出部と
    を備える形状測定装置。
  2. 前記露出条件設定部は、前記測定領域の位置に応じて、前記撮像部で取得される画像データの撮像範囲の中から露出条件設定用領域を設定する露出条件設定用領域設定部を更に有し、
    前記露出条件設定用領域設定部で設定された前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記露出条件を設定する請求項1に記載の形状測定装置。
  3. 前記記憶部は、前記被測定対象の概略形状を示す3次元形状データを記憶し、
    前記露出条件設定用領域設定部は、
    前記記憶部に記憶された3次元形状データに基づいて、前記撮像部の撮像面上における前記測定光の像の位置を推定し、前記推定した位置を含み、前記推定した位置から予め定められる所定の範囲を前記露出条件設定用領域とする
    請求項2に記載の形状測定装置。
  4. 前記露出条件設定用領域設定部は、
    前記3次元形状データに基づいて前記撮像部の撮像面上において、前記被測定対象に投光された前記測定光の像のうち、前記被測定対象の表面を複数回反射することで形成される像の位置が前記露出条件設定用領域に含まれないように前記露出条件設定用領域を定める
    請求項3に記載の形状測定装置。
  5. 前記露出条件設定用領域設定部は、
    前記測定領域の位置毎に、前記撮像部の撮像面上における前記測定光の像の位置を検出し、前記測定光の像の位置に応じて、前記露出条件設定用領域を定める
    請求項2に記載の形状測定装置。
  6. 前記露出条件設定部は、
    前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記撮像部の撮影感度を設定する
    請求項2に記載の形状測定装置。
  7. 前記露出条件設定部は、
    前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記光照射部からの前記測定光の光量を調整する
    請求項2に記載の形状測定装置。
  8. 前記露出条件設定部は、
    前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記撮像部の露光時間を設定する
    請求項2に記載の形状測定装置。
  9. 前記形状算出部は、
    前記測定制御部によって設定された露出条件で前記撮像部が制御されたときの画像データのうち、前記露出条件設定用領域で設定された領域内での画像データに基づき、前記測定領域における前記被測定対象の形状を示す点群データを生成する
    請求項2から8の何れか1項に記載の形状測定装置。
  10. 前記光照射部と前記撮像部の相対位置関係を一定に保持しながら、前記被測定対象と前記光照射部とを相対的に移動させるように前記駆動部を制御する相対移動制御部を更に備え、
    前記形状算出部は、前記光照射部と前記撮像部の相対位置関係と、前記撮像部の撮像面上における前記測定光の像の位置に基づいて、前記被測定対象の形状を示す点群データを生成する
    請求項1から8の何れか1項に記載の形状測定装置。
  11. 前記記憶部は、前記形状算出部によって生成された点群データを前記形状データとして記憶する
    請求項10に記載の形状測定装置。
  12. 前記相対移動制御部は、前記記憶部で記憶された形状データを基に、前記光照射部から前記被測定対象の測定領域に測定光を投影する方向を前記測定領域の法線方向に対してほぼ一定の関係を維持するように前記被測定対象と前記光照射部とを相対的に移動させるように前記駆動部を制御する
    請求項10又は請求項11に記載の形状測定装置。
  13. 前記光照射部から投光される測定光の明るさの分布は、ライン状の分布を有しており、かつ前記測定制御部は、前記ライン状の分布の短手方向に沿って、前記光照射部を前記被測定対象に対して相対的に移動するように制御する一方、前記測定領域の変更に伴い前記撮像部による露出開始を制御する
    請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の形状測定装置。
  14. 構造物の形状に関する構造物設計情報を作成する設計装置と、
    前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作成する成型装置と、
    作成された前記構造物の形状を、撮像画像に基づいた測定により形状情報を得る
    請求項1から13の何れかに記載の形状測定装置と、
    前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較する検査装置と、
    を含む構造物製造システム。
  15. 被測定対象の形状の測定を制御する過程として、
    前記被測定対象の測定領域に光照射部からの測定光を投光できる位置に前記光照射部を移動し、
    前記測定領域の位置に基づいて、撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定し、
    前記被測定対象の測定領域に前記光照射部から前記測定光を投光し、
    前記設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は前記光照射部を制御した状態で、前記被測定対象の測定領域に投光された前記測定光の像を前記撮像部により撮像し、
    前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出する形状測定方法。
  16. 前記撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件は、
    前記撮像部で取得される画像データのうち、前記測定領域の位置に応じて、露出条件設定用領域を前記画像データの撮像範囲の中から設定し、
    前記設定された前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記露出条件を設定することで前記露出条件が設定される請求項15に記載の形状測定方法。
  17. 形状測定装置を制御するコンピュータに、
    被測定対象の形状の測定を制御するステップとして、
    前記被測定対象の概略形状を記憶するステップと、
    前記被測定対象の測定領域に光照射部からの測定光が投光されるように前記光照射部を移動するステップと、
    前記測定光が投光される前記測定領域の位置に基づいて、撮像部で取得される画像データを撮像するときの露出条件を設定するステップと、
    前記設定された露出条件に基づき、前記撮像部又は光照射部を制御するステップと、 前記被測定対象の測定領域に前記光照射部から測定光を投光するステップと、
    前記被測定対象の測定領域に投光された測定光の像を撮像部により撮像するステップと、前記撮像部から取得された画像データに基づき、前記測定領域の形状を算出するステップと、
    を実行させるためのプログラム。
  18. 前記撮像部で取得される画像データのうち、前記測定領域の位置に応じて、露出条件設定用領域を前記画像データの撮像範囲の中から設定するステップと、
    前記設定された前記露出条件設定用領域の中での画像の明るさに基づき、前記露出条件を設定するステップと、
    を更に実行させるための請求項17に記載のプログラム。
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