JP2014152351A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014152351A JP2014152351A JP2013021518A JP2013021518A JP2014152351A JP 2014152351 A JP2014152351 A JP 2014152351A JP 2013021518 A JP2013021518 A JP 2013021518A JP 2013021518 A JP2013021518 A JP 2013021518A JP 2014152351 A JP2014152351 A JP 2014152351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- roll
- film forming
- main roll
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】減圧チャンバー内で帯状基材の両面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、巻出ロールと、搬送部と、薄膜形成部と、巻取ロールと、メインチャンバと、第1サブチャンバと、第2サブチャンバとを備え、搬送部は、第1メインロールと第2メインロールとを備え、第1メインロールと第2メインロールとは、異なる高さで配置されており、薄膜形成部は、第1薄膜形成部と第2薄膜形成部とを備え、第1薄膜形成部は、第1ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されており、第2薄膜形成部は、第2ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されていることを特徴とする、薄膜形成装置である。
【選択図】図1
Description
このような形態では、薄膜を形成する材料以外の異物が落下して、基材の表面に付着することにより、均一な薄膜形成ができないという課題があった。
減圧チャンバー内で帯状基材の両面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、
薄膜形成前の帯状基材を巻き出す巻出ロールと、
帯状基材を搬送する搬送部と、
帯状基材の表面に薄膜を形成する薄膜形成部と、
薄膜形成後の帯状基材を巻き取る巻取ロールと、
薄膜形成部を収容するメインチャンバと、
前記巻出ロールを収容する第1サブチャンバと、
前記巻取ロールを収容する第2サブチャンバとを備え、
前記搬送部は、第1メインロールと第2メインロールとを備え、
第1メインロールと第2メインロールとは、異なる高さで配置されており、
前記薄膜形成部は、第1薄膜形成部と第2薄膜形成部とを備え、
前記第1薄膜形成部は、前記第1ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されており、
前記第2薄膜形成部は、前記第2ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されていることを特徴とする、薄膜形成装置である。
前記搬送部には、前記第1メインロールと前記第2メインロールとの間に揺動ロールを備え、
前記揺動ロールは、
前記第1メインロールの外周面と前記第2メインロールの外周面より外側であって、
前記第1メインロールの外周面と前記第2メインロールの外周面に共通する外接平面よりも内側に配置されている
ことを特徴とする、第1の発明に係る薄膜形成装置である。
前記第1薄膜形成部及び前記第2薄膜形成部は、
成膜チャンバーと、成膜チャンバーをプラズマ発生室と成膜室とに区分けする導電性のメッシュ材とを備え、
プラズマ発生室には、高周波発生部と、原料ガスを導入する原料ガス導入部を備え、
成膜室には、成膜用の反応ガスを導入する反応ガス導入部を備えた
ことを特徴とする、第1の発明又は第2の発明に係る薄膜形成装置である。
前記第1メインロールは、前記第2メインロールより高い位置で平行に配置されており、
前記巻出ロールは、前記第1メインロールの側方であって、前記第2メインロールよりも上方に配置されており、
前記巻取ロールは、前記第2メインロールの側方であって、前記第1メインロールよりも下方に配置されている
ことを特徴とする、第1の発明〜第3の発明のいずれかに係る薄膜形成装置である。
前記第2メインロールは、前記第1メインロールより高い位置で平行に配置されており、
前記巻出ロールは、前記第1メインロールの側方であって、前記第2メインロールよりも下方に配置されており、
前記巻取ロールは、前記第2メインロールの側方であって、前記第1メインロールよりも上方に配置されている
ことを特徴とする、第1の発明〜第3の発明のいずれかに係る薄膜形成装置である。
図1は、本発明を具現化する形態の一例を示す断面図である。
薄膜形成装置1は、薄膜形成部2と、搬送部3と、巻出ロール4と、巻取ロール5と、第1サブチャンバ6と、第2サブチャンバ7と、メインチャンバ10とを備えている。メインチャンバ10は、薄膜形成部2と搬送部3とを収容しており、減圧調節弁を介して真空ポンプと接続されている。
図2は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す断面図であり、薄膜形成装置1bの概略を示している。
本発明に係る薄膜形成装置1bは、上述した薄膜形成装置1と基本構成を共通にしつつ、
、搬送部3は、第1メインロール31と第2メインロール36との間に、揺動ロールR3を備えた構成としている。このとき、シートSは、符号S’で示す位置に架け渡される。そして、揺動ロールR3は、シートSの厚み方向(図2のレイアウトであればY方向やZ方向)に揺動できるような構成をしている。
本発明は、図3に示すような、薄膜形成部2がプラズマCVD方式の薄膜形成装置1bに適用することが好ましい。
図3は、本発明を具現化する形態のさらに別の一例を示す断面図であり、プラズマCVD方式の薄膜形成装置1cの概略を示している。
以下、プラズマCVD方式による薄膜形成部2について、詳細を述べる。
本発明に係る薄膜形成装置1cは、図3に示すように、以下の形態とすることが好ましい。つまり、第1メインロール31は、第2メインロール36より高い位置で平行に配置されており、巻出ロール4は、第1メインロール31の側方であって、第2メインロール36よりも上方に配置されており、巻取ロール5は、第2メインロール36の側方であって、第1メインロール31よりも下方に配置されている。
本発明に係る薄膜形成装置1dは、上述した薄膜形成装置1cと基本構成を共通にしつつ、細部が相違する構成としても良い。
図4は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す断面図である。
薄膜形成装置1dは、薄膜形成部2と、搬送部3と、巻出ロール4と、巻取ロール5と、第1サブチャンバ6と、第2サブチャンバ7と、メインチャンバ10とを備えている。メインチャンバ10は、薄膜形成部2と搬送部3とを収容しており、減圧調節弁を介して真空ポンプと接続されている。つまり、薄膜形成装置1cの各部2〜7,10の基本構成は、薄膜形成装置1cと同様である。
1b 薄膜形成装置
1c 薄膜形成装置
1d 薄膜形成装置
2 薄膜形成部
2A 第1薄膜形成部
2B 第2薄膜形成部
3 搬送部
4 巻出ロール
5 巻取ロール
6 第1サブチャンバ(巻出側)
7 第2サブチャンバ(巻取側)
10 メインチャンバ
20 成膜チャンバ
21 原料ガス導入部
22 高周波発生部
23 メッシュ材
24 反応ガス導入部
201 プラズマ発生室
202 成膜室
25 成膜チャンバ
26 原料ガス導入部
27 高周波発生部
28 メッシュ材
29 反応ガス導入部
251 プラズマ発生室
252 成膜室
31 第1メインロール
31f 外周面
31v 矢印(回転方向)
32 回転軸
33 駆動モータ
34 冷却区間
36 第2メインロール
36f 外周面
36v 矢印(回転方向)
37 回転軸
38 駆動モータ
39 冷却区間
41 回転軸
42 回転モータ
43 矢印
51 回転軸
52 回転モータ
53 矢印
61 開口部
62 ゲート開閉部
71 開口部
72 ゲート開閉部
S シート(帯状基材,長尺のフィルムシート)
s1 シートSの表面
s2 シートSの裏面
Sv 矢印(シート搬送方向)
R1 サブロール
R2 サブロール
R3 揺動ロール
TF1 外接平面
TF2 外接平面
RE 領域
Claims (5)
- 減圧チャンバー内で帯状基材の両面に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、
薄膜形成前の帯状基材を巻き出す巻出ロールと、
帯状基材を搬送する搬送部と、
帯状基材の表面に薄膜を形成する薄膜形成部と、
薄膜形成後の帯状基材を巻き取る巻取ロールと、
薄膜形成部を収容するメインチャンバと、
前記巻出ロールを収容する第1サブチャンバと、
前記巻取ロールを収容する第2サブチャンバとを備え、
前記搬送部は、第1メインロールと第2メインロールとを備え、
第1メインロールと第2メインロールとは、異なる高さで配置されており、
前記薄膜形成部は、第1薄膜形成部と第2薄膜形成部とを備え、
前記第1薄膜形成部は、前記第1ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されており、
前記第2薄膜形成部は、前記第2ロールの外周面の重力下方若しくは側方に配置されていることを特徴とする、薄膜形成装置。 - 前記搬送部には、前記第1メインロールと前記第2メインロールとの間に揺動ロールを備え、
前記揺動ロールは、
前記第1メインロールの外周面と前記第2メインロールの外周面より外側であって、
前記第1メインロールの外周面と前記第2メインロールの外周面に共通する外接平面よりも内側に配置されている
ことを特徴とする、請求項1に記載の薄膜形成装置。 - 前記第1薄膜形成部及び前記第2薄膜形成部は、
成膜チャンバーと、成膜チャンバーをプラズマ発生室と成膜室とに区分けする導電性のメッシュ材とを備え、
プラズマ発生室には、高周波発生部と、原料ガスを導入する原料ガス導入部を備え、
成膜室には、成膜用の反応ガスを導入する反応ガス導入部を備えた
ことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の薄膜形成装置。 - 前記第1メインロールは、前記第2メインロールより高い位置で平行に配置されており、
前記巻出ロールは、前記第1メインロールの側方であって、前記第2メインロールよりも上方に配置されており、
前記巻取ロールは、前記第2メインロールの側方であって、前記第1メインロールよりも下方に配置されている
ことを特徴とする、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の薄膜形成装置。 - 前記第2メインロールは、前記第1メインロールより高い位置で平行に配置されており、
前記巻出ロールは、前記第1メインロールの側方であって、前記第2メインロールよりも下方に配置されており、
前記巻取ロールは、前記第2メインロールの側方であって、前記第1メインロールよりも上方に配置されている
ことを特徴とする、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013021518A JP6153243B2 (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013021518A JP6153243B2 (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014152351A true JP2014152351A (ja) | 2014-08-25 |
JP6153243B2 JP6153243B2 (ja) | 2017-06-28 |
Family
ID=51574520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013021518A Expired - Fee Related JP6153243B2 (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6153243B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180048440A (ko) * | 2015-09-02 | 2018-05-10 | 가부시키가이샤 아루박 | 워크 유지체 및 성막장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59173268A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜形成装置 |
JPS6192431A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
WO2008026242A1 (fr) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Youtec Co., Ltd. | Appareil de dépôt chimique en phase vapeur et procédé de formation de films minces mettant en œuvre un tel appareil |
JP2009293124A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-12-17 | Acktar Ltd | 薄層構造(thin−layeredstructure) |
-
2013
- 2013-02-06 JP JP2013021518A patent/JP6153243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59173268A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜形成装置 |
JPS6192431A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
WO2008026242A1 (fr) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Youtec Co., Ltd. | Appareil de dépôt chimique en phase vapeur et procédé de formation de films minces mettant en œuvre un tel appareil |
JP2009293124A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-12-17 | Acktar Ltd | 薄層構造(thin−layeredstructure) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180048440A (ko) * | 2015-09-02 | 2018-05-10 | 가부시키가이샤 아루박 | 워크 유지체 및 성막장치 |
KR102677010B1 (ko) * | 2015-09-02 | 2024-06-24 | 가부시키가이샤 아루박 | 워크 유지체 및 성막장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6153243B2 (ja) | 2017-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6360882B2 (ja) | フレキシブル基板のための堆積プラットフォーム及びその操作方法 | |
US8821638B2 (en) | Continuous deposition apparatus | |
TWI619827B (zh) | 用於沈積薄膜於基板上的設備及沈積薄膜於其上的方法 | |
TWI620828B (zh) | 沉積設備及方法 | |
JP5659807B2 (ja) | ロール・トゥ・ロール方式真空両面成膜装置および両面金属ベース層付樹脂フィルム製造装置 | |
JP5516388B2 (ja) | ガス導入機構を備えたキャンロールおよびこれを用いた長尺基板の処理装置ならびに処理方法 | |
KR101938874B1 (ko) | 고품질 그래핀 합성을 위한 열처리 장비 | |
JP2011042848A (ja) | 成膜装置 | |
JP2009209381A (ja) | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 | |
EP3287543B1 (en) | Roll-to-roll type treatment apparatus for long base material and deposition apparatus using the same | |
JP6153243B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP6508080B2 (ja) | キャンロールと長尺体の処理装置および処理方法 | |
JP5488477B2 (ja) | キャンロール、長尺樹脂フィルム基板の処理装置及び処理方法 | |
JP5888154B2 (ja) | ガス放出機構付きキャンロール及びそれを備えた長尺基板の処理装置及び処理方法 | |
JP4591080B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP2017110240A (ja) | 長尺フィルムの成膜方法及び成膜装置 | |
JP5527186B2 (ja) | ガス導入機構を備えた長尺基板処理装置および処理方法 | |
JP6269385B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 | |
JP6201162B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 | |
JP6249606B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP6217621B2 (ja) | ガス放出機構を備えたキャンローラ並びにこれを用いた長尺基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2007284765A (ja) | 基板トレイ、および成膜装置 | |
TW202334472A (zh) | 用於將材料沉積到薄膜基板上的真空處理系統、用於在真空條件下傳輸薄膜基板的設備和方法 | |
JP2012193438A (ja) | 成膜方法 | |
JP7286477B2 (ja) | 薄膜形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160818 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170330 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170529 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6153243 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |