JP2014132638A - スーパージャンクション構造の縦型mosfetを有する半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n-型層12に凹部12aを形成しておき、トレンチ15を埋め込むようにp-型層16を形成する際に、凹部12a内も埋め込む。これにより、p-型層16のうち凹部12a内に形成された部分をSJ構造の上に形成されるp型層として用いることができる。このため、p型カラムを形成するためのp型層とSJ構造の上に形成されるp型層を同じp-型層16によって構成することができ、同時に形成することができるので、製造工程の簡略化を図ることができる。また、SJ構造を構成してからSJ構造の上のp型層を形成する場合のように、PNカラムの表面の平坦化研磨やウェハ洗浄などのPNカラムの表面とp-型層16との構造間の処理を行う必要がない。よって、半導体装置の耐圧がばらつくことを抑制でき、デバイス特性の悪化を抑制することが可能となる。
【選択図】図2
Description
本発明の第1実施形態にかかる半導体装置の製造方法について、図1および図2を参照して説明する。なお、ここではSJ構造の縦型MOSFETとして、トレンチゲート型の縦型MOSFETを備えた半導体装置を例に挙げて説明する。
表面11aおよび裏面11bを有する半導体材料で構成された基板としてのn+型シリコン基板11の表面11aに、第1半導体層に相当するn-型層12をエピタキシャル成長させた半導体基板10を用意する。n+型シリコン基板11は、ドレイン領域として機能する部分であり、n-型層12よりもn型不純物濃度が高くされている。n-型層12は、ドリフト層として機能と共にPNカラムにおけるn型カラムを構成する部分である。
半導体基板10の表面側において、n-型層12の表面にCVD(Chemical Vapor Deposition)法や熱酸化などによって酸化膜13を形成する。その後、酸化膜13の上に図示しないレジストを配置し、フォトリソグラフィ工程を経て、縦型MOSFETなどを形成してチップとして利用するメイン領域においてレジストを開口させると共に、スクライブ領域においてもレジストを開口させる。このとき、メイン領域とスクライブ領域の境界位置についてはレジストが残るようにしている。次いで、エッチング工程を行い、レジストの開口位置において酸化膜13を開口させる。
再び、半導体基板10の表面側において、n-型層12を覆うようにCVD法や熱酸化などによって酸化膜14を0.2〜0.3μmの厚みで形成する。その後、酸化膜14の上に図示しないレジストを配置し、フォトリソグラフィ工程を経てトレンチ形成予定位置においてレジストを開口させると共にその開口位置において酸化膜14を開口させる。そして、レジストを除去し、酸化膜14をマスクとして、RIEやBOSCH法などの異方性エッチングを行う。具体的には、凹部12a内において、n-型層12を所定深さ、例えばn-型層12の厚みと同等もしくはそれよりも若干浅くエッチングする。これにより、n-型層12の所望位置にSJ構造形成用の例えばストライプ状とされたトレンチ15が形成される。
酸化膜14のうちトレンチ15から離れた位置に形成されている部分については残し、トレンチ15の開口部周辺に配置されている部分、具体的には凹部12a内に形成されている部分については除去する。
まず、p-型層16のうち酸化膜14よりも半導体基板10から突き出した部分、すなわちn-型層12に形成された凹部12a以外の凸状部分から突き出した部分をCMP(Chemical Mechanical Polishing)などの表面の平坦化研磨によって除去する。このときには、研磨対象となるp-型層16と異なる酸化膜14を終点検出用のストッパとして用いることができるため、精度良く平坦化研磨を停止できる。
この後の工程については従来と同様であるが、例えば以下の製造工程を行っている。すなわち、n型カラムを構成するn-型層12の上におけるp-型層16の表層部にp型不純物をイオン注入してp-型チャネル層17を形成する。また、p-型チャネル層17の表層部にn型不純物をイオン注入してn+型ソース領域18を形成する。このとき、必要に応じて、メイン領域の外縁部において凸状に残された部分にもn型不純物をイオン注入し、n+型層27を形成することで、n-型層12との導通を図ることができ、このn+型層27を通じてn-型層12を所定電位に固定することができる。
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して半導体装置に形成される縦型MOSFETをプレーナ型に変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第2実施形態に対して半導体装置の外周耐圧構造を考慮に入れた製造方法としたものであり、その他については第2実施形態と同様であるため、第2実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
11 n+型シリコン基板(基板)
12 n-型層(第1半導体層)
12a〜12c 凹部
13、14 酸化膜(マスク)
15 トレンチ
16 p-型層
17 p型チャネル層
18 n+型ソース領域
23 ゲート電極
24 層間絶縁膜
25 ソース電極
26 ドレイン電極
30 n型接続層
Claims (12)
- 半導体材料で構成された基板(11)の表面(11a)側に、第1導電型の第1半導体層(12)が形成された半導体基板(10)を用意する工程と、
前記第1半導体層のうち縦型MOSFETを形成してチップとして用いるメイン領域の少なくとも一部を含むように第1凹部(12a)を形成することで、前記第1半導体層に段差を付ける工程と、
前記第1凹部内を含めて前記第1半導体層の上にマスク(14)を配置し、該マスクを用いて前記メイン領域における前記第1凹部内において、前記第1半導体層をエッチングすることでトレンチ(15)を形成する工程と、
前記マスクのうちの少なくとも前記第1凹部内に形成されている部分を除去したのち、前記トレンチ内および前記第1凹部内を埋め込みつつ前記第1半導体層の上に、第2導電型の第2半導体層(16)をエピタキシャル成長させる工程と、
前記第2半導体層を平坦化研磨することで、前記第2半導体層を前記トレンチおよび前記第1凹部に残し、前記トレンチ内に残された前記第2半導体層による第2導電型カラムと前記第1半導体層による第1導電型カラムとが交互に繰り返されたPNカラムを有するスーパージャンクション構造を形成する工程と、
前記スーパージャンクション構造の上に、第1導電型のチャネル層(17)と該チャネル層に接する第2導電型のソース領域(18)を形成すると共に、前記チャネル層の表面にゲート絶縁膜(22)を介してゲート電極(23)を形成し、さらに前記半導体基板の表面側に前記ソース領域に電気的に接続されるソース電極(25)を形成すると共に、前記半導体基板の裏面側に前記基板の裏面に接続されるドレイン電極(26)を形成することで縦型MOSFETを形成する工程と、を含んでいることを特徴とするスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。 - 前記段差を付ける工程では、前記メイン領域とダイシング時にカットされるスクライブ領域との境界位置まで前記第1凹部を形成し、前記メイン領域と前記スクライブ領域の間に段差を付けることを特徴とする請求項1に記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。
- 前記段差を付ける工程では、前記メイン領域とダイシング時にカットされるスクライブ領域との境界位置において、前記メイン領域における外縁部の少なくとも一部に前記第1半導体層が凸状に残されるようにすることを特徴とする請求項1または2に記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。
- 前記第1半導体層が凸状に残された位置に、前記第1半導体層との導通をとる第1導電型不純物層(27)を形成する工程を含んでいることを特徴とする請求項3に記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。
- 前記スクライブ領域にアライメントのターゲットとなる第2凹部(12b)を形成する工程を行うことを特徴とする請求項2ないし4のいずれか1つに記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。
- 前記第2凹部(12b)を形成する工程を、前記段差を付ける工程における前記第1凹部の形成と同時に行うことを特徴とする請求項5に記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。
- 前記第2半導体層を形成する工程の前に、前記第1半導体層のうち前記縦型MOSFETが形成されるセル領域の周辺領域となる外周領域において第3凹部(12c)を形成する工程を有し、
前記第2半導体層を形成する工程では、前記第3凹部内を埋め込むように前記第1半導体層の上に前記第2半導体層を形成することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。 - 前記縦型MOSFETを形成する工程は、
前記第1半導体層にて構成される第1導電型カラムの上において、第2導電型不純物をイオン注入して前記チャネル層を形成する工程と、
前記チャネル層の表層部に第1導電型不純物をイオン注入して前記ソース領域を形成する工程と、
前記チャネル層を貫通して前記第1導電型カラムに達するゲートトレンチ(21)を形成する工程と、
前記ゲートトレンチの内壁面に前記ゲート絶縁膜を形成すると共に、前記ゲート絶縁膜の表面に前記ゲート電極を形成する工程と、を含む、トレンチゲート型の縦型MOSFETを形成する工程であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。 - 前記縦型MOSFETを形成する工程は、
前記第1半導体層にて構成される第1導電型カラムの上において、第2導電型不純物をイオン注入して前記チャネル層を形成する工程と、
前記チャネル層の表層部に第1導電型不純物をイオン注入して前記ソース領域を形成する工程と、
前記ソース領域から所定間隔離間した位置に第1導電型不純物をイオン注入して、前記チャネル層から前記第1半導体層に達する第1導電型接続層(30)を形成する工程と、
前記チャネル層の表面に前記ゲート絶縁膜を形成すると共に、前記ゲート絶縁膜の表面に前記ゲート電極を形成する工程と、を含む、プレーナ型の縦型MOSFETを形成する工程であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。 - 半導体材料で構成された基板(11)の表面(11a)側に、第1導電型の第1半導体層(12)が形成された半導体基板(10)を用意する工程と、
前記第1半導体層の上にマスク(14)を配置したのち、該第1半導体層のうち縦型MOSFETを形成してチップとして用いるメイン領域において該第1半導体層をエッチングすることでトレンチ(15)を形成する工程と、
前記トレンチ内を埋め込みつつ、前記第1半導体層のうち前記トレンチの外側の部分の上にも、第2導電型の第2半導体層(16)をエピタキシャル成長させることで、前記トレンチ内に残された前記第2半導体層による第2導電型カラムと前記第1半導体層による第1導電型カラムとが交互に繰り返されたPNカラムを有するスーパージャンクション構造を形成する工程と、
前記スーパージャンクション構造の上に、第1導電型のチャネル層(17)と該チャネル層に接する第2導電型のソース領域(18)を形成すると共に、前記チャネル層の表面にゲート絶縁膜(22)を介してゲート電極(23)を形成し、さらに前記半導体基板の表面側に前記ソース領域に電気的に接続されるソース電極(25)を形成すると共に、前記半導体基板の裏面側に前記基板の裏面に接続されるドレイン電極(26)を形成することで縦型MOSFETを形成する工程と、を含んでいることを特徴とするスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置の製造方法。 - 半導体材料で構成された基板(11)の表面(11a)側に、第1導電型の第1半導体層(12)が形成された半導体基板(10)と、
前記第1半導体層の一部がエッチングされて形成された第1凹部(12a)と、
前記第1凹部により前記第1半導体層に形成された段差によって構成され、前記第1半導体層のうち前記第1凹部の外側に位置している凸部と、
前記第1凹部内において前記第1半導体層がエッチングされることで形成されたトレンチ(15)と、
前記トレンチ内および前記第1凹部内を埋め込みつつ前記第1半導体層の上にエピタキシャル成長させられた第2導電型の第2半導体層(16)とを有し、
前記トレンチ内の前記第2半導体層による第2導電型カラムと前記第1半導体層による第1導電型カラムとが交互に繰り返されたPNカラムを有するスーパージャンクション構造が構成されていると共に、
前記スーパージャンクション構造の上に、第1導電型のチャネル層(17)と該チャネル層に接する第2導電型のソース領域(18)と、前記チャネル層の表面にゲート絶縁膜(22)を介して形成されたゲート電極(23)と、前記ソース領域に電気的に接続されるソース電極(25)とが備えられ、かつ、前記半導体基板の裏面側に前記基板の裏面に接続されるドレイン電極(26)が備えられた縦型MOSFETが形成されていることを特徴とするスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置。 - 前記凸部には、前記第1半導体層との導通をとる第1導電型不純物層(27)が形成されていることを特徴とする請求項11に記載のスーパージャンクション構造の縦型MOSFETを有する半導体装置。
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