JP2014116414A - 電子部品実装方法および電子部品実装システム - Google Patents
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Abstract
【課題】部品実装構造体の生産性を向上させるとともに、接合信頼性を向上させる。
【解決手段】(i)部品電極と基材の接続用電極とが対向するように、基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の電子部品を搭載する工程と、(ii)複数の電子部品を搭載した基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、複数の電子部品を一括して熱圧着処理し、その後、基材をアンロードする工程と、(iii)選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有し、工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、工程(ii)において複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる、電子部品実装方法。
【選択図】図4A
【解決手段】(i)部品電極と基材の接続用電極とが対向するように、基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の電子部品を搭載する工程と、(ii)複数の電子部品を搭載した基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、複数の電子部品を一括して熱圧着処理し、その後、基材をアンロードする工程と、(iii)選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有し、工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、工程(ii)において複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる、電子部品実装方法。
【選択図】図4A
Description
本発明は、電子部品実装方法および電子部品実装システムに関する。さらに詳しくは、基板の電極と電子部品の電極、基板の電極同士、および電子部品の電極同士等を互いに熱圧着により接合するための電子部品実装方法および電子部品実装システムに関する。
エレクトロニクス製品の高機能化、小型化が進むのに応じて、半導体集積回路の大容量・高速化および微細化が求められている。そのような要求に応えるために、電子部品の実装技術におけるマイクロ接合の重要性が増大している。マイクロ接合の中で、熱圧着は、複数の部材を所定の温度で加圧密着させて、接合する接合方法であり、塑性変形による接合や、固相状態のまま原子レベルでの接合を行う、いわゆる拡散接合を含む。熱圧着は、ステンレス鋼、アルミニウム、銅などの金属同士の接合に適応しており、半導体製造工程においては、電極接合装置で熱圧着が多く用いられている。
そして、従来、熱圧着による基板または半導体ウェハ(以下、両者を含めて基材という)と、電子部品との接合においては、熱圧着により電極同士を接合する一方で、基材と電子部品とを樹脂を含む接合材(以下、樹脂接合材という)で接合することが行われている(特許文献1および2参照)。これにより、電極間の接合部を補強することができる。特に、携帯型の電子機器においては、落下等の衝撃により電極間の接合部が破壊されることがある。したがって、基材と電子部品とを樹脂接合材により接合して、電極間の接合部を補強すべき必要性は大きい。
上述したように、従来、電子部品の基材への実装には、樹脂接合材を使用して、電極間の接合部を補強することが多い。その場合には、基材の電子部品搭載領域に樹脂接合材を供給し(樹脂供給工程)、樹脂接合材の上から電子部品を基材に搭載し(部品搭載工程)、熱圧着により、基材電極と電子部品電極とを接合する(熱圧着工程)と同時に樹脂接合材を熱硬化させて電子部品を基材に接合する(樹脂接合工程)、という手順で、部品実装処理が進められる。そして、従来、複数の電子部品を例えば1つの基材に実装する場合には、1つの電子部品を上記の各工程により基材に実装してから、他の電子部品を実装する、という手順で部品実装処理が進められている。
上記従来の部品実装処理では、例えば、1つ1つの電子部品について、樹脂供給、部品搭載、熱圧着および樹脂接合工程を順次実行している。ところが、熱圧着工程は、部品実装処理の中で比較的長い時間がかかる工程である。このため、上記従来の部品実装処理では、熱圧着工程がボトルネックとなり、電子部品を基材に実装して成る構造体(以下、部品実装構造体という)を高い生産性で製造することができないことがある。
そこで、複数の電子部品について、一括して熱圧着工程を実行する手法が検討されている。この場合には、例えば、1または複数の基材をプレス台に載置し、それぞれの基材の複数の部品搭載領域に樹脂接合材を供給し、その上から、複数の電子部品を、それぞれ対応する部品搭載領域に搭載し、複数の電子部品に対して一括して熱圧着工程を実行する、という手順で部品実装処理が行われる。
上記方法によれば、比較的長い時間がかかる熱圧着工程を、複数の電子部品に対して同時に実行することができるので、電子部品実装構造体の生産性の向上を図ることができる。
ところが、複数の電子部品に対して熱圧着工程を一括して行う場合には、同時に熱圧着工程を実行する電子部品が多くなれば多くなるほどに、サイズの大きなプレス台を使用する必要性が生じる。プレス台のサイズが大きくなると、1回の熱圧着工程を実行した後、次の熱圧着工程を実行するまでの間に、そのプレス台が十分に冷却されるまでの時間が長くなる。
プレス台が十分に冷却されない間に、そのプレス台を使用して連続的に熱圧着工程を行うと、プレス台に載置した基材に樹脂接合材を供給したときに、その接合材が硬化してしまうことがある。その結果、樹脂接合材の上から電子部品を基材に搭載しても、電極同士を接触させることができなくなったり、電子部品と基材とを樹脂接合材により十分に接合することができなくなったりすることがある。これを避けるためには、1回の熱圧着工程が終了した後、次の熱圧着工程を開始するまでの時間を長くして、プレス台を十分に冷却する必要がある。そのため、電子部品実装構造体の生産性を向上させる効果が低減することがある。
上述の問題に対処するために、1回の熱圧着工程が終了した後、例えば空冷装置または液冷装置によりプレス台を強制冷却して、プレス台を再使用し得るまでの時間を短縮することも考えられる。ところが、プレス台を強制冷却する場合には、部品実装システムに、圧縮エアの供給装置を設けたり、熱媒体の循環ラインを設けたりする必要があり、製造コストが増大するとともに、機構が複雑化する。
本発明の一局面は、電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、前記電子部品を前記基材に実装する電子部品実装方法であって、
(i)前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の前記電子部品を搭載する工程と、
(ii)前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を行い、その後、前記選択されたプレス台から前記基材をアンロードする工程と、
(iii)前記選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有し、
前記工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、前記工程(ii)において前記複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる、電子部品実装方法に関する。
(i)前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の前記電子部品を搭載する工程と、
(ii)前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を行い、その後、前記選択されたプレス台から前記基材をアンロードする工程と、
(iii)前記選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有し、
前記工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、前記工程(ii)において前記複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる、電子部品実装方法に関する。
本発明の他の局面は、電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、前記電子部品を前記基材に実装する電子部品実装システムであって、
前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材料を介して、複数の前記電子部品を搭載する搭載ユニットと、
前記複数の電子部品を搭載した前記基材が載置されるプレス台をそれぞれが含み、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を実行する、複数の熱圧着ユニットと、
前記複数の電子部品が搭載された前記基材を前記熱圧着ユニットの前記プレス台に載置する基材載置ユニットと、
前記熱圧着ユニットで前記熱圧着処理された基材をアンロードするアンロードユニットと、
前記各ユニットを制御する制御ユニットとを具備し、
制御ユニットは、
前記複数のプレス台が順次選択されるように、前記基材載置ユニットを制御するとともに、
前記搭載ユニットによる、前記複数の電子部品を前記基材に搭載する操作(a)、
前記基材載置ユニットによる、前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、前記複数の熱圧着ユニットから選択される1つの前記プレス台に載置する操作(b)、
前記選択された熱圧着ユニットによる、熱圧着を実行する操作(c)、
前記アンロードユニットによる、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台から前記基材をアンロードする操作(d)、および
アンロード後に、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する操作(e)、が繰り返されるように、かつ、n回目(nは1以上の整数)の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部と、(n+1)回目の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部とが、重複するように、前記各ユニットを制御する、電子部品実装システムに関する。
前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材料を介して、複数の前記電子部品を搭載する搭載ユニットと、
前記複数の電子部品を搭載した前記基材が載置されるプレス台をそれぞれが含み、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を実行する、複数の熱圧着ユニットと、
前記複数の電子部品が搭載された前記基材を前記熱圧着ユニットの前記プレス台に載置する基材載置ユニットと、
前記熱圧着ユニットで前記熱圧着処理された基材をアンロードするアンロードユニットと、
前記各ユニットを制御する制御ユニットとを具備し、
制御ユニットは、
前記複数のプレス台が順次選択されるように、前記基材載置ユニットを制御するとともに、
前記搭載ユニットによる、前記複数の電子部品を前記基材に搭載する操作(a)、
前記基材載置ユニットによる、前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、前記複数の熱圧着ユニットから選択される1つの前記プレス台に載置する操作(b)、
前記選択された熱圧着ユニットによる、熱圧着を実行する操作(c)、
前記アンロードユニットによる、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台から前記基材をアンロードする操作(d)、および
アンロード後に、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する操作(e)、が繰り返されるように、かつ、n回目(nは1以上の整数)の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部と、(n+1)回目の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部とが、重複するように、前記各ユニットを制御する、電子部品実装システムに関する。
本発明によれば、複数のプレス台を使用して、熱圧着処理を実行するので、複数の電子部品を一括して基材に熱圧着する場合に、熱圧着処理の実行間隔を、ラインの遅延を生じないように十分に短く設定しても、各プレス台を、樹脂接合材の硬化を生じない程度に十分に低い温度まで冷却することが可能となる。これにより、熱圧着工程が部品実装構造体の製造ラインのボトルネックとなるのを防止することができ、部品実装構造体の生産性を向上させることができるとともに、接合信頼性を向上させることができる。
本発明は、電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、電子部品を基材に実装する電子部品実装方法に関する。本方法は、(i)部品電極と接続用電極とが対向するように、基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の電子部品を搭載する工程と、(ii)複数の電子部品を搭載した基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、複数の電子部品を一括して加熱するとともに基材に対して押圧する熱圧着処理を行い、その後、選択されたプレス台から前記基材をアンロードする工程と、(iii)選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有する。そして、工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、工程(ii)において複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる。熱圧着処理を実行するときのプレス台の温度は、例えば150〜250℃に設定することができる。
一例として、電子部品は半導体ベアチップまたは半導体パッケージであり得る。このとき、基材はインターポーザ基板または半導体ウェハであり得る。
上記のように、複数のプレス台を使用し、それらを順次冷却しながら熱圧着処理を実行することで、部品実装処理の中で、比較的に長い時間を要する熱圧着工程が製造ラインのボトルネックとなるのを防止することができ、高い生産性で、部品実装構造体を製造することができる。プレス台の冷却は、自然冷却でもよいし、送風ファン、圧縮エア、および液体冷却装置(例えば水冷装置)等を使用した強制冷却でもよい。
ただし、プレス台の数が多い場合は、強制冷却することなく自然冷却だけで、各プレス台を十分に低い温度にまで冷却することが容易となる。よって、そのような場合には、強制冷却の必要性は小さくなり、強制冷却設備を省略することが可能となる。逆に、プレス台の数が少ない場合(例えば2台の場合)は、プレス台の強制冷却を行うことで、比較的短時間の内に、各プレス台を十分に低い温度まで冷却することができる。よって、強制冷却を有効に利用することで、プレス台の増加を抑えつつ、熱圧着工程の時間を短縮することが可能となる。その結果、コストの増大と、生産性の向上とをバランスさせて、最良のコストパフォーマンスを得ることができる。
また、強制冷却をする場合でも、複数のプレス台を使用することで、従来よりも能力の低い冷却装置を使用しても、ラインの遅延を生じることなく、各プレス台を所望温度にまで冷却することが容易となる。したがって、機構を小型化するとともに、製造コストを低減することが容易となる。
さらに、本発明においては、複数のプレス台を使用して順次熱圧着工程を実行することで、例えば、冷却中のプレス台に、電子部品を搭載する前の基材を載置し、その余熱を利用して、その基材をプリベークすることも可能となる。これにより、プリベーク用の設備を省略することができる。また、プリベーク用の電力等を節減することもできる。これにより、機構の簡素化および製造コストの低減が図れる。なお、プリベークを行うことが望ましい基材としては、例えば、ポリアミド、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等を含む樹脂基板が挙げられる。これらの基板をプリベークすることで、基板に残留する揮発成分を除去することができる。
例えば、複数のプレス台が、第一プレス台、第二プレス台および第三プレス台を具備するような場合には、第一プレス台で熱圧着処理を行うときは、第二プレス台および第三プレス台を冷却する。そして、第二プレス台および第三プレス台のうち、温度の高い方に、電子部品を搭載する前の基材を載置することで、基材を効果的にプリベークすることができる(プリベーク処理)。
そして、プレス台の余熱によりプリベークされた基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材(以下、樹脂接合材という)を供給し、その上に複数の電子部品を搭載し、その基材を再びそのプレス台に戻すことで(基材リロード処理)、そのまま、複数の電子部品の熱圧着処理を一括して実行することができる。したがって、別途のプリベーク用設備を特別に準備する必要がなく、システムを簡素化することができる。
プレス台の余熱によりプリベークを行うとき、プレス台の温度は、100〜150℃の範囲であるのが好ましい。そのような温度範囲のプレス台に、電子部品を搭載する前の基材を載置することで、基材を効果的にプリベークすることができるとともに、基材が変形したり、基材上の配線が酸化したりするのを防止することができる。また、プリベークの時間は、5〜30分の所定時間TM1(図8A参照)であるのが好ましい。これにより、プリベークを十分な程度、実行することができるとともに、ラインの遅延が生じないように、熱圧着処理の実行間隔を十分に短くすることが容易となる。
熱圧着処理においては、部品電極と接続用電極とを直接的に接合することもできるし、両電極を、はんだを介して接合することもできる。はんだを介して両電極を接合する場合には、ペースト状態の樹脂接合材にはんだを含ませることもできる。これにより、部品電極および接続用電極の少なくとも一方にはんだを供給する工程を省略することができる。はんだを、そのようなペーストに含ませる場合には、はんだの含有量は、4〜30質量%とするのが好ましい。
はんだは、いわゆるはんだバンプ、もしくは、はんだキャップとして部品電極および接続用電極のいずれかに含ませることもできる。または、はんだの微粒子を含むクリームはんだを部品電極または接続用電極に塗布することで、はんだを部品電極または接続用電極のいずれかに含ませることもできる。
はんだの具体例としては、Sn−Bi合金、Sn−Ag−Cu合金、Sn−Bi−Ag合金、Sn−Cu合金、Sn−Sb合金、Sn−Ag合金、Sn−Ag−Cu−Bi合金、Sn−Ag−Bi−In合金、Sn−Ag−Cu−Sb合金、Sn−Zn合金、Sn−Zn−Bi合金などが挙げられるが、特に限定されるものではない。上記のSnをベース材料とするはんだ以外では、例えば金はんだを用いてもよい。
樹脂接合材として使用される熱硬化性樹脂は、特に限定されないが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などを用いることができる。熱硬化性樹脂は、硬化剤、硬化促進剤などを含んでもよい。硬化剤としては、酸無水物、脂肪族または芳香族アミン、イミダゾールまたはその誘導体などが好ましく用いられ、硬化促進剤としては、ジシアンジアミドなどを例示できる。熱硬化性樹脂には、更に、反応性希釈剤、カーボンブラック、無機セラミックス粒子などの充填剤を含ませてもよい。熱硬化性樹脂には、フラックスに含ませる活性剤などの成分を含ませてもよい。これにより、熱硬化性樹脂が接合すべき電極間に侵入しているような場合でも、電極同士の濡れ性がより確実に確保される。なお、樹脂接合材は、予め電子部品に付与されていてもよい。
さらに、本発明は、電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、電子部品を基材に実装する電子部品実装システムに関する。本システムは、部品電極と接続用電極とが対向するように、基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材料を介して、複数の電子部品を搭載する搭載ユニットと、複数の電子部品を搭載した基材が載置されるプレス台をそれぞれが含み、複数の電子部品を一括して加熱するとともに基材に対して押圧する熱圧着処理を実行する、複数の熱圧着ユニットと、複数の電子部品が搭載された基材を熱圧着ユニットのプレス台に載置する基材載置ユニットと、熱圧着ユニットで熱圧着処理された基材をアンロードするアンロードユニットと、各ユニットを制御する制御ユニットとを具備する。
そして、本システムにおいては、制御ユニットは、複数のプレス台が順次選択されるように、基材載置ユニットを制御する。また、制御ユニットは、搭載ユニットによる、複数の電子部品を基材に搭載する操作(a)、基材載置ユニットによる、複数の電子部品を搭載した基材を、複数の熱圧着ユニットから選択される1つのプレス台に載置する操作(b)、選択された熱圧着ユニットによる、熱圧着を実行する操作(c)、およびアンロードユニットによる、選択された熱圧着ユニットのプレス台から熱圧着が終了した基材をアンロードする操作(d)、および基材のアンロード後に、選択された熱圧着ユニットのプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する操作(e)、が繰り返されるように各ユニットを制御する。このとき、制御ユニットは、n回目(nは1以上の整数)の上記の(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部と、(n+1)回目の上記の(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部とが、重複するように、各ユニットを制御する。
以下、本発明を、図面を参照して詳細に説明する。
(実施形態1)
図1に、本発明の一実施形態に係る電子部品実装方法が適用される電子部品実装システムの概略構成をブロック図により示す。図2に、搭載ユニットの一例を斜視図により示す。図3に、搭載ユニットの図1の矢視側面図を示す。図4に、搭載ユニットの制御系統をブロック図により示す。
(実施形態1)
図1に、本発明の一実施形態に係る電子部品実装方法が適用される電子部品実装システムの概略構成をブロック図により示す。図2に、搭載ユニットの一例を斜視図により示す。図3に、搭載ユニットの図1の矢視側面図を示す。図4に、搭載ユニットの制御系統をブロック図により示す。
図示例の電子部品実装システム(以下、単にシステムという)1は、基材に樹脂接合材を供給するとともに、電子部品を基材に搭載する部品搭載ユニット10と、電子部品を基材に熱圧着により接合する、複数(図示例では、2つ)の熱圧着ユニット20(第1熱圧着ユニット20Aおよび第2熱圧着ユニット20B)と、基材を供給するローダ30と、電子部品が実装された基材を熱圧着ユニット20からアンロードするアンローダ40(第1アンローダ40Aおよび第2アンローダ40B)とを備えている。さらに、システム1は、システム1の各ユニットを統括的に制御する制御装置80を備えている。制御装置80は、上記の各ユニットとは独立に設けることができる。本実施形態では、制御装置80が部品搭載ユニット10に設けられ、部品搭載ユニット10を制御するとともに、システム1の各ユニットを制御する場合を説明する。
部品搭載ユニット10と第1熱圧着ユニット20Aとの間には、搬送ユニット38Aが配置されている。部品搭載ユニット10と第2熱圧着ユニット20Bとの間には、搬送ユニット38Bが配置されている。部品搭載ユニット10とローダ30との間には、搬送ユニット38Cが配置されている。
第1熱圧着ユニット20Aの部品搭載ユニット10とは反対側には、アンローダ40Aが配置されている。第2熱圧着ユニット20Bの部品搭載ユニット10とは反対側には、アンローダ40Bが配置されている。
部品搭載ユニット10は、電子部品の一例としての半導体素子14を、基材の一例としての基板12に搭載するデバイスボンダとしての機能を有している。部品搭載ユニット10は、1つの基台2を備えており、その基台2が下記の全てのユニットを支持している。
そして、部品搭載ユニット10は、1つの筐体3により上記の全てのユニットを内包した、独立の装置として構成される。なお、図1においては、部品搭載ユニット10の内部構造の理解を容易にするために、筐体3は、一部分だけを示している。図中、X軸方向は部品搭載ユニット10の前後方向を示し、Y軸方向は部品搭載ユニット10の左右方向を示し、Z軸方向は鉛直上下方向を示す。
部品搭載ユニット10は、半導体素子14を基板12に接合するための樹脂接合材を基板12に供給するディスペンサユニット22と、半導体素子14の電極14a(部品電極、図5D参照)を、対応する、基板12の電極12a(接続用電極、図5A等参照)と対向させて、半導体素子14を、樹脂接合材を介して基板12の上に載置する素子載置ユニット16と、制御装置80とを有している。樹脂接合材には、各電極の表面酸化膜を除去する作用を有する還元性を有する活性剤を含ませることができる。部品搭載ユニット10には、さらに、基板12に実装される半導体素子14を供給する半導体素子供給ユニット18を含ませることができる。
熱圧着ユニット20は、それぞれ、1または複数(N1個とする。N1は、1以上の整数である)の基板12が載置されるプレス台21(図7Aおよび図7B参照)と、N1個の基板12にそれぞれ搭載された複数(N2個とする。N2は、2以上の整数である)の半導体素子14(合計、N1×N2個である)について、一括して熱圧着処理を実行するためのプレス板23(図5E参照)とを有している。
半導体素子供給ユニット18は、水平方向(X−Y軸方向)に移動可能な素子供給ステージ24(素子載置部)と、素子供給ステージ移動機構25と、素子ピックアップユニット26とを備える。半導体素子供給ユニット18は、他に、素子供給ステージカメラ102と、エジェクタ106とを含む。
素子供給ステージ24の上面には、複数の半導体素子14を含むウェハ104が、シート状部材105に貼り付けられ、部品電極14aを上に向けた状態で、載置される。素子供給ステージ移動機構25は、例えばXYテーブル装置から構成されている。素子供給ステージカメラ102の光軸は、素子供給ステージ24上で素子ピックアップユニット26により半導体素子14をピックアップすべき位置(素子ピックアップ位置P1という)と交叉している。
エジェクタ106は、素子ピックアップ位置P1の下方に配置され、ウェハ104から、素子ピックアップユニット26によりピックアップされる半導体素子14を上に押し出すように動作する。
素子ピックアップユニット26は、ピックアップヘッド26aと、ピックアップツール26bと、ピックアップヘッド26aを支持するアーム26cと、ピックアップヘッド移動機構28と、ピックアップヘッド回転機構29とを含む。
ピックアップツール26bは軸状部を有し、その軸状部の一端部には、例えば、素子供給ステージ24から1つの半導体素子14をピックアップするための吸着ノズルが開口している。ピックアップツール26bの他端部はピックアップヘッド26aに接続されている。
ピックアップヘッド26aは、水平方向に延びる長軸状のアーム26cの一端部に接続されている。アーム26cの他端部は、ピックアップヘッド移動機構28およびピックアップヘッド回転機構29に接続されている。ピックアップヘッド移動機構28は、図示しないY−Z軸方向移動機構を含んでおり、ピックアップヘッド26aをY軸方向およびZ軸方向に所定範囲で移動させる。
ピックアップヘッド回転機構29は、アーム26cを、その軸芯を回転中心として180度(半回転)させる機構である。ピックアップツール26bは、軸状部がアーム26cの延びる方向と直交するように、ピックアップヘッド26aに取り付けられている。アーム26cが半回転することで、ピックアップツール26bは、先端部が上を向いた状態と下を向いた状態との間で回転される。これにより、ピックアップツール26bにより保持された半導体素子14は、上下が反転するように回転される。ピックアップツール26bがピックアップする半導体素子14は、素子供給ステージ24のX−Y軸方向の移動により選択され、エジェクタ106によりウェハ104から押し上げられる。
素子載置ユニット16は、部品保持ヘッド36と、部品保持ヘッド36に取り付けられて半導体素子14を保持する部品保持ツール36aと、部品保持ヘッド(実装ヘッド)36を移動する部品保持ヘッド(実装ヘッド)移動機構32と、基板12に半導体素子14を搭載する間、基板12を保持する実装ステージ34と、実装ステージ移動機構112(例えばXYテーブル)とを含む。素子載置ユニット16は、さらに、チップ認識カメラ108と、基板認識カメラ110とを備えている。部品保持ヘッド移動機構32は、部品保持ヘッド36をY軸方向に移動するY軸方向移動機構32aと、部品保持ヘッド36をZ軸方向に移動するZ軸方向移動機構32bとを含む。
部品保持ツール36aは、例えば、半導体素子14を吸着して保持する吸着ノズルを含む。チップ認識カメラ108は、その上方の素子認識位置P2にて、部品保持ツール36aにより保持された半導体素子14の画像を撮像して、その保持姿勢を認識する。その保持姿勢が所定の姿勢からずれている場合には、そのずれは、部品保持ツール36aの軸周りの回転等により修正される。
基板認識カメラ110は、基板12の電極12aや位置合せマーク等の画像を撮像して、基板12上の半導体素子14の搭載位置P4を認識する。その撮像の際には、実装ステージ移動機構112により、実装ステージ34がX−Y平面内で適宜の位置に移動される。制御装置80は、認識された搭載位置P4に基づいて、各電極12aと、対応する各部品電極14aとを接合し得るように位置決めをして、実装ステージ移動機構112により実装ステージ34を移動させる。それと対応して、制御装置80は、チップ認識カメラ108の認識結果に基づいて、部品保持ヘッド移動機構32により部品保持ヘッド36を移動させる。
部品保持ヘッド移動機構32のY軸方向移動機構32aは、Y軸方向に延びる2本のY軸レール32cと、リニアモータの可動子であるY軸スライダ32dとを含む。Z軸方向移動機構32bは、Y軸スライダ32dに取り付けられた昇降機構32eと、昇降機構32eにより上下される実装ヘッド支持プレート32fとを含む。部品保持ヘッド36は、実装ヘッド支持プレート32fの下端部に取り付けられている。
制御装置80は、素子ピックアップユニット26から部品保持ヘッド36への半導体素子14の受け渡し動作が所定の受け渡し位置P3で行われ、チップ認識カメラ108による半導体素子14の撮像動作が素子認識位置P2で行われるように、部品保持ヘッド移動機構32により部品保持ヘッド36の位置決めをする。
ディスペンサユニット22は、基板12の電子部品搭載位置に樹脂接合材を塗布して供給する樹脂接合材供給ヘッド(ディスペンサ)42と、樹脂接合材供給ヘッド移動機構44とを備えている。樹脂接合材供給ヘッド移動機構44は、Y軸方向移動機構44aおよびZ軸方向移動機構44bを含む。Y軸方向移動機構44aは、上述したY軸レール32cと、リニアモータの可動子であるY軸スライダ44cとを含む。Z軸方向移動機構44bは、Y軸スライダ44cに取り付けられた昇降機構44dと、昇降機構44dにより上下される樹脂接合材供給ヘッド支持プレート44eとを含む。樹脂接合材供給ヘッド42は、樹脂接合材供給ヘッド支持プレート44eの下端部に取り付けられている。樹脂接合材供給ヘッド42からは、必要に応じて、基板認識カメラ110を利用して、樹脂接合材供給位置の位置決め(基板認識)を行った後、基板12の部品搭載領域に樹脂接合材を塗布して供給する。
樹脂封止ユニット70は、必要に応じて、他の封止用樹脂を供給する樹脂供給ヘッド(ディスペンサ)72と、樹脂供給ヘッド移動機構74とを備えている。樹脂封止ユニット70は省略可能である。なお、樹脂供給ヘッド72は樹脂接合材供給ヘッド42とともに樹脂接合材供給ヘッド支持プレート44eに取り付けられている。このため、樹脂供給ヘッド移動機構74は樹脂接合材供給ヘッド移動機構44と共通のY軸方向移動機構44aおよびZ軸方向移動機構44bを含む。
以下、図4Aおよび図4Bのフローチャート、並びに図5A〜図5Eの説明図を参照して、図1の電子部品実装システムにより電子部品を基材に実装する手順を説明する。
図5Aに示すように、基板12の上面には複数(N2個)の部品搭載領域AR1が形成されており、それぞれの部品搭載領域AR1には、複数の接続用電極12aが形成されている。図5D〜図5Fに示すように、半導体素子14(例えば発光素子(LEDチップ))は、接続用電極12aとそれぞれ対応する複数の部品電極14aを備えている。ここで、基板12の接続用電極12aは、例えば銅(Cu)から形成することができる。半導体素子14の部品電極14aは、例えば金(Au)から形成することができる。
システムが起動されると(スタート)、制御装置80は、熱圧着に使用すべき熱圧着ユニット20を指定するための変数kを値「1」に設定する(ST1)。これにより、第1熱圧着ユニット20Aが選択される。搬送ユニット38Cにより基板12がローダ30から部品搭載ユニット10の実装ステージ34へ移送されると、実装ステージ34により基板12が保持される。その状態で、基板認識カメラ110による認識結果に基づいて、実装ステージ移動機構112により実装ステージ34を移動させることで、基板12の位置決めを行う。その後、図5B〜図5Cに示すように、基板12の接続用電極12aを含むN2個の部品搭載領域AR1に、樹脂接合材供給ヘッド42により樹脂接合材7を順次供給する(ST2)。
樹脂接合材7を、熱圧着処理の前に接続用電極12aを含んだN2個の部品搭載領域AR1に供給することで、接続用電極12aと部品電極14aとの接触部の周囲が樹脂接合材7により覆われる。これにより、樹脂接合材7に還元作用を有する活性剤を含ませた場合には、接続用電極12aに酸化膜が生じていても、その酸化膜を除去することができる。よって、電極同士の接合性が向上される。
次に、素子供給ステージ24から1個の半導体素子14を、素子ピックアップユニット26のピックアップツール26bにより吸着して、保持する。その状態で、ピックアップヘッド移動機構28によりピックアップヘッド26aを移動させるとともに、ピックアップヘッド回転機構29によりアーム26cを半回転(180°回転)させる。これにより、半導体素子14の上下が反転されて、半導体素子14が受け渡し位置P3まで移動され、部品保持ツール36aに受け渡される。このようにして、半導体素子14が部品保持ツール36aにより保持される。
部品保持ツール36aは、半導体素子14を保持した状態で、各部品電極14aが各接続用電極12aと対応するように、半導体素子14を搭載位置P4の上方に移動させる。その状態で、基板認識カメラ110による認識結果に基づいて、実装ステージ移動機構112により実装ステージ34を移動させることで、半導体素子14の各部品電極14aと、対応する各接続用電極12aとが対向するように基板12の位置決めが行われる。
制御装置80は、部品保持ヘッド36を下降させ、各部品電極14aを、対応する各接続用電極12aと対向させて、半導体素子14を基板12に搭載する(ST3)。このとき、各接続用電極12aおよびその近傍の接続用電極12a上には、樹脂接合材7が供給されているために、部品電極14aと接続用電極12aとの接触面の周囲は、樹脂接合材7により覆われた状態となっている(図5D参照)。なお、図5Dでは、基板12の全ての部品搭載領域AR1に樹脂接合材を供給してから半導体素子14を搭載している。これに限られず、1つの部品搭載領域AR1に樹脂接合材を供給し、続いて、その部品搭載領域AR1に半導体素子14を搭載する、という手順を繰り返して、全ての部品搭載領域AR1に半導体素子14を搭載してもよい。
次に、1つの基板12のN2個の部品搭載領域AR1への半導体素子14の搭載が完了したかを判定する(ST4)。ここで、全ての部品搭載領域AR1への半導体素子14の搭載が完了していない場合には(ST4でNo)、ST3に戻る。全ての部品搭載領域AR1への半導体素子14の搭載が完了している場合には(ST4でYes)、基材載置ユニットを構成する搬送ユニット38Aにより、図6Aに示すように、複数(N2個、図示例では10個である)の半導体素子14が搭載された1枚の基板12を、第1熱圧着ユニット20Aのプレス台21Aの所定位置に載置する(ST5)。このとき、そのプレス台21Aの温度は、30〜80℃の所定温度範囲TH1に設定されている。
次に、半導体素子14が搭載された基板12が、プレス台21Aの上に所定枚数N1だけ載置されたかを判定する(ST6)。ここで、所定枚数N1の基板12が、プレス台21Aの上に載置されていない場合(ST6でNo)は、ST2に戻る。一方、図7Bに示すように、所定枚数N1(図示例では6枚)の基板12が、プレス台21Aの上に載置されている場合(ST6でYes)は、第1並列処理(ST7)に移行する。
第1並列処理では、図5Eに示すように、熱圧着ユニット20(例えば、第1熱圧着ユニット20A)により熱圧着処理および樹脂接合処理が実行される(ST11)。熱圧着処理では、例えばプレス板23Aにより、複数の半導体素子14を一括して基板12に向かって押圧する。このとき、そのプレス台21Aに設けられた、ヒータ52(図6Aおよび図6B参照)等の加熱手段により、所定枚数N1の基板12が150〜250℃の所定温度範囲TH2まで加熱される。これにより、図5Fに示すように、部品電極14aと、対応する接続用電極12aとの間に、電極間接合部15が形成される。ここで電極間接合部は、単に電極の表面金属が接触している状態、電極の金属どうしが拡散接合している状態、あるいは、はんだ成分のように溶融して濡れ広がっている状態等となっている。
また、熱圧着処理の際の加熱により、各基板12に供給された樹脂接合材7も加熱され、これにより樹脂接合材7が硬化して、樹脂補強部7Aが形成される(図5F参照)。なお、熱圧着処理のためのヒーター52等の加熱手段は、プレス板の方に設けても良いし、プレス台に設けても良い。あるいはプレス板とプレス台の両方に設けても良い。
ST11の熱圧着処理および樹脂接合処理が終了すると、例えばアンローダ40Aにより、プレス台21AからN1個の基板12が全てアンロードされ、図示しない基板収納ラック等に収納される(ST12)。また、基板のアンロードとともに、そのプレス台21Aの冷却が開始される(ST13)。プレス台の冷却は、自然冷却によることもできるし、強制冷却によることもできる。本実施形態では、プレス台の数が2であり、比較的プレス台の数が少ないことから、強制冷却によるのが好ましい。そして、熱圧着に使用するプレス台として次のプレス台21(例えばプレス台21B)を指定するために、変数kに1を加算する(ST14)。ここで、変数kが2を超えているかを判定し(ST15)、超えていれば(ST15でYes)、変数kを1にリセットする(ST16)。超えていなければ(ST15でNo)、そのまま手順を進める。説明中の例では、変数kは2となる。これにより、次に熱圧着を行うユニットととして、第2熱圧着ユニット20Bが指定される。
さらに、第1並列処理においては、ST11〜ST16の手順と並行に、他の熱圧着ユニット20(例えば第2熱圧着ユニット20B)を対象として、基板への電子部品の搭載が行われる。具体的には、基板を搭載するプレス台を指定するための変数k1に値「k+1」を代入する(ST17)。ここで、変数k1が2を超えているかを判定し(ST18)、超えていれば(ST18でYes)、変数k1を1にリセットし(ST19)、ST20に進む。超えていなければ(ST18でNo)、そのまま、ST20に進む。熱圧着を実行するユニットとして第1熱圧着ユニット20Aが選択されているときは、k=1であるので、変数k1は2となる。これにより、第1並列処理で基板を搭載するプレス台を含むユニットとして第2熱圧着ユニット20Bが選択され、ST20に進む。
ST20では、基板の搭載対象の熱圧着ユニット20(例えば、第2熱圧着ユニット20B)のプレス台21(例えばプレス台21B)の温度が、上述した所定温度範囲TH1まで低下したかを判定する。なお、このとき、後述の第2並列処理と同様の手順で、基板12を、熱圧着に使用した後のプレス台21でプリベークしてもよい。ここで、そのプレス台21の温度が所定温度範囲TH1まで低下していなければ(ST20でNo)、そのプレス台が十分に冷却されていないものとして、ST20の判定手順を繰り返し実行する。一方、そのプレス台21の温度が所定温度範囲TH1であれば(ST20でYes)、そのプレス台21を対象として、上記のST2〜ST6の手順を実行する(ST21)。これにより、そのプレス台21に、N2個ずつの半導体素子14が搭載されたN1個の基板12が搭載される。ST11〜ST21の手順が全て完了すると、第1並列処理を終了する。
第1並列処理が終了すると、半導体素子14の実装が全て終了したかを判定し(ST8)、終了していない場合は(ST8でNo)、ST7(第1並列処理)に戻る。2巡目の第1並列処理では、1巡目のST21でN1個の基板12が載置されたプレス台21(例えば、プレス台21B)に対して、ST11〜ST16の手順により、熱圧着処理等が実行される。その一方で、ST17〜ST21の手順により、次のプレス台21(例えば、プレス台21A)について、基板の載置処理を実行する。3巡目以降の第1並列処理は、2巡目の手順と同様である。一方、半導体素子14の実装が全て終了した場合には(ST8でYes)、処理を終了する。
以上の処理の結果、一方のプレス台で熱圧着処理等を実行している間は、他方のプレス台が十分に冷却されていることを条件として、他方のプレス台に、電子部品が搭載された基板が載置されていく。そして、一方のプレス台での熱圧着処理が終了すると、そのプレス台から基板がアンロードされ、そのプレス台は、自然冷却または強制冷却により冷却される。そして、他方のプレス台への所定枚数の基板の載置が終了すると、他方のプレス台で熱圧着処理が実行され、その熱圧着処理が終了すると、基板がアンロードされ、他方のプレス台は冷却される。そのようなローテーションで複数のプレス台を使用して電子部品を基板に実装することで、比較的に長い時間がかかる熱圧着処理がボトルネックとなることなく、高い生産性で、電子部品実装構造体を製造することができる。また、プレス台を強制冷却する場合にも、従来よりも能力の低い冷却装置を使用できるので、製造コストを抑えることができる。
(実施形態2)
次に、本発明の他の実施形態を、図面を参照して説明する。図7に、本実施形態に係る電子部品実装システムの概略構成をブロック図により示す。
次に、本発明の他の実施形態を、図面を参照して説明する。図7に、本実施形態に係る電子部品実装システムの概略構成をブロック図により示す。
図示例のシステム1Aは、2つではなく3つの熱圧着ユニット20(第1熱圧着ユニット20A、第2熱圧着ユニット20Bおよび第3熱圧着ユニット20C)を有している点で、図1のシステム1と異なっている。部品搭載ユニット10と第1熱圧着ユニット20Aとの間には、搬送ユニット38Aが配置されている。部品搭載ユニット10と第2熱圧着ユニット20Bとの間には、搬送ユニット38Bが配置されている。部品搭載ユニット10と第3熱圧着ユニット20Cとの間には、搬送ユニット38Cが配置されている。
第1熱圧着ユニット20Aの部品搭載ユニット10とは反対側には、ローダ30Aおよびアンローダ40Aが配置されている。第2熱圧着ユニット20Bの部品搭載ユニット10とは反対側には、ローダ30Bおよびアンローダ40Bが配置されている。第3熱圧着ユニット20Cの部品搭載ユニット10とは反対側には、ローダ30Cおよびアンローダ40Cが配置されている。システム1Aも図1のシステム1と同様に、部品搭載ユニット10に、部品搭載ユニット10を制御するとともに、システム1Aの各部を統括的に制御する制御装置を有している。また、熱圧着ユニット20には、それぞれ、冷却装置50を含ませることができる(第1冷却装置50A、第2冷却装置50B、および第3冷却装置50C)。なお、図1のシステム1でも、各熱圧着ユニットに冷却装置を含ませることができる。
以下、本実施形態のシステム1Aの動作を、図8Aおよび図8Bのフローチャートを参照して説明する。なお、図8Aに示すST31〜ST36、およびST38の手順は、図4AのST1〜ST6、およびST8の手順と同様であるので、説明は簡略化する。さらに、図8Bに示すST41〜ST46の手順は、図4BのST11〜ST16の手順と同様であるので、説明は簡略化する。
システムが起動されると(スタート)、制御装置80は、熱圧着に使用すべき熱圧着ユニット20を指定するための変数kを値「1」に設定する(ST31)。これにより、始めは、第1熱圧着ユニット20Aが選択される。次に、選択された熱圧着ユニット20に対応するローダ30(説明中の例では、ローダ30A。以下、説明中の例に該当するユニットの符号を括弧書きで表示する)により、その熱圧着ユニット20(20A)にN1個の基板12を順次載置する。このとき、その熱圧着ユニット20(20A)のプレス台21(21A)を予め加熱しておき、その熱により、そのプレス台21(21A)に載置された基板12をプリベークしてもよい。この点は、図1のシステム1でも同様である。基板12のプリベークが終了し、そのプレス台21(21A)が十分に冷却されると、それらの基板12を、一つずつ、基材載置ユニットを構成する搬送ユニット(38A)により、部品搭載ユニット10に搬送し、そこで、1つの基板12のN2個の部品搭載領域AR1に樹脂接合材7を供給する(ST32、図5Bおよび図5C参照)。
続いて、部品搭載ユニット10にて、その基板12の各接続用電極12aに、対応する各部品電極14aを対向させるようにして、N2個の半導体素子14を、その基板12に搭載する(ST33、図5D参照)。次に、その基板12にN2個の半導体素子14を搭載したかを判定する(ST34)。全ての半導体素子14が搭載されていれば(ST34でYes)、搬送ユニット(38A)により、その基板12を、選択された熱圧着ユニット(20A)のプレス台(21A)の所定位置に戻す(ST35、図6A参照)。
次に、選択された熱圧着ユニット20(20A)のプレス台(21A)に、N1個の基板12が全て戻されたかを判定する(ST36)。そうであれば(ST36でYes、図6B参照)、第2並列処理(ST37)に移行する。
第2並列処理においては、熱圧着等の処理(ST41〜ST46)と並行に、ST47〜ST52のプリベーク処理と、ST53〜ST57の熱圧着等の準備処理とが実行される。
熱圧着等の処理(ST41〜ST46)では、まず、選択された熱圧着ユニット20(20A)を使用して、熱圧着および樹脂接合処理が実行されて(ST41)、複数(N1×N2個)の半導体素子14が一括して基板12に実装される。それが終わると、そのユニットのプレス台21(21A)から、対応するアンローダ40(40A)により、N1個の基板12(実装構造体)が全てアンロードされる(ST42)。続いて、そのプレス台(21A)の冷却が開始される(ST43)。そして、ST44〜ST46の手順により、変数kの値が1だけ増加(または、リセット)される。説明中の例では、変数kは2となる。
プリベーク処理(ST47〜ST52)では、プリベーク処理を行うプレス台を指定するための変数k2に値「k−1」を代入する(ST47)。ここで、変数k2が1より小さいかを判定し(ST48)、小さければ(ST48でYes)、変数k2を3に設定し(ST49)、ST50に進む。1以上であれば(ST48でNo)、そのまま、ST50に進む。説明中の例では、k=1であり、変数kは3となる。これにより、プリベークに使用する熱圧着ユニット20として第3熱圧着ユニット20Cが選択され、ST50に進む。ただし、1巡目の第2並列処理では、未だ第3熱圧着ユニット20Cは熱圧着には使用されていないので、第3熱圧着ユニット20Cを予めヒータ52等により加熱しておき、その熱を利用して基板12をプリベークする。
ST50では、選択された熱圧着ユニット20(20C)のプレス台21(21C)の温度が、プリベークのための、100〜150℃の所定温度範囲TH2であるかを判定する。プレス台21の温度が、所定温度範囲TH2であれば(ST50でYes)、そのプレス台21に、ローダ30(30C)により、半導体素子14を搭載していないN1個の基板12を載置し、プリベークを開始する(ST51)。そのプレス台21(21C)の温度が、所定温度範囲TH2でなければ(ST50でNo)、プレス台21(21C)をさらに冷却して(あるいは、さらに加熱して)、その温度が、所定温度範囲TH2となるまで、ST50の判定手順を繰り返し実行する。
ST51でプリベークが開始された後、基板12のプリベークに必要な所定時間TM1が経過したかを判定する(ST52)。ここで、所定時間TM1が経過していれば(ST52でYes)、プリベーク処理は終了する。所定時間TM1が経過していなければ(ST52でNo)、所定時間TM1が経過するまでST52の判定手順を繰り返し実行する。
準備処理(ST53〜ST57)では、プリベーク処理(ST47〜ST52)によりプリベークされた基板12に半導体素子14が搭載される。ただし、1巡目の第2並列処理では、上記のプリベーク処理によっては、基板12がプリベークされていないので、例えば、準備処理に使用する熱圧着ユニット20のプレス台21を予め加熱し、そのプレス台21に、半導体素子14が載置されていないN1個の基板12を載置することにより、それらの基板12を予めプリベークしてから、準備処理を実行する。
具体的には、準備処理の対象となる熱圧着ユニット20を指定するための変数k1に値「k+1」を代入する(ST53)。ここで、変数k1が3を超えているかを判定し(ST54)、超えていれば(ST54でYes)、変数k1を1にリセットし(ST55)、ST56に進む。超えていなければ(ST54でNo)、そのまま、ST56に進む。1巡目の第2並列処理では、k=1であるから、変数k1は2となる。これにより、準備処理の対象として、第2熱圧着ユニット20Bが選択される。
ST56では、選択された熱圧着ユニット20(20B)のプレス台21(21B)の温度が、上記の所定温度範囲TH1(30〜80℃)であるか判定する。そのプレス台21(21B)の温度が、所定温度範囲TH1でなければ(ST56でNo)、そのプレス台21(21B)の温度が所定温度範囲TH1まで冷却装置50(50B)等により冷却されるまで、ST56の判定手順を繰り返す。そのプレス台21(21B)の温度が所定温度範囲TH1であれば(ST56でYes)、そのプレス台21(21B)を対象として、基板リロード処理(ST57)を実行する。
基板リロード処理(図8C参照)では、選択された熱圧着ユニット20(20B)のプレス台21(21B)に載置されている、プリベークされたN2個の基板12に、部品搭載ユニット10にて樹脂接合材7を供給し(ST61)、順次半導体素子14を搭載する(ST62〜ST63)。半導体素子14の搭載が完了した基板12は、そのプレス台21(21B)に戻され(ST64)、全ての基板12が、そのプレス台21(21B)に戻されると(ST65でYes)、基板リロード処理を終了する。上記のST41〜ST57の手順が全て終了すると、1巡目の第2並列処理を終了する。
1巡目の第2並列処理が終了すると、ST38(図8A参照)の判定手順を経て、2巡目の第2並列処理が開始される。2巡目の第2並列処理では、1巡目の第2並列処理で熱圧着に使用された熱圧着ユニット20(20A)の余熱を利用するプリベーク処理(ST47〜ST52)が実行される。具体的には、2巡目はk=2であるので、上記のST47〜ST49の手順により、変数k2は1となり、これにより、プリベークに使用する熱圧着ユニット20として第1熱圧着ユニット20Aが選択される。そして、上記のST50〜ST52の手順により、第1熱圧着ユニット20Aを使用してプリベーク処理が実行される。
2巡目以降(n順目とする。ただし、nは2以上の整数である)の熱圧着等の処理(ST41〜ST46)は、(n−1)巡目の第2並列処理の準備処理でN2個の半導体素子14が搭載された基板12が載置されたプレス台21(n=2であれば、21B)を含む熱圧着ユニット20(20B)を対象として実行される。つまり、現在の変数kの値(例えば2)にしたがって、それにより指示される熱圧着ユニット20(20B)を使用した熱圧着処理、樹脂接合処理、アンロード処理および冷却処理が実行される(ST41〜43)。その後、ST44〜ST46の手順により、変数kは1だけ増加(またはリセット)される。その結果、n=2のとき、kは3となる。
2巡目以降(n順目とする)のプリベーク処理(ST47〜ST52)は、(n−1)巡目の第2並列処理の熱圧着等の処理で使用された熱圧着ユニット20(n=2であれば、20A)を使用して実行される。具体的には、ST47〜ST49の手順により、プリベーク処理に使用される熱圧着ユニット20(20A)が選択され、選択された熱圧着ユニット20(20A)を対象にST50〜ST52の手順を実行することで、次に半導体素子14が熱圧着される基板12がプリベークされる。これにより、特別な加熱を要することなく、熱圧着の余熱により基板12をプリベークすることができる。
2巡目の準備処理(ST53〜ST57)では、1巡目と同じ手順(ST53〜ST55)で、準備処理で使用される熱圧着ユニット20として、第3熱圧着ユニット20Cが選択される。そして、2巡目においても、準備処理で使用される熱圧着ユニット20(20C)は、未だ熱圧着に使用されていないので、1巡目と同様に、そのプレス台21(21C)を予め加熱し、そのプレス台に、半導体素子14が載置されていないN1個の基板12を載置することで、それらの基板12を予めプリベークしてから、準備処理を実行する。
2巡目の第2並列処理が終了すると、ST38(図8A参照)の判定手順を経て、3巡目の第2並列処理が開始される。3巡目以降(n≧3)の第2並列処理では、準備処理(ST53〜ST57)で使用すべき熱圧着ユニット20(n=3であれば、20A)は、(n−2)順目で熱圧着に使用され、(n−1)順目でプリベーク処理に使用されている。よって、特別な加熱を要することなく、熱圧着の余熱を利用してプリベークされた基板12を対象として、準備処理が実行される。
具体的には、上述のST53〜ST55の手順により、準備処理の対象とすべき熱圧着ユニット20(20A)が指定される。そして、そのプレス台21(21A)の温度が、所定温度範囲TH1であることを条件として、その熱圧着ユニット20(20A)を対象とする基板リロード処理が実行される(ST56、ST57)。
以上の手順により、1つのプレス台で熱圧着処理を実行している間は、他の2つのプレス台が自然冷却または強制冷却により冷却され、それらのうち、温度が高い方のプレス台を使用して基板のプリベークが実行される。それとともに、十分に温度が低下した方のプレス台には、プリベーク後に電子部品が搭載された基板が載置される。続いて、そのプレス台を使用して、熱圧着処理が実行され、熱圧着処理が終了したプレス台は、再び、自然冷却または強制冷却により冷却される。
そのようなローテーションで3つのプレス台を使用して電子部品を基板に実装することで、比較的に長い時間がかかる熱圧着処理がボトルネックとなることなく、高い生産性で、電子部品実装構造体を製造することができる。
また、熱圧着処理の際に加熱されたプレス台の余熱を利用して、基板をプリベークできるので、他にプリベーク装置を設置する必要性がなく、機構を簡素化することができる。また、プリベーク用のエネルギ源を他に確保する必要性もないので、ランニングコストを低減することができる。また、プレス台を強制冷却する場合にも、プレス台の個数が実施形態1のシステム1よりも多いことから、能力の低い冷却装置を使用しても、十分に短い時間でプレス台を冷却することが可能となり、さらに製造コストを低減することができる。
本発明の電子部品実装方法およびシステムによれば、高い生産性で電子部品実装構造体を製造することができるので、特に携帯型電子機器に使用される電子部品モジュールの製造に有利である。
1、1A…システム、AR1…部品搭載領域、10…部品搭載ユニット、12…基板、12a…接続用電極、14…半導体素子、14a…部品電極、20…熱圧着ユニット、21…プレス台、23…プレス板、30…ローダ、40…アンローダ、50…冷却装置、52…ヒーター、7…樹脂接合材、7A…樹脂補強部、80…制御装置
Claims (4)
- 電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、前記電子部品を前記基材に実装する電子部品実装方法であって、
(i)前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材を介して、複数の前記電子部品を搭載する工程と、
(ii)前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、複数のプレス台から選択される1つに載置し、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を行い、その後、前記選択されたプレス台から前記基材をアンロードする工程と、
(iii)前記選択されたプレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する工程と、を有し、
前記工程(i)〜(iii)を繰り返すとともに、前記工程(ii)において前記複数のプレス台を順次選択することにより、n回目(nは1以上の整数)に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部と、(n+1)回目に前記工程(i)〜(iii)が行われる期間の一部とを、重複させる、電子部品実装方法。 - 冷却中の前記プレス台に、前記電子部品を搭載する前の前記基材を載置して、前記基材をプリベークする、請求項1記載の電子部品実装方法。
- 前記複数のプレス台が、第一プレス台、第二プレス台および第三プレス台を具備し、前記第一プレス台で前記熱圧着処理を行うときは、前記第二プレス台および前記第三プレス台を冷却するとともに、前記第二プレス台および前記第三プレス台のうち、温度の高い方に、前記電子部品を搭載する前の前記基材を載置して、前記基材をプリベークする、請求項2記載の電子部品実装方法。
- 電子部品の部品電極と、基材の接続用電極とを接合して、前記電子部品を前記基材に実装する電子部品実装システムであって、
前記部品電極と前記接続用電極とが対向するように、前記基材に、熱硬化性樹脂を含む接合材料を介して、複数の前記電子部品を搭載する搭載ユニットと、
前記複数の電子部品を搭載した前記基材が載置されるプレス台をそれぞれが含み、前記複数の電子部品を一括して加熱するとともに前記基材に対して押圧する熱圧着処理を実行する、複数の熱圧着ユニットと、
前記複数の電子部品が搭載された前記基材を前記熱圧着ユニットの前記プレス台に載置する基材載置ユニットと、
前記熱圧着ユニットで前記熱圧着処理された基材をアンロードするアンロードユニットと、
前記各ユニットを制御する制御ユニットとを具備し、
制御ユニットは、
前記複数のプレス台が順次選択されるように、前記基材載置ユニットを制御するとともに、
前記搭載ユニットによる、前記複数の電子部品を前記基材に搭載する操作(a)、
前記基材載置ユニットによる、前記複数の電子部品を搭載した前記基材を、前記複数の熱圧着ユニットから選択される1つの前記プレス台に載置する操作(b)、
前記選択された熱圧着ユニットによる、熱圧着を実行する操作(c)、
前記アンロードユニットによる、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台から熱圧着が終了した前記基材をアンロードする操作(d)、および
アンロード後に、前記選択された熱圧着ユニットの前記プレス台を自然冷却または強制冷却により冷却する操作(e)、が繰り返されるように、かつ、n回目(nは1以上の整数)の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部と、(n+1)回目の前記(a)〜(e)の操作が行われる期間の一部とが、重複するように、前記各ユニットを制御する、電子部品実装システム。
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