JP2014086446A - SiCウェハの切断方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】チッピングの発生を抑制してSiCウェハを切断する。
【解決手段】図1(a)に示されるように、まず初めにC1の方向に沿って平行に複数箇所で行われる(第1の切断工程)。次に、図1(b)に示されるように、その後でC2の方向に沿って平行に複数箇所で行われる(第2の切断工程)。ここでは、C1の方向は、c面上における{1−210}面((1−210)面及びこれに等価な面)が構成する直線に垂直な方向であるものとし、C2の方向は、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向、すなわちC1と垂直な方向であるものとする。
【選択図】図1
【解決手段】図1(a)に示されるように、まず初めにC1の方向に沿って平行に複数箇所で行われる(第1の切断工程)。次に、図1(b)に示されるように、その後でC2の方向に沿って平行に複数箇所で行われる(第2の切断工程)。ここでは、C1の方向は、c面上における{1−210}面((1−210)面及びこれに等価な面)が構成する直線に垂直な方向であるものとし、C2の方向は、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向、すなわちC1と垂直な方向であるものとする。
【選択図】図1
Description
本発明は、直交する2方向に沿って炭化珪素(SiC)単結晶ウェハを切断する切断方法に関する。
近年、炭化珪素(SiC)は、パワー半導体素子の材料として広く用いられている。SiCを用いてパワー半導体素子を製造するに際しては、SiCのバルク単結晶から切り出されたSiCウェハに対して各種の半導体プロセスが適用され、個々の素子が製造される。ここで、例えばSiCウェハとしては例えば4インチ径のものが用いられ、この中に多数の素子(チップ)が配列して同時に形成された後で、ウェハが格子状に切断されることによって、個々の素子が分離されて得られる。この点についてはSiCウェハに限らず、Siウェハ、化合物半導体ウェハに対しても同様である。このような切断作業を行うためには、ダイヤモンド砥粒が接合された切削ブレードを用いた切削装置が、そのスループットが高いことや低コストであることから、広く用いられている。この場合、回転する切削ブレードがその位置を高精度で制御されてウェハに当接し、移動することによって切断が行われる。一般に、切断は、直交する2方向に沿って多数の箇所で行われ、これによって、四方が切断部(スクライブ線)で分離された矩形状の複数の素子が、単一のSiCウェハを用いて得られる。
しかしながら、SiCの新モース硬度は13であり、これは、ダイヤモンド(新モース硬度15)、炭化硼素(新モース硬度14)に次いで高い。このため、SiCウェハの切断作業は、Siウェハや他の化合物半導体ウェハと比べて特に難しい。このため、上記の切削装置を用いてSiCウェハの切断を行った場合においても、切断の際に蛇行が発生するために高精度な切断が困難である、あるいは切断速度を高くすることが困難であるためにスループットが低くなる、等の問題が発生した。
このように切削が困難なウェハに対して切断を行うために、例えば、特許文献1に記載の技術においては、切断時に切削ブレードに超音波を印加している。これによって、切削が容易となるために、SiCウェハに対しても、切断の際の蛇行が抑制され、かつ切断速度も高めることができる。
しかしながら、上記の切削装置を用いた場合であっても、特にSiCウェハの切断においては、チッピング(微細な欠けが存在することによる切断面の凹凸)が発生した。チッピングが発生した場合においては、チッピングに起因したクラックが発生し、素子にも悪影響を及ぼすことがあった。あるいは、チッピングが存在するために、切断加工によって除去される素子間の線状の領域(スクライブ線)が実質的に太くなる。このために、ウェハ上において素子として使用できる有効面積が小さくなるという問題も発生した。
すなわち、このようなチッピングの発生を抑制してSiCウェハを切断することは困難であった。
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、上記問題点を解決する発明を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決すべく、以下に掲げる構成とした。
本発明のSiCウェハの切断方法は、4H−SiC(炭化珪素)単結晶からなり、主面がそのc面で構成されたSiCウェハを直交する2方向において切断する、SiCウェハの切断方法であって、c面上において{1−210}面が構成する直線と垂直な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第1の切断工程と、前記第1の切断工程の後で、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第2の切断工程と、を具備することを特徴とする。
本発明のSiCウェハの切断方法は、少なくとも前記第1、第2の切断工程のうちの一方において、前記SiCウェハ又は前記切削ブレードに超音波を印加することを特徴とする。
本発明のSiCウェハの切断方法は、4H−SiC(炭化珪素)単結晶からなり、主面がそのc面で構成されたSiCウェハを直交する2方向において切断する、SiCウェハの切断方法であって、c面上において{1−210}面が構成する直線と垂直な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第1の切断工程と、前記第1の切断工程の後で、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第2の切断工程と、を具備することを特徴とする。
本発明のSiCウェハの切断方法は、少なくとも前記第1、第2の切断工程のうちの一方において、前記SiCウェハ又は前記切削ブレードに超音波を印加することを特徴とする。
本発明は以上のように構成されているので、チッピングの発生を抑制してSiCウェハを切断することができる。
以下、本発明の実施の形態となるSiCウェハの切断方法について説明する。ここでは、図1(a)に示されるように、まず初めにC1の方向に沿って平行に複数箇所でSiCウェハの厚さ方向の切断が行われる(第1の切断工程)。次に、図1(b)に示されるように、その後でC2の方向に沿って平行に複数箇所でSiCウェハの厚さ方向の切断が行われる(第2の切断工程)。このため、SiCウェハ10は、C1(一点鎖線)、C2(破線)の2方向に沿ってそれぞれ等間隔に複数箇所で切削ブレードによって厚さ方向で切断される。C1は図中の上下方向、C2は図中の左右方向であり、これらの方向は直交する。これにより、C1、C2に沿った切断線(スクライブ線)で囲まれた多数の小さな矩形形状のチップがこのSiCウェハ10から得られる。なお、実際に切断加工が行われる際にはSiCウェハ10はその裏面が保護シート上に装着されるため、切断加工に際して分断されたSiCウェハ10の各部が飛散することはない。この点については従来知られる切断方法と同様である。
ここで、SiCウェハ10は4H−SiCの結晶型(ウルツ鉱型)をもつ単結晶であり、その面方位はc面(0001)であるものとする。その結晶構造を模式的に図2(a)に、c面ウェハにおける対称性を模式的に図2(b)に示す。図2(b)に示されるように、このウェハの面はその法線となるc軸の周りに3回対称となっている。この面における単位格子ベクトルはa1、a2、a3として示されるが、3回対称性のため、a1、a2、a3の方向は結晶として等価である。この結晶型、ウェハの面方位は、SiCウェハ上にSBD(Schottky Barrier Diode)やMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)等の素子を製造する際に通常使用されるものである。
ここでは、C1の方向は、c面上における{1−210}面((1−210)面及びこれに等価な面)が構成する直線に垂直な方向であるものとし、C2の方向は、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向、すなわちC1と垂直な方向であるものとする。なお、{1−210}面はc面(SiCウェハ10の主面)とは直交する。C1、C2をこの方向と設定することによって、SiCウェハ10におけるC1に沿った切断部、C2に沿った切断部のいずれにおいても、チッピングの発生が抑制される。(1−210)面と等価な(11−20)面が図2(a)においてグレーで示されており、この面はベクトルa1、a2の先端を通りc軸と平行とされた面である。なお、c面の対称性より、これをc軸の周りで120°回転させた面である(−2110)面もこれらの面と等価な面となる。
上記の構成によってチッピングが抑制されるメカニズムについて、以下に説明する。図3は、上記と異なり、c面を主面とするSiCウェハにおいて、初めにC1を(11−20)面に平行な方向、次にC2をこれと垂直な方向として図1と同様に切断加工を行った際の切断線を含む領域を拡大した写真である。ここで、チッピングは、凹凸の存在によって切断線が広がって見られる箇所として表れている。図3より、C2に沿った2回目の切断部においてのみチッピングが見られ、C1に沿った1回目の切断部にはチッピングは見られない。
このチッピングの状況を調べるために、この場合の1回目の切断面のSEM(Scanning Electron Microscopy)写真を図4(a)に、これと垂直な2回目の切断面のSEM写真を図4(b)に示す。ここで、表面11(切削ブレードが当接した側の面)は上側であり、裏面12(切削ブレードが当接下側と反対側の面)は下側とされた切断面13周囲の斜視の写真となっている。1回目の切断面13(図4(a))では、前記の通り、チッピングは発生しておらず、切断面13は平坦、すなわち、表面11と裏面12に垂直な平面として形成されている。これに対して、2回目の切断面13(図4(b))では、裏面12側に欠け14が見られ、チッピングはこの欠け14が多数形成されたことによって発生している。
ここで、この欠け14を構成する面は平面状であり、その面方位は{1−210}面であった。これは、4H−SiCにおいては{1−210}面が劈開面であることに起因する。すなわち、チッピングは、切断の際に劈開面である{1−210}面が特に露出しやすいために発生する。ただし、1回目の切断であるC1に沿った切断においてはチッピングは発生していない。この傾向は、C1とC2を垂直とし、C1(あるいはC2)の方向を変えた大部分の場合においても同様であった。
この結果より、初めに行われるC1に沿った切断においてはチッピングは発生しにくく、2回目に行われるC2に沿った切断において特にチッピングが発生しやすいことがわかる。この違いは、C1に沿った切断の際にはまだSiCウェハ10が分断されていないのに対して、C2に沿った切断の際にはこれと直交する方向においてSiCウェハ10が既に分断されていることに起因する。
C1に沿った切断においては、少なくとも切断面の両側においてSiCウェハ10は分断されておらず一体化された状態となっているため、SiCウェハ10における被切断部の機械的固定は強固となり、切断の際に回転する切削ブレードとSiCウェハ10における被切断部とは常に安定して当接する。このため、切削ブレードに対応した平面状の切断面13が形成されやすくなり、欠けは生じにくく、チッピングは発生しにくい。
一方、2回目の(C2に沿った)切断が行われる際には、これと直交する方向(C1に沿った方向)においてSiCウェハ10が既に分断されているため、SiCウェハ10における被切断部の機械的固定が不充分となる。回転する切削ブレードがSiCウェハ10と当接する際に、この被切断部が不安定となるため、欠けが生じやすい状況になる。この欠けにおいては、劈開によって{1−210}面が特に露出しやすい。図3においてC2に沿った切断においては、切断面と劈開面とは平行ではないため、切断面13にはこの劈開面で構成された凹凸(欠け14)が形成され、これがチッピングの原因となる。
このため、2回目の切断方向を、特にチッピングが発生しにくい方向とし、1回目の切断方向はこれと垂直とすれば、1回目、2回目どちらの切断部においてもチッピングの発生が抑制される。2回目の切断方向C2としては、劈開面である{1−210}面に平行な方向が最も好ましい。この場合には、切断面13自身が劈開面となるため、切断加工が最も容易となる。あるいは、仮に劈開が生じた場合でも、劈開によって生じた面は切断線に平行となるため、欠けによる凹凸は生じにくくなる。
図5(a)は、4H−SiCのc面における単位格子ベクトルa1、a2、a3と、(1−210)面及びこれと等価な面について示す。ここでは、c面とこれらの面の交線が直線として表れている。すなわち、中心から延びる単位格子ベクトルa1、a2、a3の先端を結ぶ正三角形の各辺が(1−210)面及びこれと等価な面(11−20)面、(−2110)面となる。すなわち、第2の切断工程におけるC2の方向は、c面におけるこれらのいずれかの面に平行な方向とすればよい。なお、これらの面はいずれもc面と垂直であるため、これらの面と平行かつウェハ面と垂直に切断を行った場合、形成された切断面はこれらの面と等しくなる。
これに対して、図5(b)は、4H−SiCのc面における{1−210}面と直交する面を示す。この面は、(−1100)面及びこれと平行な(1−100)面、(−1010)面及びこれと平行な(10−10)面、(0−110)面及びこれと平行な(01−10)面となる。すなわち、C1の方向は、c面におけるこれらのいずれかの面に平行な方向とすればよい。これらの面はc面と垂直であり劈開面ではない。しかしながら、第1の切断工程においてはそもそもチッピングが発生しにくいため、切断方向をこれらの面と平行に設定しても、チッピングは発生しにくい。
なお、前記の通り、C1、C2の方向を設定するためには、オリフラ15の方向が予め定められたSiCウェハ10を用いれば、切断装置において図1におけるオリフラ15を検出することによって容易に行うことができる。あるいは、オリフラ15の代わりにノッチが形成されたSiCウェハについても同様である。
なお、仮にC1とC2が直交しないように切断を行い、切断される各素子を矩形状ではなく菱形状とする場合においては、C2の方向は上記と同様とし、C1の方向は任意とすることができる。この場合においてもチッピングが抑制されることは前記の理由から明らかである。
以上により、チッピングの発生を抑制してSiCウェハの切断を行い、1枚のSiCウェハから多数のチップを得ることができる。この際、チッピングの発生が抑制されるために、素子に対してクラックが進展する等の悪影響を抑制することができる。あるいは、スクライブ線を細くすることができるため、ウェハ上における素子の占める有効面積を大きくすることができる。
また、前記の通り、SiCは特に硬度の高い材料であるため、特許文献1に記載の技術と同様に、SiCウェハ又は切削ブレードに超音波を印加して切断を行うことによって、上記の切断方法においてもその加工速度を高めることができることは明らかである。この場合においても、上記の切断方法においては同様にチッピングを抑制することができる。あるいは、SiCウェハや切削ブレードが振動した場合にはSiCウェハの切断面に欠けが発生しやすくなるため、上記の切断方法を用いて欠けの発生を抑制することは特に有効である。
10 SiC(炭化珪素)ウェハ
11 表面
12 裏面
13 切断面
14 欠け
15 オリフラ
11 表面
12 裏面
13 切断面
14 欠け
15 オリフラ
Claims (2)
- 4H−SiC(炭化珪素)単結晶からなり、主面がそのc面で構成されたSiCウェハを直交する2方向において切断する、SiCウェハの切断方法であって、
c面上において{1−210}面が構成する直線と垂直な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第1の切断工程と、
前記第1の切断工程の後で、c面上において{1−210}面が構成する直線と平行な方向に沿って、前記SiCウェハの厚さ方向の切断を切削ブレードによって行う第2の切断工程と、
を具備することを特徴とするSiCウェハの切断方法。 - 少なくとも前記第1、第2の切断工程のうちの一方において、
前記SiCウェハ又は前記切削ブレードに超音波を印加することを特徴とする請求項1に記載のSiCウェハの切断方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012231829A JP2014086446A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | SiCウェハの切断方法 |
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JP2012231829A JP2014086446A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | SiCウェハの切断方法 |
Publications (1)
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Family
ID=50789270
Family Applications (1)
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JP2012231829A Pending JP2014086446A (ja) | 2012-10-19 | 2012-10-19 | SiCウェハの切断方法 |
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JP (1) | JP2014086446A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016080102A1 (ja) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置の製造方法 |
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CN113787637A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-12-14 | 广东先导微电子科技有限公司 | 一种碲锌镉晶片的加工方法 |
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2012
- 2012-10-19 JP JP2012231829A patent/JP2014086446A/ja active Pending
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