JP2014077850A - シール構造体、液晶表示パネル用部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】シール部の剥離やガラス基板の損傷を抑制でき、液晶表示パネルの製造に用いられる液晶表示パネル用部材を良好に製造できるシール構造体を提供する。
【解決手段】シール構造体は、１対のガラス基板間に設けられるシール部および任意の構成である接着部を有し、それらの剥離強度および総接着面積が所定の関係を満たす。これにより、ガラス基板に貼り合わされた支持構造体を該シール構造体から剥離する際、シール部の剥離および１対のガラス基板の損傷を抑制する。
【選択図】図１

Description

本発明は、シール構造体に係り、特に、液晶表示パネル用部材の製造の際に使用されるシール構造体に関する。また、本発明は、このシール構造体を用いた液晶表示パネル用部材の製造方法にも関する。

近年、液晶表示パネル等の電子機器の薄型化、軽量化が進行しており、これらの電子機器に用いられるガラス基板の薄板化が進行している。しかし、ガラス基板の薄板化により、ガラス基板の強度が低下し、電子機器の製造工程におけるガラス基板のハンドリング性が低下する。

このため、従来、最終的な板厚よりも厚いガラス基板を用いて各種の素子等を形成した後、ガラス基板を化学エッチング処理により薄板化する方法が採用されている。しかしながら、このような方法によれば、例えば、ガラス基板の厚さを０．７ｍｍから０．２ｍｍまたは０．１ｍｍに薄板化する場合、元々のガラス基板の材料の大半をエッチング液で除去しなければならず、生産性や原材料の使用効率という観点から必ずしも好ましくない。

また、化学エッチングによるガラス基板の薄板化においては、ガラス基板の表面に微細な傷が存在していた場合、エッチング処理によって傷を起点とした微細な窪み（エッチピット）が形成され、光学的な欠陥となる場合がある。

上記課題に対処するために、当初から最終的な板厚を有する薄いガラス基板を用い、補強板とも呼ばれる支持構造体にガラス基板を積層して積層体とし、この積層体の状態でガラス基板に各種の素子等を形成した後、ガラス基板から支持構造体を剥離する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。支持構造体は、支持板と、該支持板上に固定された粘着剤層とを有し、粘着剤層によってガラス基板が剥離可能に密着される。最終的に、支持構造体はガラス基板から剥離され、この剥離された支持構造体には新たなガラス基板が積層されて再利用される。

特開平８−８６９９３号公報

上記積層体を用いた液晶表示パネル用部材の製造は、例えば、以下のようにして行われる。まず、１対の積層体を用意し、それぞれのガラス基板の液晶表示パネルとなる１つまたは２つ以上の形成領域に、必要に応じて薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルタ（ＣＦ）等を形成する。また、一方のガラス基板には、液晶表示パネルとなるそれぞれの形成領域を囲むようにシール材を塗布する。そして、シール材を介して１対の積層体を積層し、シール材を硬化させてシール部を形成して、シール構造体を得る。その後、シール構造体のそれぞれのガラス基板から支持構造体を剥離し、液晶表示パネルとなる領域を１つまたは２つ以上有する液晶表示パネル用部材を製造する。

しかしながら、上記方法の場合、シール構造体から支持構造体を剥離する際、必ずしも液晶表示パネル用部材と支持構造体との間で剥離せず、液晶表示パネル用部材の内部、具体的にはガラス基板とシール部との間で剥離することがあり、またガラス基板に割れ等の損傷が発生することがある。液晶表示パネル用部材にシール部の剥離やガラス基板の損傷が発生すると、その液晶表示パネル用部材を液晶表示パネルの製造に用いることができなくなる。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、支持構造体の剥離時におけるシール部の剥離やガラス基板の損傷を抑制でき、液晶表示パネル用部材の製造のために使用されるシール構造体を提供することを目的とする。

本発明者は、従来技術の問題点について検討を行ったところ、以下の構成により上記課題が解決できる点を見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、上記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、板厚が０．３ｍｍ以下の第１のガラス基板および第１のガラス基板と剥離可能に貼り合わされた第１の支持構造体を有する第１の積層体と、板厚が０．３ｍｍ以下の第２のガラス基板および第２のガラス基板と剥離可能に貼り合わされた第２の支持構造体を有する第２の積層体と、第１の積層体および第２の積層体の間において液晶表示パネルとなる形成領域を囲むように設けられたシール部と、任意の構成として、第１の積層体および第２の積層体を接着する接着部と、を有する、液晶表示パネル用部材の製造に用いられるシール構造体であって、第１のガラス基板および第２のガラス基板が対向しており、以下の関係式（１）および式（２）を満たす、シール構造体である。
式（１） ｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）＞１
式（２） ｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ２×Ｂ２）＞１
（式（１）中、Ｘ１がシール部と第１のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｙ１がシール部と第１のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ｚ１が接着部と第１のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｗ１が接着部と第１のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ａ１が第１のガラス基板と第１の支持構造体との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｂ１が第１のガラス基板と第１の支持構造体との総接触面積（ｍｍ²）を表し、式（２）中、Ｘ２がシール部と第２のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｙ２がシール部と第２のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ｚ２が接着部と第２のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｗ２が接着部と第２のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ａ２が第２のガラス基板と第２の支持構造体との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｂ２が第２のガラス基板と第２の支持構造体との総接触面積（ｍｍ²）を表す。
なお、接着部がない場合は、（Ｚ１×Ｗ１）＝０および（Ｚ２×Ｗ２）＝０とする。）

第１の態様において、シール部を複数有することが好ましい。
第１の態様において、接着部を有し、接着部がシール部に沿って直線状に設けられることが好ましい。
第１の態様において、接着部を有し、接着部が複数のシール部の全体を囲むように設けられることが好ましい。
第１の態様において、接着部を有し、接着部が複数のシール部のそれぞれを囲むように設けられることが好ましい。
第１の態様において、第１のガラス基板および第２のガラス基板が、縦７３０ｍｍ×横９２０ｍｍ以上の大きさを有することが好ましい。
第１の態様において、第１のガラス基板および／または第２のガラス基板が、無アルカリガラスからなることが好ましい。
第１の態様において、ガラス板が、酸化物基準の質量百分率表示において、下記を含有する無アルカリガラスからなることが好ましい。
ＳｉＯ₂：５０〜６６％
Ａｌ₂Ｏ₃：１０．５〜２４％
Ｂ₂Ｏ₃：０〜１２％
ＭｇＯ：０〜８％
ＣａＯ：０〜１４．５％
ＳｒＯ：０〜２４％
ＢａＯ：０〜１３．５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２９．５％
ＺｎＯ：０〜５％
第１の態様において、ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示において、下記を含有する無アルカリガラスからなることが好ましい。
ＳｉＯ₂：５８〜６６％
Ａｌ₂Ｏ₃：１５〜２２％
Ｂ₂Ｏ₃：５〜１２％
ＭｇＯ：０〜８％
ＣａＯ：０〜９％
ＳｒＯ：３〜１２．５％
ＢａＯ：０〜２％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜１８％

本発明の第２の態様は、第１の態様から第１の支持構造体および第２の支持構造体を剥離する剥離工程を備える、液晶表示パネル用部材の製造方法である。
第２の態様では、剥離工程において、シール構造体からの第１の支持構造体および第２の支持構造体の剥離は、シール構造体の一端部から徐々に行うことが好ましい。

本発明によれば、支持構造体の剥離時におけるシール部の剥離やガラス基板の損傷を抑制でき、液晶表示パネル用部材の製造のために使用されるシール構造体を提供することができる。

本発明のシール構造体の第１の実施形態を示す平面図である。 図１に示すシール構造体のＡ−Ａ線断面図である。 図１に示すシール構造体から第１の支持構造体を剥離する剥離方法を説明する説明図である。 本発明のシール構造体の第２の実施形態を示す平面図である。 図４に示すシール構造体のＡ−Ａ線断面図である。 図４に示すシール構造体から第１の支持構造体を剥離する剥離方法を説明する説明図である。 シール構造体の変形例を示す平面図である。 シール構造体の他の変形例を示す平面図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。
なお、本発明の特徴点としては、後述する式（１）および式（２）の関係を満たす点が挙げられる。式（１）および式（２）の詳細に関しては、後述する。

＜第１の実施形態＞
以下、シール構造体の第１の実施形態について図面を参照して具体的に説明する。
図１、２は、シール構造体の第１の実施形態の一例を示す平面図およびＡ−Ａ線断面図である。

シール構造体１０は、液晶表示パネル用部材２０の製造に用いられるものであって、図２に示されるように一部に液晶表示パネル用部材２０となる部分を有するものである。シール構造体１０は、第１の積層体１１、第２の積層体１２およびシール部１３を有する。なお、シール構造体１０には接着部は含まれない。

第１の積層体１１と第２の積層体１２とは間隔を設けて対向配置されている。シール部１３は、第１の積層体１１と第２の積層体１２との間において、例えば液晶表示パネルとなる形成領域を囲むように例えば複数が枠状に設けられている。図１に示すシール構造体１０では、６つの形成領域に対応して６つの枠状のシール部１３が設けられている。

第１の積層体１１は、第１のガラス基板１１１と、該第１のガラス基板１１１に剥離可能に貼り合わされた第１の支持構造体１１２とを有する。第１の支持構造体１１２は、さらに、第１の支持板１１３と、該第１の支持板１１３の一方の主面に設けられた第１の粘着層１１４とを有する。第１の支持構造体１１２は、第１の粘着層１１４によって第１のガラス基板１１１に剥離可能に貼り合わされている。

第２の積層体１２は、第２のガラス基板１２１と、該第２のガラス基板１２１に剥離可能に貼り合わされた第２の支持構造体１２２とを有する。第２の支持構造体１２２は、さらに、第２の支持板１２３と、該第２の支持板１２３の一方の主面に設けられた第２の粘着層１２４とを有する。第２の支持構造体１２２は、第２の粘着層１２４によって第２のガラス基板１２１に剥離可能に貼り合わされている。

なお、シール構造体１０のうち第１の支持構造体１１２および第２の支持構造体１２２を除いた部分、すなわち、第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１、およびこれらの間に配置されるシール部１３が液晶表示パネル用部材２０となる。

第１の積層体１１と第２の積層体１２とは、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とが対向するように配置される。第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１の表面における液晶表示パネルとなる形成領域には、図示しないが、液晶表示方式に応じて、また必要に応じて、絶縁膜、透明電極膜、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や薄膜ダイオード（ＴＦＤ）等のスイッチング素子、カラーフィルタ（ＣＦ）などが形成されている。

シール部１３は、第１の積層体１１と第２の積層体１２との間において、液晶表示パネルとなる形成領域を囲むように枠状に設けられるとともに、第１の積層体１１と第２の積層体１２とを接着する。シール部１３は、形成領域の個数に応じて形成され、図示されるように形成領域が複数の場合には複数形成され、形成領域が１つのみの場合には１つのみが形成される。

シール部１３の内部には、液晶が充填されていてもよいし、充填されていなくてもよい。液晶滴下貼り合わせ方式により製造した場合、シール構造体１０におけるシール部１３の内部には液晶が充填されており、個々のシール部１３の形状は内部の液晶を保持するために開口部を有しない連続した枠状とされている。一方、液晶注入方式により製造した場合、一般にシール構造体１０におけるシール部１３の内部には液晶が充填されておらず、個々のシール部１３の形状は後工程で内部に液晶を注入するための注入口となる開口部を有する枠状とされている。

シール構造体１０は、以下の式（１−１）および（２−１）を満たす。なお、シール構造体１０には、接着部がないことから上記式（１）中の（Ｚ１×Ｗ１）および（Ｚ２×Ｗ２）はそれぞれ０に該当する。
式（１−１） （Ｘ１×Ｙ１）／（Ａ１×Ｂ１）＞１
式（２−１） （Ｘ２×Ｙ２）／（Ａ２×Ｂ２）＞１
式（１−１）中、Ｘ１はシール部１３と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。剥離強度の測定方法は特に制限されず、ＳＡＩＣＡＳなどの公知の測定装置を使用して測定できる。Ｘ１としては、上記関係を満たしていればその値は特に制限されないが、支持構造体の剥離時におけるシール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、０．１０Ｎ／ｍｍ以上が好ましく、０．１５Ｎ／ｍｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されない。

Ｙ１は、シール部１３と第１のガラス基板１１１との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図１および２に示すシール部１３の場合、６つの枠状のシール部１３が第１のガラス基板１１と接触している面積の総和を意味する。言い換えると、図１中のシール部１３の占める総面積に該当する。

Ａ１は、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。上述したように、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２とは、剥離可能に貼り合わされている。Ａ１としては、上記関係を満たしていればその値は特に制限されないが、支持構造体の剥離時におけるシール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、０．０１５Ｎ／ｍｍ以下が好ましく、０．０１０Ｎ／ｍｍ以下がより好ましい。上限は特に制限されないが、第１のガラス基板１１１の位置ずれをより抑制できる点で、０．００１Ｎ／ｍｍ以上が好ましい。

Ｂ１は、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図１および２の場合、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２とは全面に渡って接触しており、両者の総接触面積は第１のガラス基板１１１（または第１の支持構造体１１２）の面積に該当する。

シート構造体１０が式（１−１）の関係を満たすことにより、シート構造体１０から第１の支持構造体１１２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第１のガラス基板１１１の損傷を抑制できる。
シール部１３と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度と、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との間の剥離強度との差を制御するのみでは、第１の支持構造体１１２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第１のガラス基板１１１の損傷を十分には抑制することができない。これは第１の支持構造体１１２を剥離する際に係る応力が、局所的な部分のみならず、面全体に波及するためと推測される。そこで、本発明者らは、シール部１３と第１のガラス基板１１１との総接触面積、および、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との総接触面積が所望の効果の発現に重要な役割を果たしていることに想到し、式（１−１）の関係を満たすことが必要である点を見出している。つまり、式（１−１）においては、シール部１３と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度Ｘ１と接触面積Ｙ１とを乗して得られる値と、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との間の剥離強度Ａ１と接触面積Ｂ１とを乗して得られる値とを比較して、その値が所定値超であれば、シール部の剥離やガラス基板の損傷を抑制できることを意図している。なお、剥離強度と総接触面積とを乗じて得られる値は、接着している両者の間での剥離エネルギーの総和を意図する。
なお、式（１−１）においては、（Ｘ１×Ｙ１）／（Ａ１×Ｂ１）が１超であるが、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、１．１０以上が好ましく、１．４０以上がより好ましい。なお、上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。

また、シート構造体１０が式（２−１）の関係を満たすことにより、シート構造体１０から第２の支持構造体１２２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第２のガラス基板１２１の損傷を抑制できる。
式（２−１）中、Ｘ２はシール部１３と第２のガラス基板１２１との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。剥離強度の測定方法は特に制限されず、ＳＡＩＣＡＳなどの公知の測定装置を使用して測定できる。Ｘ２の好適態様は、上記Ｘ１の好適態様と同じである
Ｙ２は、シール部１３と第２のガラス基板１２１との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図１および２に示すシール部１３の場合、６つの枠状のシール部１３が第２のガラス基板１２１と接触している面積の総和を意味する。
Ａ２は、第２のガラス基板１２１と第２の支持構造体１２２との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。上述したように、第２のガラス基板１２１と第２の支持構造体１２２とは、剥離可能に貼り合わされている。Ａ２の好適態様は、上記Ａ１の好適態様と同じである。
Ｂ２は、第２のガラス基板１２１と第２の支持構造体１２２との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図１および２の場合、第２のガラス基板１２１と第２の支持構造体１２２とは全面に渡って接触しており、両者の総接触面積は第１のガラス基板１１１（または第１の支持構造体１１２）の面積に該当する。
さらに、式（２−１）においては、（Ｘ２×Ｙ２）／（Ａ２×Ｂ２）が１超であるが、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、１．１０以上が好ましく、１．４０以上がより好ましい。なお、上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。

また、シール構造体１０において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｘ１／Ａ１またはＸ２／Ａ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。
さらに、シール構造体１０において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｙ１／Ｂ１またはＹ２／Ｂ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。

第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１としては、それぞれ板厚が０．３ｍｍ以下のガラス板が用いられる。板厚を０．３ｍｍ以下とすることで、液晶表示パネルを効果的に軽量化できる。第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１の大きさは、特に制限されないが、例えば、縦１００ｍｍ以上×横１００ｍｍ以上が好ましく、縦５００ｍｍ以上×横５００ｍｍ以上がより好ましい。特に、縦７３０ｍｍ以上×横９２０ｍｍ以上の大きさが好ましい。このような大きさとすることで、複数の液晶表示パネルを効率的に製造できる。このような第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１としては、液晶表示パネルの製造に用いられる公知のガラス板が用いられる。

ガラス板は、ガラス原料を溶融し、溶融ガラスを板状に成形して得られる。このような成形方法としては、一般的なものであってよく、例えば、フロート法、フュージョン法、スロットダウンドロー法、フルコール法、ラバース法等が用いられる。特に、板厚が薄いガラス板は、一旦板状に成形したガラスを成形可能温度に加熱し、延伸等の手段で引き伸ばして薄くする方法（リドロー法）により好適に成形して得られる。

ガラス板の種類は、必ずしも限定されず、無アルカリホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラスが好ましい。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が４０〜９０質量％のガラスが好ましい。

アルカリ金属成分の溶出は液晶に影響を与えやすいことから、特にアルカリ金属成分を実質的に含まないガラス（無アルカリガラス）が好ましい。無アルカリガラスとしては、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ₂：５０〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃：１０．５〜２４％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜１２％、ＭｇＯ：０〜８％、ＣａＯ：０〜１４．５％、ＳｒＯ：０〜２４％、ＢａＯ：０〜１３．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２９．５％、ＺｎＯ：０〜５％を含有するものが挙げられる。

ＳｉＯ₂は、その含有量が５０％未満では、歪点が充分に上げられないとともに、化学耐久性が悪化し、熱膨張係数が増大する。６６％を超えると熔解性が低下し、失透温度が上昇する。好ましくは、５８〜６６モル％である。

Ａｌ₂Ｏ₃は、ガラスの分相性を抑制し、熱膨張係数を下げ、歪点を上げる。その含有量が１０．５％未満ではこの効果が現れず、２４％を超えるとガラスの熔解性が悪くなる。好ましくは、１５〜２２％である。

Ｂ₂Ｏ₃は、必須ではないが、半導体形成に用いられる各種薬品等に対する化学耐久性を向上させるとともに、高温での粘性を高くさせずに熱膨張係数と密度の低下を達成できる。その含有量が１２％を超えると耐酸性が悪くなるとともに歪点が低くなる。好ましくは、５〜１２％である。

ＭｇＯはアルカリ土類金属酸化物の中では熱膨張係数を低くし、かつ歪点が低下しないため、必須ではないが含有させることができる。その含有量が８％を超えると、半導体形成に用いられる各種薬品等に対する化学耐久性が低下し、またガラスの分相が生じやすくなる。

ＣａＯは、必須ではないが、含有することによりガラスの熔解性を向上させうる。一方、１４．５％を超えると熱膨張係数が大きくなり、失透温度も上昇する。好ましくは、０〜９％である。

ＳｒＯは、必須ではないが、ガラスの分相を抑制し、半導体形成に用いられる各種薬品等に対する化学耐久性を向上させるために有用な成分である。その含有量が２４％を超えると膨張係数が増大する。好ましくは、３〜１２．５％である。

ＢａＯは、必須ではないが、密度が小さく熱膨張係数を小さくするという観点から有用な成分である。その含有量は、０〜１３．５％であり、０〜２％が好ましい。

ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｓｒ＋ＢａＯが９％未満では熔解を困難になり、２９．５％を超えると密度が大きくなる。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｓｒ＋ＢａＯは、好ましくは９〜１８％である。

ＺｎＯは、必須ではないが、ガラスの熔解性、清澄性、成形性を改善するために添加できる。その含有量は、０〜５％が好ましく、０〜２％がより好ましい。

無アルカリガラスには、上記成分以外にも、ガラスの熔解性、清澄性、成形性を改善するために、ＳＯ₃、Ｆ、Ｃｌを総量で５％以下添加できる。

無アルカリガラスとしては、好ましくは、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ₂：５８〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃：１５〜２２％、Ｂ₂Ｏ₃：５〜１２％、ＭｇＯ：０〜８％、ＣａＯ：０〜９％、ＳｒＯ：３〜１２．５％、ＢａＯ：０〜２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜１８％を含有するものが挙げられる。

無アルカリガラスの歪点は、６４０℃以上が好ましく、６５０℃以上がより好ましい。熱膨張係数は、４０×１０^-7／℃未満が好ましく、３０×１０^-7／℃以上４０×１０^-7／℃未満が好ましい。密度は、２．６０ｇ／ｃｃ未満が好ましく、２．５５ｇ／ｃｃ未満がより好ましく、２．５０ｇ／ｃｃ未満がさらに好ましい。

第１の支持板１１３、第２の支持板１２３としては、第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１を有効に支持できれば特に限定されず、ガラス板、金属板、樹脂板が好適なものとして挙げられる。第１のガラス基板１１１と第１の支持板１１３との線膨張係数の差は、１５０×１０^-7／℃以下が好ましく、１００×１０^-7／℃以下がより好ましく、５０×１０^-7／℃以下がさらに好ましい。同様に、第２のガラス基板１２１と第２の支持板１２３との線膨張係数の差は、１５０×１０^-7／℃以下が好ましく、１００×１０^-7／℃以下がより好ましく、５０×１０^-7／℃以下がさらに好ましい。

ガラス板としては、第１のガラス基板１１１や第２のガラス基板１２１に用いられるものと同様の種類のものが用いられ、無アルカリホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラスが好ましい。金属板としては、ステンレス綱、銅等が例示される。

樹脂板としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリアクリル樹脂、各種液晶ポリマー樹脂、シリコーン樹脂等が例示される。

第１の支持板１１３、第２の支持板１２３の板厚は、特に限定されないが、第１のガラス基板１１１、第２のガラス基板１２１を有効に支持する観点から、それぞれ０．１〜１．１ｍｍの板厚が好ましい。第１の支持板１１３、第２の支持板１２３の板厚は、特に現行の液晶表示パネルの製造ラインに適用できる板厚が好ましい。例えば、現行の液晶表示パネルの製造ラインに使用されているガラス基板の板厚は０．５〜１．２ｍｍの範囲内にあり、特に０．７ｍｍが多い。従って、例えば第１の積層体１１や第２の積層体１２の板厚が０．７ｍｍとなるように、第１のガラス基板１１１や第２のガラス基板１２１の板厚が０．３ｍｍ以下であることを考慮しつつ、第１の支持板１１３や第２の支持板１２３の板厚を決定することが好ましい。

第１の粘着層１１４は、第１のガラス基板１１１を剥離可能に貼り合わせることができ、第１の支持板１１３と第１の粘着層１１４との剥離強度に比べて、第１のガラス基板１１１と第１の粘着層１１４との剥離強度が低くなるものであれば特に制限されない。第１の粘着層１１４は、主に、第１のガラス基板１１１の位置ずれを抑制するために使用される。
なお、第２の粘着層１２４についても基本的に同様であるため、第１の粘着層１１４についてのみ説明する。

シール構造体１０から第１の支持構造体１１２を剥離する場合、第１のガラス基板１１１と第１の粘着層１１４との間で剥離し、第１の支持板１１３と第１の粘着層１１４との間では剥離しないことが必要となる。従って、第１の粘着層１１４は、第１の支持板１１３とは容易に剥離せず、第１のガラス基板１１１とは容易に剥離することが好ましい。

第１の支持板１１３と第１の粘着層１１４との剥離強度に比べて、第１のガラス基板１１１と第１の粘着層１１４との剥離強度を低くする方法としては、例えば、第１の粘着層１１４を構成するものとして硬化性シリコーン樹脂組成物を用い、第１の支持板１１３上に硬化性シリコーン樹脂組成物を塗布し、硬化させて第１の粘着層１１４を形成した後、第１の粘着層１１４上に第１のガラス基板１１１を貼り合わせる方法が挙げられる。

また、第１のガラス基板１１１と第１の支持板１１３との双方に硬化性シリコーン樹脂組成物を接触させて硬化させたとしても、第１のガラス基板１１１との剥離強度よりも第１の支持板１１３との剥離強度が高くなる場合には、第１のガラス基板１１１と第１の支持板１１３との双方に硬化性シリコーン樹脂組成物を接触させて硬化させてもよい。このような方法としては、例えば、第１の支持板１１３の表面に対して、結合力を高めるためにシラノール基の濃度を高める表面処理を行う方法が挙げられる。

硬化性シリコーン樹脂組成物としては、例えば、線状のオルガノアルケニルポリシロキサンと、線状のオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、触媒等の添加剤とを含有し、加熱により硬化する付加反応型の硬化性シリコーン樹脂組成物が好ましい。付加反応型の硬化性シリコーン樹脂組成物は、他の硬化性シリコーン樹脂組成物に比べて、硬化反応が進行しやすく、硬化収縮も低く、硬化物の剥離が容易である。付加反応型の硬化性シリコーン樹脂組成物の形態としては、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型等が挙げられるが、いずれの形態であってもよい。付加反応型の硬化性シリコーン樹脂組成物としては、例えば国際公開２０１１／０２４７７５号パンフレットに開示されるものが好ましい。

なお、第１の実施形態では第１の粘着層１１４および第２の粘着層１２４が使用されているが、第１のガラス基板１１１と第１の支持基板１１３との間、および、第１のガラス基板１２１と第１の支持基板１２３との間が所望の関係で剥離可能に積層できる場合は、第１の粘着層１１４および第２の粘着層１２４は使用されなくてもよい。

シール部１３は、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着できれば特に制限されず、この種の液晶表示パネル用部材の製造に一般的に用いられている公知のエポキシ系樹脂等のシール材を硬化させたものが使用できる。

シール部１３の幅は、０．０８ｍｍ以上が好ましい。幅を０．０８ｍｍ以上とすることで、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とをシール部１３によって効果的に接着でき、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。幅は、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．５ｍｍ以上がさらに好ましい。幅は、通常、０．１ｍｍ程度あれば十分に第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着でき、生産性等の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。
また、シール部１３を設ける場合、最も外周部にあるシール部１３の積層体端辺からの距離が１０ｍｍの範囲に設けられることが好ましい。積層体端辺からの距離を近くすることでシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。最も外周部にあるシール部１３の積層体端辺からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。

（シート構造体の製造方法）
シート構造体１０の製造方法は特に制限されず、公知の方法で製造できる。例えば、第１の積層体１１と第２の積層体１２とを製造した後、第１の積層体１１における第１のガラス基板１１１または第２の積層体１２における第２のガラス基板１２１の形成領域を囲むようにシール部１３となるシール材を塗布する。その後、液晶滴下貼り合わせ方式を採用する場合には、形成領域に液晶滴下後、シール材および液晶を介して第１の積層体１１と第２の積層体１２とを積層する。また、液晶注入方式を採用する場合には、シール材を介して第１の積層体１１と第２の積層体１２とを積層する。
なお、シール材の塗布方法は、特に制限されず、ディスペンサやインクジェット装置を用いて描画してもよいし、スクリーン印刷により印刷してもよい。なお、シール材としては、エポキシ系樹脂に限られず、例えば紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等であってもよい。

第１の積層体１１と第２の積層体１２との積層後、シール材の硬化を行う。シール材の硬化は、シール材の硬化方式に応じて最適な硬化方法を採用でき、例えば、シール材としてエポキシ系樹脂等を用いた場合には加熱により硬化を行い、シール材として紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等を用いた場合には紫外線照射により硬化を行う。

なお、第１の積層体１１は、例えば、支持構造体１１２に第１のガラス基板１１１を剥離可能に貼り合わせることで製造される。支持構造体１１２は、例えば、第１の支持板１１３に第１の粘着層１１４となる硬化性シリコーン樹脂組成物を塗布し、該硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させて製造する。第１の積層体１１は、例えば、このようにして製造された支持構造体１１２の第１の粘着層１１４に第１のガラス基板１１１を貼り合わせて製造する。貼り合わせ方法としては、例えば、加圧チャンバを用いた非接触式の圧着方法、ロールやプレスを用いた接触式の圧着方法が挙げられる。第２の積層体１２についても、基本的に同様にして製造できる。

第１の積層体１１における第１のガラス基板１１１および第２の積層体１２における第２のガラス基板１２１のそれぞれの形成領域には、液晶表示方式に応じて、また必要に応じて、絶縁膜、透明電極膜、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や薄膜ダイオード（ＴＦＤ）等のスイッチング素子、カラーフィルタ（ＣＦ）等を形成する（パターンニング工程）。また、液晶分子が配列できるように、ポリイミド膜等の配向膜を印刷し、配向させるための溝を形成する（ラビング工程）。

（液晶表示パネル用部材）
シール構造体１０からは、第１の支持構造体１１２および第２の支持構造体１２２が剥離されて、液晶表示パネル用部材２０が製造される。
シール構造体１０からの第１の支持構造体１１２の剥離は、例えば、液晶表示パネル用部材２０と第１の支持構造体１１２との一端部、特に角部の界面に鋭利な刃物状のものを差し込み、剥離のきっかけを与えた上で、この差し込み部分に水と圧縮空気との混合流体を吹き付ける方法等によって行うことができる。剥離は、例えば図３に示すように、液晶表示パネル用部材２０と第１の支持構造体１１２との一端部、特に角部から対向する角部に向けて徐々に行うことが好ましい。

好ましくは、シール構造体１０の両面を複数の真空吸着パッドによって真空吸着し、この状態で液晶表示パネル用部材２０と第１の支持構造体１１２との一端部、特に角部の界面に鋭利な刃物状のものを差し込み、この差し込み部分から徐々に第１の支持構造体１１２が剥離するように、第１の支持構造体１１２を吸着している真空吸着パッドを持ち上げるように移動させて行う。

シール構造体１０（液晶表示パネル用部材２０）からの第２の支持構造体１２２の剥離についても基本的に同様にして行うことができる。

液晶滴下貼り合わせ方式を採用した場合、製造された液晶表示パネル用部材２０のそれぞれの液晶表示パネルとなるシール部１３には液晶が充填されている。従って、例えばシール部１３が複数形成されている場合には、それぞれのシール部１３に切り離すことによって液晶表示パネルを製造できる。

また、液晶注入方式の場合、一般に製造された液晶表示パネル用部材２０のそれぞれの液晶表示パネルとなるシール部１３には液晶が充填されていない。従って、シール部１３に液晶を注入して液晶表示パネルとする。具体的には、例えば、液晶表示パネル用部材２０の状態で液晶の注入を行い、その後にそれぞれのシール部１３に切り離して液晶表示パネルとする。また、例えば、液晶表示パネル用部材２０をそれぞれのシール部１３に切り離した後、それぞれのシール部１３に液晶を注入して液晶表示パネルとしてもよいし、液晶表示パネル用部材２０を幾つかのシール部１３を含む所定の大きさに切り離した後、それぞれのシール部１３に液晶を注入し、さらにそれぞれのシール部１３に切り離して液晶表示パネルとしてもよい。

このようにして製造される液晶表示パネルは、各種電子機器の表示部として用いることができる。電子機器としては、例えば、携帯電話機、ノート型パソコン等のパーソナルコンピュータ、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）等の携帯型情報機器、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載用モニタ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ＰＯＳ端末機等が挙げられる。

なお、液晶表示パネルは、透過型、反射型、または半透過型、またモノクロまたはカラーの各種の液晶表示パネルとすることができる。また、パッシブマトリックス型、アクティブマトリクス型の各種の液晶表示パネルとすることができる。

＜第２の実施形態＞
以下、シール構造体の第２の実施形態について図面を参照して具体的に説明する。
図４、５は、シール構造体の第２の実施形態の一例を示す平面図およびＡ−Ａ線断面図である。

シール構造体２００は、液晶表示パネル用部材２０の製造に用いられるものであって、図４および５に示されるように一部に液晶表示パネル用部材２０となる部分を有するものである。シール構造体２００は、第１の積層体１１、第２の積層体１２、シール部１３および接着部１４を有する。
シール構造体２００の形態であれば、シール構造体から１対の支持構造体を剥離するときの液晶表示パネル用部材となる部分の損傷をより抑制できる。
具体的には、シール構造体のそれぞれのガラス基板から支持構造体を剥離する際、シール部の近傍に該シール部とは別に接着部が設けられていることで、シール部に局所的に加えられる応力を低減でき、シール部の剥離、すなわちガラス基板とシール部との剥離を抑制できる。また、シール部の近傍に該シール部とは別に接着部が設けられていることで、ガラス基板に局所的に加えられる応力も低減でき、ガラス基板の破損も抑制できる。
図４および５に示すシール構造体２００は、接着部１４を備える点を除いて、図１に示すシール構造体１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、主として接着部１４について説明する。

接着部１４は、シール部１３の外側において第１の積層体１１と第２の積層体１２とを接着し、シール構造体１０から第１の支持構造体１１２や第２の支持構造体１２２を剥離する際、液晶表示パネル用部材２０となる部分の損傷、具体的にはシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の損傷を抑制できるような形状および配置とされる。すなわち、剥離時の液晶表示パネル用部材２０となる部分の損傷を抑制できるものであれば、接着部１４の形状や配置等は特に制限されない。

接着部１４は、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着できれば特に制限されず、エポキシ系樹脂等の接着材を硬化させて形成される。

接着部１４は、例えば図４に示すように、シール部１３に沿って直線状に設けられる。例えば、シール構造体２００が長方形状の場合、シール構造体２００の長辺とこれに隣接するシール部１３との間にシール構造体２００の長辺方向に延びるように設けられるとともに、シール構造体２００の短辺方向におけるシール部１３同士の間にシール構造体２００の長辺方向に延びるように設けられている。

直線状の接着部１４を設ける場合、シール構造体２００の長辺方向において、シール部１３が設けられている領域と同様の領域に同様の長さで設けられるか、それよりも長い領域に設けられることが好ましい。具体的には、図４に示されるように、シール構造体２００の長辺方向に３つのシール部１３が設けられている場合、これら３つのシール部１３が設けられている領域と同様の領域に同様な長さか、それよりも長く設けられることが好ましい。このような領域および長さに設けられることで、例えば図６に示すように１つの角部から第２の支持構造体１２２が剥離される際、剥離境界線Ｌがシール部１３上に位置すると同時に接着部１４上にも位置することとなり、シール部１３の一部のみに局所的に応力が加わることを抑制でき、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を抑制できる。

また、シール部１３または接着部１４を設ける場合、最も外周部にあるシール部１３または接着部１４のいずれかの積層体端辺からの距離が１０ｍｍの範囲に設けられることが好ましい。積層体端辺からの距離を近くすることでシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。最も外周部にあるシール部１３または接着部１４の積層体端辺からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。
また、直線状の接着部１４を設ける場合、シール構造体２００の長辺と該長辺に隣接するシール部１３との間に設けられる接着部１４は、シール部１３からの距離が１０ｍｍの範囲内に設けられることが好ましい。シール部１３から接着部１４までの距離を近くすることで、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。シール部１３からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。なお、シール部１３からの距離は必ずしも一定である必要はなく、直線状の接着部１４の長さ方向で異なっていてもよいが、全体として上記範囲内となっていることが好ましい。また、シール部１３から接着部１４までの距離は、近いほど好ましく、接着部１４はシール部１３と接触するように設けられていても構わない。ここで、シール部１３から接着部１４までの距離は、シール部１３の側面部と接着部１４の側面部との間の距離とする。

直線状の接着部１４を設ける場合、シール構造体２００の長辺と該長辺に隣接するシール部１３との間に少なくとも設けることが好ましいが、シール構造体２００の短辺方向におけるシール部１３同士の間にも設けることが好ましい。なお、シール構造体２００の短辺方向に３つ以上のシール部１３が設けられる場合、シール部１３同士の全ての間に設けられることが好ましい。シール構造体２００の短辺方向におけるシール部１３同士の間に設けられる接着部１４は、接着部１４の両側に位置するシール部１３への応力を均等にする観点から、シール部１３同士の中央部分に設けられることが好ましい。

直線状の接着部１４の幅は、０．０８ｍｍ以上が好ましい。幅を０．０８ｍｍ以上とすることで、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着部１４によって効果的に接着でき、シール部の剥離ならびにガラス基板の破損を効果的に抑制できる。幅は、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．５ｍｍ以上がさらに好ましい。幅は、通常、０．１ｍｍ程度あれば十分に第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着でき、生産性等の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。

シール構造体２００は、以下の式（１）および（２）を満たす。
式（１） ｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）＞１
式（２） ｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ２×Ｂ２）＞１
式（１）中、Ｘ１、Ｙ１、Ａ１およびＢ１の定義は上述の通りである。
式（１）中、Ｚ１は接着部１４と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。剥離強度の測定方法は特に制限されず、ＳＡＩＣＡＳなどの公知の測定装置を使用して測定できる。Ｚ１としては、上記関係を満たしていればその値は特に制限されないが、支持構造体の剥離時におけるシール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、０．１０Ｎ／ｍｍ以上が好ましく、０．１５Ｎ／ｍｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されない。

Ｗ１は、接着部１４と第１のガラス基板１１１との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図４および５に示す接着部１４の場合、３つの直線状の接着部１４が第１のガラス基板１１と接触している面積の総和を意味する。言い換えると、図４中の接着部１４の占める総面積に該当する。

シート構造体２００が式（１）の関係を満たすことにより、シート構造体２００から第１の支持構造体１１２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第１のガラス基板１１１の損傷を抑制できる。
シール部１３と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度と、接着部１４と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度と、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との間の剥離強度との差を制御するのみでは、第１の支持構造体１１２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第１のガラス基板１１１の損傷を十分には抑制するができない。これは第１の支持構造体１１２を剥離する際に係る応力が、局所的な部分のみならず、面全体に波及するためと推測される。本発明者らは、シール部１３と第１のガラス基板１１１との総接触面積と、接着部１４と第１のガラス基板１２１との総接触面積と、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との総接触面積とが所望の効果の発現に重要な役割を果たしていることに想到し、式（１）の関係を満たすことが重要である点を見出している。つまり、式（１）においては、シール部１３と第１のガラス基板１１１との間の剥離強度Ｘ１と接触面積Ｙ１とを乗して得られる値および接着部１４と第１のガラス基板１２１との間の剥離強度Ｚ１と接触面積Ｗ１とを乗じて得られる値との総和と、第１のガラス基板１１１と第１の支持構造体１１２との間の剥離強度Ａ１と接触面積Ｂ１とを乗して得られる値とを比較して、その値が所定値超であれば、シール部の剥離やガラス基板の損傷を抑制できることを意図している。
なお、式（１）においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）は１超であるが、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、１．１以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。なお、上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。

また、シート構造体２００が式（２）の関係を満たすことにより、シート構造体２００から第２の支持構造体１２２を剥離する際に、シール部１３の剥離や第２のガラス基板１２１の損傷を抑制できる。
式（２）中、Ｘ２、Ｙ２、Ａ２およびＢ２の定義は上述の通りである。
式（２）中、Ｚ２は接着部１４と第２のガラス基板１２１との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表す。剥離強度の測定方法は特に制限されず、ＳＡＩＣＡＳなどの公知の測定装置を使用して測定できる。Ｚ２の好適態様は、Ｚ１の好適態様と同義である。
Ｗ２は、接着部１４と第１のガラス基板１２１との総接触面積（ｍｍ²）を表す。図４および５に示す接着部１４の場合、３つの直線状の接着部１４が第２のガラス基板１２１と接触している面積の総和を意味する。
さらに、式（２）においては、｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ２×Ｂ２）は１超であるが、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、１．１以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。なお、上限は特に制限されないが、１０以下の場合が多い。

また、シール構造体２００において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｘ１／Ａ１またはＸ２／Ａ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。
また、シール構造体２００において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｚ１／Ａ１またはＺ２／Ａ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。
また、シール構造体２００において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｙ１／Ｂ１またはＹ２／Ｂ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。
さらに、シール構造体２００において、シール部の剥離やガラス基板の損傷をより抑制できる点で、Ｗ１／Ｂ１またはＷ２／Ｂ２は５〜１００が好ましく、１０〜１００がより好ましい。

（シート構造体の製造方法）
シート構造体２００の製造方法は特に制限されず、公知の方法で製造できる。例えば、第１の積層体１１と第２の積層体１２とを製造した後、第１の積層体１１における第１のガラス基板１１１または第２の積層体１２における第２のガラス基板１２１の形成領域を囲むようにシール部１３となるシール材を塗布すると共に、その外側の所定の形状に接着部１４となる接着材を塗布する。その後、液晶滴下貼り合わせ方式を採用する場合には、形成領域に液晶滴下後、シール材、および液晶を介して第１の積層体１１と第２の積層体１２とを積層する。また、液晶注入方式を採用する場合には、シール材および接着材を介して第１の積層体１１と第２の積層体１２とを積層する。
なお、シール材および接着材の塗布方法は、特に制限されず、ディスペンサやインクジェット装置を用いて描画してもよいし、スクリーン印刷により印刷してもよい。なお、シール材および接着材としては、エポキシ系樹脂に限られず、例えば紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等であってもよい。
シール部１３と接着部１４とは同じ材料で形成されていてもよく、異なる材料で形成されていてもよい。

第１の積層体１１と第２の積層体１２との積層後、シール材および接着材の硬化を行う。シール材および接着材の硬化は、シール材および接着材の硬化方式に応じて最適な硬化方法を採用でき、例えば、シール材および接着材としてエポキシ系樹脂等を用いた場合には加熱により硬化を行い、シール材および接着材として紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等を用いた場合には紫外線照射により硬化を行う。シールと接着材とで硬化方式が異なる場合には、硬化を２回以上の工程に分けて行ってもよい。

接着部１４の形成は、シール部１３の形成と同時に行うことが好ましい。具体的には、シール部１３となるシール材の塗布と同時に接着部１４となる接着材の塗布を行い、第１の積層体１１と第２の積層体１２とをシール材および接着材の塗布物を介して積層し、加熱等を行って両者を硬化させることが好ましい。特に、シール部１３の形成に用いられるシール材と、接着部１４の形成に用いられる接着材とを同一材料からなるものとし、シール材および接着材の塗布を同一装置を用いて同一工程で行うことが好ましい。このような方法によることで、接着部１４を効率的に形成できる。

なお、シール材と接着材とは、必ずしも双方を第１の積層体１１における第１のガラス基板１１１または第２積層体１２における第２のガラス基板１２１の一方に塗布して形成する必要はなく、互いに独立して塗布して形成することもできる。例えば、第１の積層体１１における第１のガラス基板１１１にシール材を塗布し、第２の積層体１２における第２のガラス基板１２１に接着材を塗布してもよく、逆の状態としてもよい。

シール構造体２００からは、第１の支持構造体１１２および第２の支持構造体１２２が剥離されて、液晶表示パネル用部材２０が製造される。剥離の方法は、第１の実施形態と同様の手順で行うことができる。
より具体的には、例えば、図６に示すように一端側から第１の支持構造体１１２が剥離される。具体的には、シール構造体２００の１つの角部から対向する角部の方向にかけて徐々に剥離される。この際、シール部１３の近傍に接着部１４が設けられていることで、既に剥離された部分とこれから剥離される部分との境界線であって応力が加わりやすい剥離境界線Ｌが、シール部１３上に位置すると同時に近傍の接着部１４上にも位置することとなる。これにより、シール部１３の一部のみに局所的に応力が加わることを抑制でき、シール部１３の剥離、具体的には、第１のガラス基板１１１とシール部１３との剥離、第２のガラス基板１２１とシール部１３との剥離を抑制できる。同様に、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１に局所的に応力が加わることも抑制でき、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損も抑制できる。なお、第２の支持構造体１２２を剥離する場合についても、基本的に同様にして行うことができ、また同様の効果を得ることができる。
なお、通常、接着部１４については不要部分として、シール部１３から切り離されて廃棄される。

図７は、シール構造体１０の変形例を示す平面図であり、特に接着部１４の変形例を示す平面図である。
このシール構造体３００については、接着部１４以外の構成、すなわち、第１の積層体１１、第２の積層体１２、およびシール部１３の構成は、図４、５に示すシール構造体２００と同様である。このシール構造体３００については、接着部１４が複数のシール部１３の全体を囲むように第１の積層体１１および第２の積層体１２の周縁部に沿って設けられている点が異なる。

複数のシール部１３の全体を囲むように枠状の接着部１４を設けることによっても、図６に示したような剥離境界線Ｌがシール部１３上に位置すると同時に接着部１４上にも位置することとなり、シール部１３の一部のみに局所的に応力が加わることを抑制でき、シール部１３の剥離、具体的には、第１のガラス基板１１１とシール部１３との剥離、第２のガラス基板１２１とシール部１３との剥離を抑制できる。同様に、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１に局所的に応力が加わることも抑制でき、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損も抑制できる。

枠状の接着部１４を設ける場合、シール構造体１０の長辺と該長辺に隣接するシール部１３との間に設けられる接着部１４は、シール部１３からの距離が１０ｍｍの範囲内に設けられることが好ましい。シール部１３から接着部１４までの距離を近くすることで、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。シール部１３からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。なお、シール部１３からの距離は必ずしも一定である必要はなく、接着部１４の長さ方向で異なっていてもよいが、全体として上記範囲内となっていることが好ましい。
また、枠状の接着部１４を設ける場合、最も外周部にある接着部１４の積層体端辺からの距離が１０ｍｍの範囲に設けられることが好ましい。積層体端辺からの距離を近くすることでシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。枠状の接着部１４の積層体端辺からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。

また、シール構造体１０の短辺と該短辺に隣接するシール部１３との間に設けられる接着部１４は、シール部１３からの距離が１０ｍｍの範囲内に設けられていることが好ましい。シール部１３から接着部１４までの距離を近くすることで、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。シール部１３からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。なお、シール部１３からの距離は必ずしも一定である必要はなく、接着部１４の長さ方向で異なっていてもよいが、全体として上記範囲内となっていることが好ましい。

枠状の接着部１４の幅は、０．０８ｍｍ以上が好ましい。幅を０．０８ｍｍ以上とすることで、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着部１４によって効果的に接着でき、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。幅は、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．５ｍｍ以上がさらに好ましい。幅は、通常、０．１ｍｍ程度あれば十分に第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着でき、生産性等の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。

図８は、シール構造体１０の別の変形例を示す平面図であり、特に接着部１４の変形例を示す平面図である。
このシール構造体４００についても、接着部１４以外の構成、すなわち、第１の積層体１１、第２の積層体１２、およびシール部１３の構成は、図４、５に示すシール構造体１００と同様である。このシール構造体４００については、接着部１４が複数のシール部１３のそれぞれを囲むように設けられている点が異なる。

複数のシール部１３のそれぞれを囲むように枠状の接着部１４を設けることによっても、図３に示したような剥離境界線Ｌがシール部１３上に位置すると同時に接着部１４上にも位置することとなり、シール部１３の一部のみに局所的に応力が加わることを抑制でき、シール部１３の剥離、具体的には、第１のガラス基板１１１とシール部１３との剥離、第２のガラス基板１２１とシール部１３との剥離を抑制できる。同様に、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１に局所的に応力が加わることも抑制でき、第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損も抑制できる。特に、複数のシール部１３のそれぞれを囲むように枠状の接着部１４を設けることで、他の形状の接着部１４を設ける場合に比べて、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。

上記したような枠状の接着部１４を設ける場合、接着部１４は、シール部１３からの距離が１０ｍｍの範囲内に設けられることが好ましい。シール部１３から接着部１４までの距離を近くすることで、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。シール部１３からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。なお、シール部１３からの距離は必ずしも一定である必要はなく、接着部１４の長さ方向（周方向）で異なっていてもよいが、全体として上記範囲内となっていることが好ましい。
また、上記したような枠状の接着部１４を設ける場合、最も外周部にある接着部１４の積層体端辺からの距離が１０ｍｍの範囲に設けられることが好ましい。積層体端辺からの距離を近くすることでシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。上記したような枠状の接着部１４の積層体端辺からの距離は、５ｍｍの範囲内がより好ましく、３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。

枠状の接着部１４の幅は、０．０８ｍｍ以上が好ましい。幅を０．０８ｍｍ以上とすることで、第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着部１４によって効果的に接着でき、シール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の破損を効果的に抑制できる。幅は、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．５ｍｍ以上がさらに好ましい。幅は、通常、０．１ｍｍ程度あれば十分に第１のガラス基板１１１と第２のガラス基板１２１とを接着でき、生産性等の観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。

以上、接着部１４の代表的な形状等について説明したが、接着部１４の形状等は、シール構造体１０から第１の支持構造体１１２および第２の支持構造体１２２を剥離する際、液晶表示パネル用部材２０となる部分の損傷、具体的にはシール部１３の剥離ならびに第１のガラス基板１１１および第２のガラス基板１２１の損傷を抑制できるような形状および配置等であれば特に制限されない。
例えば、接着部１４は、図７に示すような複数のシール部１３の全体を囲むものや、図８に示すようなそれぞれのシール部１３を囲むものに限定されず、複数のシール部１３のうち隣接する一部のシール部１３のみを囲むものであってもよいし、複数のシール部１３同士の各間に設けられるような格子状であってもよく、必要に応じて、かつシール部１３の個数や配置に応じて、上記したような各形状を組み合わせることができる。また、直線状または枠状の接着部１４は、必ずしも連続した線状部分から構成される必要はなく、点線状等の不連続な線状部分から構成されてもよい。

以上、実施形態の液晶表示パネル用部材の製造方法について説明したが、本発明の趣旨に反しない限度において、かつ必要に応じて、その構成を適宜変更できる。例えば、シール構造体としては、図示したような個数のシール部を有するものに限定されず、さらに多数のシール部を有するものであってもよい。多数のシール部を有するものによれば、より効率的に液晶表示パネルを製造できる。また、複数のシール部を設ける場合、それぞれのシール部の大きさや配置等についても図示したような大きさや配置等に限定されず、適宜変更できる。さらに、接着部は、このようなシール部の大きさや配置等に合わせて、適宜大きさや配置等を変更できる。

以下に、実施例などにより本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
以下の実施例および比較例では、ガラス基板として、無アルカリホウケイ酸ガラスからなるガラス板（縦１７０ｍｍ、横１２５ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０^-7／℃、旭硝子社製商品名「ＡＮ１００」）を使用した。また、支持基板としては、同じく無アルカリホウケイ酸ガラスからなるガラス板（縦１７０ｍｍ、横１２５ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０^-７／℃、旭硝子社製商品名「ＡＮ１００」）を使用した。

＜実施例１＞
支持基板の一方の主面を純水洗浄し、その後ＵＶ洗浄して清浄化した。
次に、成分（Ａ）として直鎖状ビニルメチルポリシロキサン（「ＶＤＴ−１２７」、２５℃における粘度７００−８００ｃＰ（センチポアズ）：アズマックス製、オルガノポリシロキサン１ｍｏｌにおけるビニル基のｍｏｌ％：０．３２５）と、成分（Ｂ）として直鎖状メチルヒドロポリシロキサン（「ＨＭＳ−３０１」、２５℃における粘度２５−３５ｃＰ（センチポアズ）：アズマックス製、１分子内におけるケイ素原子に結合した水素原子の数：８個）とを、全ビニル基と全ケイ素原子に結合した水素原子とのモル比（水素原子／ビニル基）が０．９となるように混合し、このシロキサン混合物１００重量部に対して、成分（Ｃ）として下記式（１）で示されるアセチレン系不飽和基を有するケイ素化合物１質量部を混合した。
ＨＣ≡Ｃ−Ｃ(ＣＨ₃)₂−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ₃)₃ 式（１）
次いで成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）との合計量に対して、白金換算で白金金属濃度が１００ｐｐｍとなるように白金系触媒（信越シリコーン株式会社製、ＣＡＴ−ＰＬ−５６）を加えオルガノポリシロキサン組成物の混合液を得た。
得られた混合液を、先に清浄化した支持基板の第１主面上にダイコーターにより塗工した（速度５ｍｍ/ｓ、ＧＡＰ１５０μｍ、塗布圧９５ｋＰａ）。その後、支持基板上に塗工した混合物（樹脂層形成用組成物層）を室温で１０分間静置した後に、大気中で１８０℃、６０分間加熱硬化させ、支持基板の全面に厚さ１５μｍの硬化シリコーン樹脂層を形成して支持構造体Ａ（第１の支持構造体）を得た。

次に、ガラス基板の一方の主面を純水洗浄し、その後ＵＶ洗浄して清浄化した。
その後、支持構造体Ａとガラス基板とを位置合わせしたうえで、真空プレス装置を用いて、室温下で、ガラス基板の第１主面と、支持構造体Ａの硬化シリコーン樹脂層の剥離性表面とを密着させ積層体Ａ（第１の積層体）を得た。

次に、上述した手順と同様の手順により、もう一つの積層体Ｂ（第２の積層体）を得た。

次に、積層体Ａのガラス基板Ａの主面側に、ディスペンサ法によりシール用樹脂液を図４に示すシール部１３と同じ形状となるように枠状に描画した。
さらに、積層体Ａのガラス基板Ａの主面側に、ディスペンサ法により接着用樹脂液を図４に示す接着部１４と同じ形状となるように直線状に描画した。その後、積層体Ａのガラス基板Ａと積層体Ｂのガラス基板Ｂとが対向するように、積層体Ａと積層体Ｂとを貼り合せて、熱硬化させてシール構造体１を得た。
なお、シール部の幅および接着部の幅は、それぞれ０．０８ｍｍおよび０．０８ｍｍであった。

シール構造体１中、シール部と一方のガラス基板Ａとの間の剥離強度をＳＡＩＣＡＳ（ダイプラ・ウィンテス社製）により測定したところ０．１１Ｎ／ｍｍであった。また、シール部と一方のガラスＡとの総接触面積は９６０ｍｍ²であった。
シール構造体１中、接着部と一方のガラス基板Ａとの間の剥離強度をＳＡＩＣＡＳ（ダイプラ・ウィンテス社製）により測定したところ０．１１Ｎ／ｍｍであった。また、接着部と一方のガラスＡとの総接触面積は４０８ｍｍ²であった。
シール構造体１中、一方のガラス基板Ａと支持構造体Ａとの間の剥離強度をＳＡＩＣＡＳ（ダイプラ・ウィンテス社製）により測定したところ０．００７Ｎ／ｍｍであった。また、一方のガラス基板Ａと支持構造体Ａとの総接触面積は２１２５０ｍｍ²であった。
なお、シール構造体１中、シール部と一方のガラス基板Ｂとの間の剥離強度および総接触面積、接着部と一方のガラス基板Ｂとの間の剥離強度および総接触面積、並びに、一方のガラス基板Ｂと支持構造体Ｂとの間の剥離強度および総接触面積の数値は、それぞれシール部と一方のガラス基板Ａとの間の剥離強度および総接触面積、接着部と一方のガラス基板Ａとの間の剥離強度および総接触面積、並びに、一方のガラス基板Ａと支持構造体Ａとの間の剥離強度および総接触面積の数値と同じであった。

上記数値より、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、１．０１であった。

得られたシール構造体１の積層体Ｂ側を定盤に真空吸着させたうえで、シール構造体１のコーナー部のガラス基板Ａと硬化シリコーン樹脂層との界面に、厚さ０．１ｍｍのステンレス製刃物を差し込み、シール構造体１から支持構造体Ａを分離した。
その後、さらに同様の手順に従って、支持構造体Ａが分離されたシール構造体から、支持構造体Ｂを分離し、液晶表示パネル用部材を得た。
支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板Ａまたはガラス基板Ｂとの間に僅かな剥離が見られるが実用上問題なく、ガラス基板Ａおよびガラス基板Ｂの破壊は生じなかった。

＜実施例２＞
シール部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を１２００ｍｍ²となるように、シール部の幅を０．１ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例２においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、１．１９であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの間に僅かな剥離が見られるが実用上問題なく、ガラス基板ＡおよびＢの破壊は生じなかった。

＜実施例３＞
接着部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を５１０ｍｍ²となるように、接着部の幅を０．１ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例３においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、１．０９であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの間に僅かな剥離が見られるが実用上問題なく、ガラス基板ＡおよびＢの破壊は生じなかった。

＜実施例４＞
シール部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を６０００ｍｍ²となるように、シール部の幅を０．５ｍｍに変更し、接着部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を２５５０ｍｍ²となるように、接着部の幅を０．５ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例４においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、６．３２であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡおよびＢの破壊は生じなかった。

＜実施例５＞
シール用樹脂液の種類を変更して、シール部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との間の剥離強度を０．１７Ｎ／ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例５においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、１．４０であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡおよびＢの破壊は生じなかった。

＜実施例６＞
接着用樹脂液の種類を変更して、接着部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との間の剥離強度を０．１７Ｎ／ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例６においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、１．１８であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの間に僅かな剥離が見られるが実用上問題なく、ガラス基板ＡおよびＢの破壊は生じなかった。

＜比較例１＞
シール部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を６００ｍｍ²となるように、シール部の幅を０．０５ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例２においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、０．７５であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡまたはＢの破壊が生じた。

＜比較例２＞
接着部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との総接触面積を２５５ｍｍ²となるように、接着部の幅を０．０５ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例３においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、０．９０であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡまたはＢの破壊が生じた。

＜比較例３＞
シール用樹脂液の種類を変更して、シール部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との間の剥離強度を０．０８Ｎ／ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例５においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、０．８２であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡまたはＢの破壊が生じた。

＜比較例４＞
接着用樹脂液の種類を変更して、接着部と一方のガラス基板Ａ（および他方のガラス基板Ｂ）との間の剥離強度を０．０８Ｎ／ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、液晶表示パネル用部材を製造した。
実施例６においては、｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）および｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ１×Ｂ１）の値は、０．９３であった。
なお、支持構造体Ａおよび支持構造体Ｂの分離の際には、シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡまたはＢの破壊が生じた。

上記実施例および比較例の結果を表１にまとめて示す。
表１中、「剥離強度Ｘ」欄はシール部とガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、「総接触面積Ｙ」欄はシール部とガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）との総接触面積（ｍｍ²）を表し、「剥離強度Ｚ」欄は接着部とガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、「総接触面積Ｗ」欄はシール部とガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）との総接触面積（ｍｍ²）を表し、「剥離強度Ａ」欄はガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）と支持構造体Ａ（または支持構造体Ｂ）との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、「総接触面積Ｂ」欄はガラス基板Ａ（またはガラス基板Ｂ）と支持構造体Ａ（または支持構造体Ｂ）との総接触面積（ｍｍ²）を表し、「式（１）」欄は「（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）」の結果を示し、「式（２）」欄は「（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）」の結果を示す。
また、表１中の剥離結果は以下の基準に従ったものである。実用上、「○」「◎」であることが必要である。
「◎」：シール部とガラス基板ＡまたはＢとの剥離や、ガラス基板ＡまたはＢの破壊は生じない
「○」：シール部とガラス基板ＡまたはＢとの間に僅かな剥離が見られるが、実用上問題がない
「×」シール部とガラス基板ＡもしくはＢとの剥離、または、ガラス基板ＡもしくはＢの破壊が生じる。

上記表１より、式（１）および式（２）の関係を満たすシール構造体においては、シール部とガラス基板との間の剥離や、ガラス基板の破損が抑制されることが確認された。特に、式（１）および式（２）の値が１．４０以上であると剥離がより抑制されることが確認された。
一方、式（１）または式（２）の関係を満たさない比較例１〜４においては、シール部とガラス基板との間の剥離、または、ガラス基板の破損が生じた。

１０，２００，３００，４００ シール構造体
１１ 第１の積層体
１２ 第２の積層体
１３ シール部
１４ 接着部
２０ 液晶表示パネル用部材
１１１ 第１のガラス基板
１１２ 第１の支持構造体
１１３ 第１の支持板
１１４ 第１の粘着層
１２１ 第２のガラス基板
１２２ 第２の支持構造体
１２３ 第２の支持板
１２４ 第２の粘着層

Claims (11)

1. 板厚が０．３ｍｍ以下の第１のガラス基板および前記第１のガラス基板と剥離可能に貼り合わされた第１の支持構造体を有する第１の積層体と、
   板厚が０．３ｍｍ以下の第２のガラス基板および前記第２のガラス基板と剥離可能に貼り合わされた第２の支持構造体を有する第２の積層体と、
   前記第１の積層体および前記第２の積層体の間において液晶表示パネルとなる形成領域を囲むように設けられたシール部と、
   任意の構成として、前記第１の積層体および前記第２の積層体を接着する接着部と、を有する、液晶表示パネル用部材の製造に用いられるシール構造体であって、
   前記第１のガラス基板および前記第２のガラス基板が対向しており、以下の関係式（１）および式（２）を満たす、シール構造体。
   式（１） ｛（Ｘ１×Ｙ１）＋（Ｚ１×Ｗ１）｝／（Ａ１×Ｂ１）＞１
   式（２） ｛（Ｘ２×Ｙ２）＋（Ｚ２×Ｗ２）｝／（Ａ２×Ｂ２）＞１
   （式（１）中、Ｘ１が前記シール部と前記第１のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｙ１が前記シール部と前記第１のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ｚ１が前記接着部と前記第１のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｗ１が前記接着部と前記第１のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ａ１が前記第１のガラス基板と前記第１の支持構造体との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｂ１が前記第１のガラス基板と前記第１の支持構造体との総接触面積（ｍｍ²）を表し、
   式（２）中、Ｘ２が前記シール部と前記第２のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｙ２が前記シール部と前記第２のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ｚ２が前記接着部と前記第２のガラス基板との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｗ２が前記接着部と前記第２のガラス基板との総接触面積（ｍｍ²）を表し、Ａ２が前記第２のガラス基板と前記第２の支持構造体との間の剥離強度（Ｎ／ｍｍ）を表し、Ｂ２が前記第２のガラス基板と前記第２の支持構造体との総接触面積（ｍｍ²）を表す。
   なお、前記接着部がない場合は、（Ｚ１×Ｗ１）＝０および（Ｚ２×Ｗ２）＝０とする。）
2. 前記シール部を複数有する、請求項１に記載のシール構造体。
3. 前記接着部を有し、前記接着部が前記シール部に沿って直線状に設けられる、請求項２に記載のシール構造体。
4. 前記接着部を有し、前記接着部が前記複数のシール部の全体を囲むように設けられる請求項２に記載のシール構造体。
5. 前記接着部を有し、前記接着部が前記複数のシール部のそれぞれを囲むように設けられる請求項２に記載のシール構造体。
6. 前記第１のガラス基板および前記第２のガラス基板が、縦７３０ｍｍ×横９２０ｍｍ以上の大きさを有する請求項１〜５のいずれかに記載のシール構造体。
7. 前記第１のガラス基板および／または前記第２のガラス基板が、無アルカリガラスからなる請求項１〜６のいずれかに記載のシール構造体。
8. 前記ガラス板が、酸化物基準の質量百分率表示において、下記を含有する無アルカリガラスからなる請求項７に記載のシール構造体。
   ＳｉＯ₂：５０〜６６％
   Ａｌ₂Ｏ₃：１０．５〜２４％
   Ｂ₂Ｏ₃：０〜１２％
   ＭｇＯ：０〜８％
   ＣａＯ：０〜１４．５％
   ＳｒＯ：０〜２４％
   ＢａＯ：０〜１３．５％
   ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜２９．５％
   ＺｎＯ：０〜５％
9. 前記ガラス板は、酸化物基準の質量百分率表示において、下記を含有する無アルカリガラスからなる請求項７に記載のシール構造体。
   ＳｉＯ₂：５８〜６６％
   Ａｌ₂Ｏ₃：１５〜２２％
   Ｂ₂Ｏ₃：５〜１２％
   ＭｇＯ：０〜８％
   ＣａＯ：０〜９％
   ＳｒＯ：３〜１２．５％
   ＢａＯ：０〜２％
   ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜１８％
10. 請求項１〜９のいずれかに記載のシール構造体から前記第１の支持構造体および前記第２の支持構造体を剥離する剥離工程を備える、液晶表示パネル用部材の製造方法。
11. 前記剥離工程において、前記シール構造体からの前記第１の支持構造体および前記第２の支持構造体の剥離は、前記シール構造体の一端部から徐々に行う請求項１０に記載の液晶表示パネル用部材の製造方法。

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