JP2014075376A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】構成の簡易化が可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置1はIGBT素子10及びダイオード素子20を備え、IGBT素子10は第1電極面15にエミッタ電極11、コレクタ電極12、及びゲート電極13を有しており、ダイオード素子20は第2電極面25にアノード電極22及びカソード電極21を有している。そして、半導体装置1は、コレクタ電極12及びカソード電極21に接続された第1出力バスバ31と、エミッタ電極11及びアノード電極22に接続された第2出力バスバ32と、を備えている。IGBT素子10及びダイオード素子20は、第1電極面15と第2電極面25とが対向するように向き合って配置されている。第1出力バスバ31及び第2出力バスバ32は、IGBT素子10及びダイオード素子20に挟まれるように配置されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置に関する。
昨今、例えばハイブリッド車や電気自動車を多様な車種に展開する上で、半導体装置の低コスト小型化が重要となっている。従来、このような小型化が図られた半導体装置として、スイッチング素子(IGBT素子)と整流素子(ダイオード素子)とが積層された半導体装置が知られている(例えば特許文献1参照)。特許文献1に記載された半導体装置では、IGBT素子のコレクタ電極を放熱板に搭載し、エミッタ電極に素子間接続導体を導電性樹脂により接合し、さらにその上に、ダイオード素子のアノード電極を導電性樹脂により接合することで、IGBT素子とダイオード素子とを縦方向に積層して接続している。
特開2000−164800号公報
上述した特許文献1に記載された半導体装置では、コレクタ電極が設けられた面と対向する反対側の面にエミッタ電極が設けられたIGBT素子(いわゆる縦型IGBT素子)が用いられている。ここで、半導体装置には素子を冷却するための放熱板が設けられるところ、放熱板はIGBT素子のコレクタ電極に接していることから、何ら絶縁処理を行わない場合には放熱板に電流が流れてしまう虞がある。よって、通常、IGBT素子と放熱板との間には、グリスを介してセラミック基板等の絶縁部材が配置され、放熱板に電流が流れないようにされるため、半導体装置は部品点数や加工点数が多い構成となっていた。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、構成の簡易化が可能な半導体装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置は、エミッタ電極とゲート電極とコレクタ電極とがともに設けられた第1電極面を有するスイッチング素子と、スイッチング素子に積層されるように配置され、アノード電極とカソード電極とがともに設けられた第2電極面を有する整流素子と、コレクタ電極及びカソード電極に接続された第1出力バスバと、エミッタ電極及びアノード電極に接続された第2出力バスバと、を備え、スイッチング素子及び整流素子は、第1電極面と第2電極面とが対向するように向き合って配置され、第1及び第2出力バスバは、スイッチング素子及び整流素子に挟まれるように配置されている、ことを特徴とする。
この半導体装置において、スイッチング素子は第1電極面にエミッタ電極とゲート電極とコレクタ電極とがともに設けられた、いわゆる横型スイッチング素子とされている。また同様に、整流素子は、第2電極面にアノード電極とカソード電極とがともに設けられたいわゆる横型整流素子とされている。そして、スイッチング素子及び整流素子は、第1電極面と第2電極面とが対向するように向き合って配置されるとともに、その素子間に、第1及び第2出力バスバを挟んでいる。このような構成を採用することで、例えば、スイッチング素子及び整流素子のそれぞれにおいて各電極面(第1及び第2電極面)とは反対側の面に放熱板を設けることにより、電極の電流が放熱板に流れないようにしてスイッチング素子及び整流素子を冷却可能となる。すなわち、絶縁部材を用いずにスイッチング素子及び整流素子を冷却することができ、その結果、構成の簡易化が可能となる。
また、上記作用効果を好適に奏する構成として、具体的には、スイッチング素子が接続された第1放熱板と、整流素子が接続された第2放熱板と、を更に備え、第1放熱板は、スイッチング素子の第1電極面と反対側の面と接しており、第2放熱板は、整流素子の第2電極面と反対側の面と接している構成が挙げられる。
また、ゲート電極に接続された信号ターミナルを更に備え、信号ターミナルは、第1及び第2出力バスバよりも厚さが薄い、ことが好ましい。一般的に、ゲート電極に接続された信号ターミナルがエミッタ電極又はコレクタ電極と導通することを防止するため、電極と放熱板との間に金属スペーサ等を配置し、信号ターミナルと放熱板とを接しないよう離す場合がある。この点、本発明は、ゲート電極と接続された信号ターミナルの厚さを第1及び第2出力バスバよりも薄い構成とすることで、信号ターミナルとアノード電極及びカソード電極との間隔を離すことができる。よって、信号ターミナルと電極との接触を防止するための金属スペーサ等が不要となり、構成の一層の簡易化が図れる。
本発明によれば、構成の簡易化が可能な半導体装置を提供することができる。
本発明の一実施形態に係る半導体装置を示す概略平面図である。 (a)は図1の半導体装置の横型IGBT素子を示す断面図、(b)は図1の半導体装置の横型ダイオード素子を示す断面図である。 従来の半導体装置を示す概略平面図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
まず、図1及び図2を参照して、本発明の実施形態に係る半導体装置について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置を示す概略平面図である。図2の(a)は図1の半導体装置の横型IGBT素子を示す断面図、(b)は図1の半導体装置の横型ダイオード素子を示す断面図である。
図1に示すように、本実施形態の半導体装置1は、スイッチング素子であるIGBT素子10と、整流素子であるダイオード素子20と、第1出力バスバ31と、第2出力バスバ32と、放熱板33と、冷却器34と、信号ターミナル35と、を備えている。半導体装置1は、全体をモールド樹脂で成形することでパワーモジュールとして用いられる。
IGBT素子10は、図2(a)に示すように、エミッタ電極11とコレクタ電極12とゲート電極13とがともに設けられた第1電極面15を有する、いわゆる横型IGBT素子である。図1に示すように、エミッタ電極11は第2出力バスバ32に、コレクタ電極12は第1出力バスバ31に、ゲート電極13は信号ターミナル35に、それぞれ半田36で接続されている。また、IGBT素子10において、第1電極面15と反対側の面は絶縁面17となっており、絶縁面17は放熱板33に半田36で接続されている。
ダイオード素子20は、図1に示すように、IGBT素子10に積層するように配置されている。また、ダイオード素子20は、図2(b)に示すように、カソード電極21とアノード電極22とがともに設けられた第2電極面25を有する、いわゆる横型ダイオード素子である。図1に示すように、カソード電極21は第1出力バスバ31に、アノード電極22は第2出力バスバ32に、それぞれ半田36で接続されている。また、ダイオード素子20において、第2電極面25と反対側の面は絶縁面27となっており、絶縁面27は放熱板33に半田36で接続されている。IGBT素子10及びダイオード素子20は、第1電極面15と第2電極面25とが対向するように向き合って配置されている。
第1出力バスバ31及び第2出力バスバ32は、IGBT素子10及びダイオード素子20に電力を供給するために用いられる配線用材料である。第1出力バスバ31及び第2出力バスバ32としては、例えば銅やアルミニウム等の導体が用いられる。
第1出力バスバ31は、コレクタ電極12及びカソード電極21に対して半田36で接続されている。また、第2出力バスバ32は、エミッタ電極11及びアノード電極22に対して半田36で接続されている。すなわち、コレクタ電極12とカソード電極21とは、第1出力バスバを介して互いに導通されており、エミッタ電極11とアノード電極22とは、第2出力バスバを介して互いに導通されている。
また、第1出力バスバ31及び第2出力バスバ32の一端側は、IGBT素子10及びダイオード素子20に挟まれるようにして配置されており、他端側は、IGBT素子10及びダイオード素子20の積層方向に交差する方向に向かって延伸している。
放熱板33は、熱伝導率が高い素材で構成され、例えば銅やアルミニウムで構成される。また、熱膨張率の制御が容易な素材(例えば、アルミ炭化珪素(AlSiC)や銅モリブデン(Cu−Mo)等)で構成されると、半田応力を低減するのに好ましい。放熱板33は、IGBT素子10に接続された第1放熱板33aと、ダイオード素子20に接続された第2放熱板33bとを含んでいる。第1放熱板33aは、IGBT素子10の絶縁面17と接続されている。また、第2放熱板33bは、ダイオード素子20の絶縁面27と接続されている。
第1放熱板33aにおいてIGBT素子10に接続されている面と反対側の面は、グリス37を介して冷却器34に接続されている。同様に、第2放熱板33bにおいてダイオード素子20に接続されている面と反対側の面は、グリス37を介して冷却器34に接続されている。なお、グリス37は、放熱板33と冷却器34との間の細かな凸凹による空気層を排除するために用いられている。
冷却器34は、例えば、冷却媒体が流通する流路を内部に有し、IGBT素子10及びダイオード素子20から放熱板33を介して放出される熱量を吸収し冷却する。冷却器34は、グリス37を介して放熱板33と接続されている。
信号ターミナル35は、ゲート電極13に信号を与えることで、IGBT素子10のON・OFF状態を制御するものである。信号ターミナル35は、ゲート電極13に半田36で接続されている。この信号ターミナル35の厚さは、第1出力バスバ31の厚さ及び第2出力バスバ32の厚さよりも薄くされている。
つぎに、図3を参照して従来の半導体装置の一例を説明する。図3は、従来の半導体装置を示す概略平面図である。図3に示すように、半導体装置100のIGBT素子10xは、いわゆる縦型IGBT素子であり、本実施形態に係る半導体装置1のIGBT素子10のように、すべての電極(エミッタ電極11、コレクタ電極12、ゲート電極13)が同一面上に設けられている構成ではない。すなわち、エミッタ電極11(及びゲート電極13)と、コレクタ電極12とが対向する面にそれぞれ設けられている。
同様に、半導体装置100のダイオード素子20xについても、いわゆる縦型ダイオード素子であり、本実施形態に係る半導体装置1のダイオード素子20のように、すべての電極(カソード電極21、アノード電極22)を同一面上に設けられている構成ではない。すなわち、カソード電極21と、アノード電極22とがが対向する面にそれぞれ設けられている。
このように、従来の半導体装置100のIGBT素子10x及びダイオード素子20xでは、上述したように対向する面にそれぞれ電極が設けられているため、何ら絶縁処理を行わない場合には、IGBT素子10x及びダイオード素子20xと接続された放熱板33には電流が流れる場合がある。よって、半導体装置100では、放熱板33に電流が流れることを防止するために放熱板33と冷却器34との間に絶縁部材101を配置している。この場合、放熱板33と絶縁部材101が接する箇所、及び、絶縁部材101と冷却器34が接する箇所のそれぞれにおいてグリス37を用いるため、一の半導体装置100におけるグリス37は4層となる。
これに対し、本実施形態に係る半導体装置1は、IGBT素子10の第1電極面15とダイオード素子20の第2電極面25とが対向するように向き合って配置されるとともに、その素子間に、第1出力バスバ31及び第2出力バスバを挟んでいる。そして、第1放熱板33aはIGBT素子10の絶縁面17と接しており、第2放熱板33bは、ダイオード素子20の絶縁面27と接している。そのため、第1放熱板33a及び第2放熱板33bに電流が流れないようにして、IGBT素子10及びダイオード素子20を冷却することができる。よって、絶縁処理は不要であり、半導体装置100のように、第1放熱板33a及び第2放熱板33bと冷却器34との間に絶縁部材101を配置する必要がない。
また、半導体装置1では、絶縁部材101が不要となることから、第1放熱板33a及び第2放熱板33bと冷却器34とが接する箇所においてのみ、グリス37が必要となり、グリス37を2層とすることができる。従って本発明によれば、絶縁部材101を不要にできると共に、グリス37を2層削減することができ、その結果構成の簡易化を図ることができる。
なお、グリス37は熱伝導率が低くグリス37の厚さが厚いと放熱性能が低下してしまう虞があるところ、本実施形態に係る半導体装置1では、グリス37の層数を少なくできるため、放熱性能の向上を期待できる。
また、従来例である半導体装置100は、エミッタ電極11と放熱板33との間、及び、カソード電極22と放熱板33との間に、それぞれ金属スペーサ102を半田36を介して挟んでいる。当該金属スペーサ102は、信号ターミナル35が、電位が異なる電極(エミッタ電極11又はコレクタ電極12)と導通することを防止するために、信号ターミナル35と放熱板33とを接しないように離すものである。
この点、本実施形態に係る半導体装置1は、IGBT素子10とダイオード素子20との間に第1出力バスバ31及び第2出力バスバ32が挟まれており、かつ、ゲート電極13に接続された信号ターミナル35の厚さが、第1出力バスバ31の厚さ及び第2出力バスバ32の厚さよりも薄くされていることから、金属スペーサ102を用いなくとも、信号ターミナル35と、信号ターミナル35と電位が異なる電極とを離すことができる。よって、半導体装置1では、例えば半導体装置100で必要な、金属スペーサ102、及び半田36が不要となり、部品点数、ひいては加工点数を削減することができる。すなわち、構成の一層の簡易化を図ることができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明に係る半導体装置は、実施形態に係る上記半導体装置1に限られたものではなく、各請求項に記載した要旨を変更しない範囲で変形し、又は他のものに適用したものであってもよい。
例えば、上記実施形態においては、スイッチング素子としてIGBT素子10、整流素子としてダイオード素子20を例示して説明を行ったが、これに限定されるものではなく、種々のスイッチング素子、及び整流素子を用いることができる。
1,100…半導体装置、10,10x…IGBT素子、11…エミッタ電極、12…コレクタ電極、13…ゲート電極、15…第1電極面、17,27…絶縁面、25…第2電極面、20,20x…ダイオード素子、21…カソード電極、22…アノード電極、31…第1出力バスバ、32…第2出力バスバ、33…放熱板、33a…第1放熱板、33b…第2放熱板、34…冷却器、35…信号ターミナル、36…半田、37…グリス、101…絶縁部材、102…金属スペーサ。

Claims (3)

  1. エミッタ電極とゲート電極とコレクタ電極とがともに設けられた第1電極面を有するスイッチング素子と、
    前記スイッチング素子に積層されるように配置され、アノード電極とカソード電極とがともに設けられた第2電極面を有する整流素子と、
    前記コレクタ電極及び前記カソード電極に接続された第1出力バスバと、
    前記エミッタ電極及び前記アノード電極に接続された第2出力バスバと、を備え、
    前記スイッチング素子及び前記整流素子は、前記第1電極面と前記第2電極面とが対向するように向き合って配置され、
    前記第1及び第2出力バスバは、前記スイッチング素子及び前記整流素子に挟まれるように配置されている、
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記スイッチング素子が接続された第1放熱板と、
    前記整流素子が接続された第2放熱板と、を更に備え、
    前記第1放熱板は、前記スイッチング素子において前記第1電極面の反対側の面と接しており、
    前記第2放熱板は、前記整流素子において前記第2電極面の反対側の面と接している、
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記ゲート電極に接続された信号ターミナルを更に備え、
    前記信号ターミナルは、前記第1及び第2出力バスバよりも厚さが薄い、
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
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