JP2014056984A - 半導体発光素子、車両用灯具及び半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光量を落とさずに所望の輝度分布を形成した半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子101は、支持基板10と、第1導電型の第1半導体層22と、第1半導体層22の上に形成される活性層23と、活性層23の上に形成される第2導電型の第2半導体層24とを含む半導体積層2と、第1半導体層22と電気的に接続する第1の電極層11と、第1の電極層と対をなし、第2半導体層14と電気的に接続する第2の電極層12と、第1の電極層11と第2の電極層12の間に配置され、第2半導体層12の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】半導体発光素子101は、支持基板10と、第1導電型の第1半導体層22と、第1半導体層22の上に形成される活性層23と、活性層23の上に形成される第2導電型の第2半導体層24とを含む半導体積層2と、第1半導体層22と電気的に接続する第1の電極層11と、第1の電極層と対をなし、第2半導体層14と電気的に接続する第2の電極層12と、第1の電極層11と第2の電極層12の間に配置され、第2半導体層12の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体発光素子、半導体発光素を用いた車両用灯具及び半導体発光素子の製造方法に関する。
GaN等の窒化物半導体発光ダイオード(以下、単にLED素子と呼ぶ)は、紫外光ないし青色光を発光でき、蛍光体を利用することにより白色光を発光できる。高出力の白色光を発生できるLED素子は照明用や車両前照灯用としても用いられる。
窒化物半導体の成長基板として一般的にサファイアが用いられているが、サファイア基板が絶縁性である為、n側及びp側電極を同一面側(成長層側)に形成する必要がある。それぞれ別の領域にn側、p側の電極パッドや配線を形成することになる。光吸収の増大や、直列抵抗増加による駆動電圧上昇を発生させる。更に、サファイア基板は、熱伝導率が低く放熱性に劣り、大電流を投入するデバイスには不向きである。
そこで、近年は、レーザーリフトオフ(LLO)や研磨でサファイア成長基板を除去し、露出した窒化物半導体層(n型半導体層)上にn側電極を形成する事により、n側電極とp側電極とを対向位置に配置するデバイス構造の開発が行われている(例えば、特許文献1参照)。
車両前照灯の分野では、明瞭なカットオフラインを形成するため輝度分布の最大部をカットオフラインに配光することが求められている。そのため、シェード等を用いて輝度分布の半分程度をカットすることが行われているが、光利用効率が著しく低下する。これに対して、LED素子からの光の一部をカットすることなく、輝度分布の最大部をカットオフラインに配光する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特許文献2に記載の技術では、光源の発光面のうち、縦断面においては一方の端部から他方の端部に向けて徐々に減少する輝度分布を形成し、横断面においては一定の輝度分布を形成している。これにより、シェード等により光の一部をカットすることなく、カットオフラインが最も明るく、当該カットオフラインから離れるに従い照度が低下していくグラデーション形状の配向パターンを形成している。
特許文献2に記載の技術では、一方の端部から他方の端部に向けて徐々に減少する輝度分布(輝度傾斜)を形成するために、n型GaN層表面に形成する構造物(マイクロコーン)の密度やサイズを制御し、光取り出し効率を変化させている。そのためマイクロコーンが大きく密な領域は光取り出し効率が上がるが、小さく疎な領域の光取り出し効率が下がってしまい、外部量子効率が落ち、全体の光量が落ちてしまう。
また、上述の輝度傾斜をつけるため、p側の反射電極に青色光に対して高反射率の金属材料からなる電極と、低反射率の材料からなる電極との二種類を用いている。そのため、輝度傾斜はつくものの、全面を高反射率の金属材料を用いた場合と比較すると、外部量子効率が落ち、全体の光量が落ちてしまう。
本発明の目的は、光量を落とさずに所望の輝度分布を形成した半導体発光素子を提供することである。
本発明の一観点によれば、半導体発光素子は、支持基板と、第1導電型の第1半導体層と、該第1半導体層の上に形成される活性層と、該活性層の上に形成される第2導電型の第2半導体層とを含む半導体積層と、前記第1半導体層と電気的に接続する第1の電極層と、前記第1の電極層と対をなし、前記第2半導体層と電気的に接続する第2の電極層と、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に配置され、前記第2半導体層の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域とを有する。
また、本発明の他の観点によれば、半導体発光素子の製造方法は、(a)成長基板を準備する工程と、(b)前記成長基板上に、第1導電型の第1半導体層と、該第1半導体層の上に形成される活性層と、該活性層の上に形成される第2導電型の第2半導体層とを含む半導体積層を成長する工程と、(c)前記第2半導体層表面に、前記第2半導体層の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域を形成する工程と、(d)前記高抵抗領域を含む前記第2半導体層上に第2の電極層を形成する工程と、(e)前記第2の電極層上に第1を接合層形成する工程と、(f)前記半導体積層を分割する工程と、(g)支持基板を準備する工程と、(h)前記支持基板上に、第2接合層を形成する工程と、(i)前記第1接合層と前記第2接合層とを重ね合わせて接合することにより融着層を形成する工程と、(j)前記成長基板を前記半導体積層から剥離する工程と、(k)前記第1半導体層上に第1の電極層を形成する工程とを含む。
本発明によれば、光量を落とさずに所望の輝度分布を形成した半導体発光素子を提供することができる。
図1(A)は、本発明の第1の実施例によるLEDアレイ100の概略平面図であり、図1(B)は、LEDアレイ100の等価回路図である。図1(C)は、図1(A)の直線ab間のLEDアレイ100の簡略化した断面図である。
本発明の第1の実施例によるLEDアレイ100は、4つの窒化物半導体発光素子(LED素子)101を絶縁層(SiO2層)9が形成された支持基板(Si基板)10上に配置し、直列接続したものである。個々のLED素子101は、n型GaN層22、活性層23、p型GaN層24からなるGaN系発光部(デバイス構造層)2と、デバイス構造層2の裏面(基板側)に形成され該デバイス構造層2の上下いずれかの長辺側に露出するp側電極12と、p側電極12が露出する長辺とは逆側の長辺と一定間隔を置いて平行に配置されるn側電極(引き出し電極)11及びデバイス構造層2の表面上に該デバイス構造層2の短辺に平行に配置され、n型GaN層21とn側電極11とを接続する配線電極8とを有している。
個々のLED素子101は、図1(B)に示すように、それぞれ左右に隣接するLED素子101と直列に接続されており、LED素子101のn側電極11は、左側に位置するLED素子101のp側電極12と電気的に接続され、p側電極12は右側に位置するLED素子101のn側電極11と電気的に接続されている。LEDアレイ100の端部に位置するLED素子101のp側電極12及びn側電極11はそれぞれ給電パッド13に接続されている。
図1(C)に示すように、個々のLED素子101のp側電極12は、例えば、デバイス構造層2の裏面(p型GaN層24)に形成される反射電極層3と、第1接着層5を含んで構成される。第1接着層5は、支持基板10に形成される第2接着層6と融着接合されて融着層(反射電極層3及びエッチングストップ層4の残部を含む)を形成している。なお、エッチングストップ層4は、図5(A)及び(B)を参照して後述するエッチング工程においてエッチストッパーとして機能する。
また、素子の上面全体には、デバイス構造層2の上面(発光面)及びp側電極12形成箇所に開口を有するSiO2からなる保護膜(絶縁膜)7が形成されている。さらに、デバイス構造層2の外周の一辺に沿って、該発光部から一定間隔を置いて配置されるn側電極(引き出し電極)11と、デバイス構造層2の上面(発光面)から側面(保護膜7上)に添って、n型GaN層22とn側電極11とを接続する配線電極8とが形成されている。
なお、LEDアレイ100は、を構成するLED素子101の数は4つに限られるものではない。また、必要に応じてLEDアレイ100上のLED素子101の一部又は全部を並列接続しても良いし、LEDアレイとせずに1つのLED素子101を単一素子として形成してもよい。さらに、LED素子101のレイアウトは、水平方向に並べるだけではなく、複数列複数行にわたって行列状に並べるようにしても良い。
また、個々のLED素子101の形状は、横長の形状をしていても良いし、正方形やその他の形状をしていても良い。また、配線層8の平面形状も、図1(A)に示すような櫛状に限らず、梯子状や、放射状など、どのような形状でも良い。
図2は、本発明の第1の実施例による輝度傾斜のための低抵抗領域LRと高抵抗領域HRを説明するための図である。図2(A)は、輝度傾斜のための低抵抗領域LRと高抵抗領域HRの配置を説明するための概略平面図である。図2(B)は、図2(A)の直線c1−d1間における反射電極層3及びp型GaN層24の概略断面図である。図2(C)は、図2(A)の直線c2−d2間における反射電極層3及びp型GaN層24の概略断面図である
本発明の第1の実施例では、所望の輝度分布を得るために配線電極8(n側電極11)と反射電極層3(p側電極12)との間に輝度傾斜のための低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成した輝度傾斜構造を採用している。低抵抗領域LRは、例えば、その下のp型GaN層24とオーミック接触を形成可能なITO膜(コンタクト層)3aと該ITO膜3a上に形成される(例えば、AgやAg合金からなる)反射金属膜3bからなり、高抵抗領域HRは、p型GaN層24内のプラズマダメージ領域24bの上に形成されるAg層3bからなる。例えば、本実施例では、低抵抗領域LRの接触抵抗は1×10−5Ωcm2程度に設定され、高抵抗領域HRの接触抵抗は1×10−2Ωcm2程度に設定される。この時、配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRへ向かうように流れる。
本発明の第1の実施例では、所望の輝度分布を得るために配線電極8(n側電極11)と反射電極層3(p側電極12)との間に輝度傾斜のための低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成した輝度傾斜構造を採用している。低抵抗領域LRは、例えば、その下のp型GaN層24とオーミック接触を形成可能なITO膜(コンタクト層)3aと該ITO膜3a上に形成される(例えば、AgやAg合金からなる)反射金属膜3bからなり、高抵抗領域HRは、p型GaN層24内のプラズマダメージ領域24bの上に形成されるAg層3bからなる。例えば、本実施例では、低抵抗領域LRの接触抵抗は1×10−5Ωcm2程度に設定され、高抵抗領域HRの接触抵抗は1×10−2Ωcm2程度に設定される。この時、配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRへ向かうように流れる。
低抵抗領域LRおよび高抵抗領域HRの平面形状は、例えば、図2(A)に示すように、n側電極11から離れるに従い、低抵抗領域LRの水平方向(図中W方向)の幅が狭くなり、逆にn側電極11から離れるに従い、高抵抗領域HRの水平方向(図中W方向)の幅が広くなるように設定される。すなわち、n側電極11から離れるに従い、ITO膜(コンタクト層)3aの幅が狭くなり、p型GaN層24内のプラズマダメージ領域24b及びその下の反射金属膜3bの幅が広くなる。
例えば、図2(B)に示す断面(図2(A)の直線c1−d1付近)においては、ITO膜3aの幅(低抵抗領域の幅)がプラズマダメージ領域24b及びその下の反射金属膜3bの幅よりも広くなっているが、図2(C)に示す断面(図2(A)の直線c2−d2付近)においては、ITO膜3aの幅(低抵抗領域の幅)がプラズマダメージ領域24b及びその下の反射金属膜3bの幅よりも狭くなっている。
したがって、n側電極11に近い図2(A)の直線c1−d1付近では、低抵抗領域LRの面積が高抵抗領域HRの面積よりも大きくなり、n側電極11から遠い図2(A)の直線c2−d2付近では、低抵抗領域LRの面積が高抵抗領域HRの面積よりも小さくなる。よって、直線c1−d1付近では直線c2−d2付近よりも電流の流れる面積が大きくなるため、直線c2−d2付近に比べて輝度が高くなる。このようにして、n側電極11から離れるに従い輝度が低下する分布を持たせることが可能となる。
なお、電流拡散の観点から、配線電極8直下は、高抵抗領域HRとなっていることが好ましい。また、プラズマダメージがなくても反射金属膜3bとp型GaN層24は接触抵抗が高いため、高抵抗領域HRと低抵抗領域LRとを形成することができる。図2ではより明確に抵抗値の差を設けるため、高抵抗領域HRにプラズマダメージを利用している。
図1においては、図2のような輝度傾斜を持つ素子を、輝度傾斜方向と素子配列方向とが交差するように並べている。また、高輝度、低輝度が一側方向にそろうように並んでいる。これにより図1に示すLEDアレイ100全体でも高輝度から低輝度の輝度分布を持つようにしている。
以下、図3〜図8を参照して、本発明の第1の実施例によるLED素子101を有するLEDアレイ100の製造方法を説明する。なお、図1(A)に示すLED素子101以外の形状のLED素子であっても、p側電極12、n側電極11及び配線電極8の形成位置や各構成部材の形状が異なるのみであり、同様の製造方法にて作製可能である。
図3、図5〜図8は、図1(A)の直線cd間の概略断面図であるので、図中2つの窒化物半導体発光素子(LED素子)101のみが表されているが、この第1の実施例では、4つのLED素子101が配列されて同一基板上に同時に形成される。なお、以下の製造方法は、あくまでも一例であり、これに限られるものではない。
まず、図3(A)に示すように、有機金属化学気相成長(MOCVD)にてAlxInyGazN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、x+y+z=1)を成長可能な成長基板(例えば、C面サファイヤ基板)1を準備し、MOCVDを用いて成長基板1上にAlxInyGazNから成る半導体層積層を結晶成長させる。
具体的には、例えば、サファイア基板1をMOCVD装置に投入後、サーマルクリーニングを行い、GaNバッファ層20及びアンドープのGaN層21を成長した後に、Si等をドープした膜厚5μm程度のn型GaN層22を成長させる。
次に、InGaN量子井戸層及びGaN障壁層を含む多重量子井戸発光層(活性層)23を形成する。ここではInGaN/GaNを1周期として5周期成長を行う。温度約700℃でTMG3.6μmol/min、TMI10μmol/min、NH34.4LMを33秒間供給して膜厚約2.2nmのInGaN井戸層と、TMG3.6μmol/min、NH34.4LMを320秒間供給して膜厚約15nmのGaN障壁層との成長を5周期分繰り返す。
次に、p型GaN層24として、p型AlGaN層(クラッド層)とMgドープのp型GaN層(コンタクト層)とを順次成膜する。活性層23に引き続き、温度を870℃まで上げ、TMG8.1μmol/min、TMA7.5μmol/min、NH34.4LM、Cp2Mg2.9×10−7μmol/minを5分間供給し、Mgドープのp型AlGaN層(クラッド層)を約40nm成長させる。引き続き、そのままの温度でTMG18μmol/min、NH34.4LM、Cp2Mg2.9×10−7μmol/minを7分間供給し、Mgドープのp型GaN層(コンタクト層)を約150nm成長させる。
次に、p型GaN層24の活性化を行う。p型半導体層は、成長過程において膜中に水素が混入し、Mg−H結合となっている。この様な状態では、ドーパントとしての機能を果たす事が出来ず、p型半導体層は高抵抗化している。その為、p型半導体層の水素を膜中より追い出す活性化工程が必要となる。具体的には、熱処理炉を用いて真空又は不活性ガス雰囲気中にて400℃以上の熱処理を行う。
次に、図3(B)に示すように、デバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)に、所定形状のp電極層(反射電極層)3を形成する。この第1の実施例では、p電極層(反射電極層)3として、インジウムスズ酸化物(ITO)からなるコンタクト層3aとAg層3bを形成する。第1の実施例による輝度傾斜構造(p電極層(反射電極層)3及びその下のプラズマ処理された半導体層)の形成方法については図4(A)〜図4(F)を参照して説明する。
まず、p電極層(反射電極層)形成領域が露出したデバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)に、フォトリソグラフィ及びスパッタ法を用いて、透明導電膜材料を成膜し、パターニングして透明電極を形成する。
具体的には、まず、図4(A)に示すように、スパッタ装置を用い、Ar:50sccm、O2:0.5sccm、圧力:0.5Paの条件下で、インジウムスズ酸化物(ITO)を15nmの膜厚で成膜する。
次に、図4(B)に示すように、フォトレジストパターンPRを所望のパターンで形成し、図4(C)に示すように、成膜したITO膜をフォトリソグラフィエッチング法により、所望の形状にウエットエッチングし、p型GaN層24表面の一部に透明電極層(ITO膜)3aを形成する。酸素を含む熱処理前なので、不要なITO膜はすべて取り除くことが可能である。
その後、図4(D)に示すように、エッチング工程に用いたフォトレジストパターンPRを除去する。フォトレジストパターンPRの除去後、酸素を含む雰囲気中でITO膜3aを加熱(400℃〜700℃、好ましくは、450℃〜600℃)する(ITOアニール処理)。加熱処理をすることで、接触抵抗と透過率が良くなる。
次に、図4(E)に示すように、フォトレジストパターンPRをマスクとして、ITO膜3aが形成されていない領域で露出しているp型GaN層24表面にプラズマ照射することで、電流が流れない高抵抗領域HRを形成する。プラズマ照射部の接触抵抗は1×10−2Ωcm2以上で電流が流れにくい高抵抗領域HRとなる。それぞれの高抵抗領域HRの厚さは、p型GaN層24の膜厚より薄く設定される。ここでは、Ar、He、N2、CF4及びH2をプラズマの不活性ガスとして用いることができる。
次に、図4(F)に示すように、ITO膜3a及びITO膜3a間から露出したデバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)に、電子ビーム蒸着法により膜厚200nm程度のAg層を形成し、周知のリフトオフ法によりパターニングし、ITO膜3aと反射金属膜3bからなる反射電極層3を形成する。反射電極層3は、活性層23にて生成された光のうち、p型半導体層24側へ放射された光を再び光放射面であるn型半導体層21側へ反射させる為に、発光波長に対して高反射性を有する金属層である。Ag層3bの厚さは、100nm以上が好ましい。これより薄いと十分な光反射性が得られない。成膜方法には電子ピーム蒸着の他、スパッタ法を用いることもできる。
第1の実施例による輝度傾斜構造では、ITO膜3aがコンタクト層として機能し、該コンタクト層が形成されている領域が低抵抗領域LRとなり、プラズマダメージ領域24bが形成されている領域が高抵抗領域HRとなる。配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRに流れ、低抵抗領域LRの方が高抵抗領域HRよりも高い輝度となる。したがって、図2(A)にしめすような平面パターンで低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成することにより、一方から他方にかけて徐々に輝度が変化する輝度分布を得ることができる。
その後、図5(A)に示すように、反射電極層3の周辺のデバイス構造層2上(p型GaN層24上)に、スパッタ法を用いて反射電極層3と同じ膜厚のSiO2からなるエッチングストップ層4を形成する。エッチングストップ層4は、図8(A)及び図8(B)を参照して後述するエッチング工程においてエッチストッパーとして機能する。
次に、図5(B)に示すように、反射電極層3及びエッチングストップ層4を含む領域に、スパッタ法を用いて膜厚200nmのAuからなる第1接着層5を形成する。なお、反射電極層3及びエッチングストップ層4を含む領域に、拡散防止層を形成してから第1接着層5を形成するようにしても良い。拡散防止層を形成する場合は、例えば、スパッタ法を用いて膜厚300nmのTiWからなる拡散防止層を形成する。拡散防止層は反射電極層3に用いた材質の拡散を防止するためのもので、反射電極層3にAgを含む場合には、Ti、W、Pt、Pd、Mo、Ru、Ir、Au及びこれらの合金を用いることができる。
次に、図5(C)に示すように、レジストマスク及び塩素ガスを用いたドライエッチング法を用いることにより、デバイス構造層2を複数の長方形形状(図1(A)の平面図参照)の素子に分割する。分割されたデバイス構造層2の側面は、成長基板1に対して順テーパ形状となる。
次に、図6(A)に示すように、Siからなる支持基板10を用意し、熱酸化処理を行い表面に絶縁膜(熱酸化SiO2膜)9を形成する。絶縁膜9の膜厚は、絶縁性を確保する目的を達成できる厚さであればよい。
次に、絶縁膜9上に蒸着法を用いて膜厚1μmのAuSn(Sn:20wt%)からなる第2接着層6を形成する。支持基板10は熱膨張係数がサファイア(7.5×10−6/K)やGaN(5.6×10−6/K)に近く、熱伝導率が高い材料が好ましい。例えば、Si、AlN、Mo、W、CuW等を用いることができる。第1接着層5の材質と第2接着層6の材質は、融着接合が可能な、Au−Sn、Au−In、Pd−In、Cu−In、Cu−Sn、Ag−Sn、Ag−In、Ni−Sn等を含む金属や、拡散接合が可能なAuを含む金属を用いることができる。
第2接着層6は、例えば、図6(B)及び(C)に示すように、リフトオフ法を用いて形成することができる。まず、フォトレジスト(例えば、Clariant Co.製フォトレジストAZ5200)を熱酸化処理した支持基板10(絶縁膜9を表面に形成した支持基板10)の全面に塗布し、90℃以下に設定したホットプレートを用い、大気中で90秒間程度のプリベークを行う。次いで、UV光を用い、ファースト露光量17mJとして、フォトレジストにパターンを露光する。露光後のフォトレジストを120℃の大気中で90秒間程度のリバーサルベーク処理を行い、露光部を熱架橋させる。次に、反転露光量600mJとして、UV光を支持基板10全面に照射する。さらに、現像液中に130秒間浸漬し、現像処理を行うことにより所望の(第2接着層6となる部分以外に)フォトレジストパターンPR1を形成する。このように形成されたフォトレジストパターンPR1は、周縁部が支持基板10に対して逆テーパ形状となる。なお、使用するレジスト及びフォトリソグラフィの条件は、適宜変更可能である。
次に、抵抗加熱蒸着法を用いて、Ti(150nm)/Ni(50nm)/Au(100nm)/Pt(200nm)/AuSn(1000nm、Sn:20wt%)からなる金属積層6を成膜し、その後、リフトオフによって第2接着層6を形成する。
なお、第2接着層6は、リフトオフ法以外にも、ドライエッチング法やウエットエッチング法を用いても形成可能である。
次に、図7(A)に示すように、第1接着層5と第2接着層6を接触させ、圧力3MPaで加圧した状態で300℃に加熱して10分間保持した後、室温まで冷却することにより融着接合を行う。この融着接合により融着層が形成される。
その後、図7(B)に示すようにUVエキシマレーザの光をサファイア基板1の裏面側から照射し、バッファ層20を加熱分解することで、レーザーリフトオフによるサファイア基板1の剥離を行う。なお、基板1の剥離あるいは除去は、エッチング等の別の手法を用いてもよい。
次に、図7(C)に示すように、レーザーリフトオフにより発生したGaを温水などで除去し、その後塩酸で表面処理する。これにより、n型半導体層22が露出する。表面処理には窒化物半導体をエッチングできるものであればよく、リン酸、硫酸、KOH、NaOHなどの酸やアルカリなどの薬剤も用いることができる。また、表面処理はArプラズマや塩素系プラズマを用いたドライエッチングや、研磨などで行ってもよい。さらに、n型半導体層22の表面をRIE等のドライエッチング装置を用いたCl、Ar処理又は、CMP研磨装置を用いて平滑化を行いレーザー痕やレーザーダメージ層を除去する。なお、光取り出し効率を向上させる為に露出したn型半導体層22表面には、凹凸加工を施す(光取り出し構造を形成する)ようにしても良い。
次に、図8(A)に示すように、デバイス構造層2の端部が露出するようにフォトレジストPR3を形成する。その後、塩素ガスを用いたドライエッチング法により、フォトレジストPR3から露出したデバイス構造層2の端部をエッチングストップ層4が露出するまでエッチングする。これにより図8(B)に示すように、デバイス構造層2の側壁は、支持基板10を下にした場合に上方に向かって断面積が減少するテーパ形状(支持基板10に対して順テーパ形状)となる。なお、この工程において、エッチングストップ層4がマスクとなり、支持基板10表面の絶縁膜9も支持基板10に対して順テーパ形状にエッチングされる。また、エッチングストップ層4が形成されていることにより、素子の信頼性を高めることができる。これは、エッチングストップ層4を配置しない場合には、塩素ガスにより第1接着層5がエッチングされてしまい、エッチングされた第1接着層5の堆積物がデバイス構造層2に付着し、ショートの原因となることがあるためである。
次に、図8(C)に示すように、上述した工程で形成した素子の上面全体に、スパッタ等を用いてSiO2からなる保護膜(絶縁膜)7を200℃加熱条件で600nmの膜厚で形成し、その後、フォトリソグラフィを用いてレジストパターンを形成し、RIEによるドライエッチングにより、成長基板1の剥離によって露出したデバイス構造層2の表面(n型GaN層22の表面)の一部を露出させる。
次に、電子ビーム蒸着法により、膜厚1nmのTi層、膜厚200nmのAl層、膜厚100nmのTi層、膜厚200nmのPt層、膜厚2.5μmのAu層をこの順序で積層し、リフトオフによってパターニングすることにより、n型GaN層22と隣接する素子の電極部12(p側電極)とを接続する、例えば、幅10μm程度の配線電極8を形成する。配線電極8は、n型GaN層22の上面から連続してデバイス構造層2の順テーパ形状の側面及び第1接着層5と第2接着層6から形成された融着層の順テーパ形状の側面上に、絶縁性保護膜9を介して形成されている。また、配線電極8は、n型GaN層22に接触している該n型GaN層22の上面領域において、当該n型GaN層22とオーミック接触を形成している。配線電極8は、平面または順テーパ形状の表面上に形成されるため、製造工程中又は製造後に断線することなく配置される。なお、配線電極8の線幅は20μm以下3μm以上であることが好ましい。
その後、支持基板10をレーザースクライブ又は、ダイシングにより分割する。以上により、複数の窒化物半導体発光素子101を有するLEDアレイ100が完成する。なお、青色GaNの発光素子を白色化するには発光素子を封止充填する樹脂に蛍光体(例えば、黄色発光)を入れる。
なお、上述の例では、複数の窒化物半導体発光素子101を1つの支持基板10上に作製して、直列接続し、LEDアレイ100としたが、並列接続としてもよいし、1つ1つの窒化物半導体発光素子101に分割して単一素子としてもよい。その場合には、図9に示すような構成とする。
複数の窒化物半導体発光素子101を並列接続、もしくは単一の素子として用いる場合には、図9に示すように、支持基板10上の絶縁膜9を省略し、代わりに支持10の裏側に全面電極13を形成する。また、配線電極8は、デバイス構造層2の表面(n型GaN層22の表面)のみ形成され、当該表面上に形成される電極パッドに接続され、当該電極パッドから電流が供給される。その他の構造は基本的に上述の複数の窒化物半導体発光素子101を直列接続したものと同様であり、特に、第1の実施例による輝度傾斜のための低抵抗領域LRと高抵抗領域HRの構成は同一である。
図10は、本発明の第2の実施例による輝度傾斜構造の形成方法を説明するための窒化物半導体発光素子101の一部の概略断面図である。図4(A)〜(F)に示す第1の実施例による輝度傾斜構造の形成方法に代えて、図10(A)〜(E)に示す工程を実行することにより、第2の実施例による窒化物半導体発光素子101を作製することができる。すなわち、輝度傾斜構造以外は、全て第1の実施例と同様の構成とすることができる。
第2の実施例では、まずデバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)の所定領域にプラズマダメージを与えて高抵抗領域HRとした後、その上にITO膜3a、反射金属膜3bを順次成膜する。
まず、図10(A)に示すように、フォトリソグラフィにより、デバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)にフォトレジストパターンPRを所望のパターンで形成する。
次に、図10(B)に示すように、フォトレジストパターンPRをマスクとして、露出しているp型GaN層24表面にプラズマ照射することで、電流が流れない高抵抗領域HRを形成する。プラズマ照射部の接触抵抗は1×10−2Ωcm2以上で電流が流れにくい高抵抗領域HRとなる。それぞれの高抵抗領域HRの厚さは、p型GaN層24の膜厚より薄く設定される。ここでは、Ar、He、N2、CF4及びH2をプラズマの不活性ガスとして用いることができる。その後、図10(C)に示すように、フォトレジストパターンPRを除去する。
次に、図10(D)に示すように、デバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)のプラズマダメージを与えた領域および与えていない領域の双方を覆うように、フォトリソグラフィ及びスパッタ法を用いて、透明導電膜材料を成膜し、パターニングして透明電極を形成する。例えば、スパッタ装置を用い、Ar:50sccm、O2:0.5sccm、圧力:0.5Paの条件下で、インジウムスズ酸化物(ITO)を15nmの膜厚で成膜する。成膜したITO膜をフォトリソグラフィエッチング法により、所望の形状にウエットエッチングし、p型GaN層24表面の一部に透明電極層(ITO膜)3aを形成する。酸素を含む熱処理前なので、不要なITO膜はすべて取り除くことが可能である。その後、酸素を含む雰囲気中でITO膜3aを加熱(400℃〜700℃、好ましくは、450℃〜600℃)する(ITOアニール処理)。加熱処理をすることで、接触抵抗と透過率が良くなる。
次に、図10(E)に示すように、ITO膜3a表面に、電子ビーム蒸着法により膜厚200nm程度のAg層を形成し、周知のリフトオフ法によりパターニングし、ITO膜3aと反射金属膜3bからなる反射電極層3を形成する。なお、反射金属膜3bは、Agの他、Pt、Pd、Ni、Ti、Al及びこれらを含む合金を使用しても良い。反射電極層3は、活性層23にて生成された光のうち、p型半導体層24側へ放射された光を再び光放射面であるn型半導体層21側へ反射させる為に、発光波長に対して高反射性を有する金属層である。Ag層3bの厚さは、100nm以上が好ましい。これより薄いと十分な光反射性が得られない。成膜方法には電子ピーム蒸着の他、スパッタ法を用いることもできる。
なお、上述のようにITO膜3a及び反射金属膜3bからなる反射電極層3の代わりに、十分な反射率とコンタクト抵抗を得ることができる薄いNi膜やNiO膜及びAg層3bからなる反射電極層を用いても良い。
第2の実施例による輝度傾斜構造では、プラズマダメージ領域24bが形成されている領域が高抵抗領域HRとなり、それ以外の領域のITO膜3aがコンタクト層として機能し、該コンタクト層が形成されている領域が低抵抗領域LRとなる。第1の実施例と同様に、配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRに流れ、低抵抗領域LRの方が高抵抗領域HRよりも高い輝度となる。したがって、図2(A)にしめすような平面パターンで低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成することにより、一方から他方にかけて徐々に輝度が変化する輝度分布を得ることができる。
図11は、本発明の第3の実施例による輝度傾斜構造の形成方法を説明するための窒化物半導体発光素子101の一部の概略断面図である。図4(A)〜(F)に示す第1の実施例による輝度傾斜構造の形成方法に代えて、図11(A)〜(D)に示す工程を実行することにより、第3の実施例による窒化物半導体発光素子101を作製することができる。すなわち、輝度傾斜構造以外は、全て第1の実施例と同様の構成とすることができる。
第3の実施例では、デバイス構造層2表面にプラズマダメージを与えずに、SiO2で透明絶縁層3cを形成し、当該透明絶縁層3cを高抵抗領域HRとする。その上にITO膜3a、反射金属膜3bを順次成膜する。なお、透明絶縁層3cの発光面を上から見たときの平面形状は、図2(A)に示すプラズマダメージ領域24bの平面形状と同様に、n側電極11から離れるに従い、水平方向(図中W方向)の幅が広くなるように設定される。
まず、図11(A)に示すように、フォトリソグラフィにより、デバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)にフォトレジストパターンPRを所望のパターンで形成し、透明絶縁層3cとして、SiO2膜を形成する。その後、図11(B)に示すように、フォトレジストパターンPRを除去して、リフトオフにより透明絶縁層3cを所望の形状(例えば、図2(A)に示すプラズマダメージ領域24bの平面形状)にパターニングする。
次に、図11(C)に示すように、透明絶縁層3c及び透明絶縁層3c間から露出するデバイス構造層2表面(p型GaN層24表面)に、フォトリソグラフィ及びスパッタ法を用いて、透明導電膜材料を成膜し、パターニングして透明電極を形成する。例えば、スパッタ装置を用い、Ar:50sccm、O2:0.5sccm、圧力:0.5Paの条件下で、インジウムスズ酸化物(ITO)を15nmの膜厚で成膜する。成膜したITO膜をフォトリソグラフィエッチング法により、所望の形状にウエットエッチングし、透明電極層(ITO膜)3aを形成する。酸素を含む熱処理前なので、不要なITO膜はすべて取り除くことが可能である。その後、酸素を含む雰囲気中でITO膜3aを加熱(400℃〜700℃、好ましくは、450℃〜600℃)する(ITOアニール処理)。加熱処理をすることで、接触抵抗と透過率が良くなる。
次に、図11(D)に示すように、ITO膜3a表面に、電子ビーム蒸着法により膜厚200nm程度のAg層を形成し、周知のリフトオフ法によりパターニングし、ITO膜3aと反射金属膜3bからなる反射電極層3を形成する。なお、反射金属膜3bは、Agの他、Pt、Pd、Ni、Ti、Al及びこれらを含む合金を使用しても良い。反射電極層3は、活性層23にて生成された光のうち、p型半導体層24側へ放射された光を再び光放射面であるn型半導体層21側へ反射させる為に、発光波長に対して高反射性を有する金属層である。Ag層3bの厚さは、100nm以上が好ましい。これより薄いと十分な光反射性が得られない。成膜方法には電子ピーム蒸着の他、スパッタ法を用いることもできる。
なお、上述のようにITO膜3a及び反射金属膜3bからなる反射電極層3の代わりに、十分な反射率とコンタクト抵抗を得ることができる薄いNi膜やNiO膜及びAg層3bからなる反射電極層を用いても良い。
第3の実施例による輝度傾斜構造では、透明絶縁層3cが形成されている領域が高抵抗領域HRとなり、それ以外の領域のITO膜3aがコンタクト層として機能し、該コンタクト層が形成されている領域が低抵抗領域LRとなる。第1及び第2の実施例と同様に、配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRに流れ、低抵抗領域LRの方が高抵抗領域HRよりも高い輝度となる。したがって、図2(A)にしめすような平面パターンで低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成することにより、一方から他方にかけて徐々に輝度が変化する輝度分布を得ることができる。
図12は、本発明の第4の実施例による輝度傾斜構造の形成方法を説明するための窒化物半導体発光素子101の発光面の概略平面図及び一部の概略断面図である。図4(A)〜(F)に示す第1の実施例による輝度傾斜構造の形成方法に代えて、図12(B)に示す工程を実行することにより、第4の実施例による窒化物半導体発光素子101を作製することができる。すなわち、輝度傾斜構造以外は、全て第1の実施例と同様の構成とすることができる。
図12(A)は、本発明の第4の実施例による窒化物半導体発光素子101の発光面の概略平面図であり、図12(B)は、図12(A)の直線ef間における窒化物半導体発光素子101の一部の概略断面図である。
第4の実施例では、p型半導体層24表面へのプラズマダメージの深さ(プラズマダメージ領域24bの深さ)を、n側電極11から離れるに従い深くし、徐々に接触抵抗が高くなるようにして、輝度分布を形成する。
まずp型半導体層24表面に、フォトレジストをグレーデッドな角度、膜厚で形成する。その後、フォトレジストを削りつつプラズマダメージを与えることにより、プラズマダメージをグレーデッドに与えることができる。なお、なだらかなテーパー角をもつフォトレジストレジストのパターニング方法としては、フォトリソグラフィにおいて露光時にグレースケールのマスクを用いること等により可能である。なお、電流拡散の観点から、配線電極8直下は、高抵抗領域HRとなっていることが好ましい。
その後、p型半導体層24表面に、電子ビーム蒸着法により膜厚200nm程度のAg層を形成し、周知のリフトオフ法によりパターニングし、Ag膜からなる反射電極層3を形成する。なお、Ag膜は、Agの他、Pt、Pd、Ni、Ti、Al及びこれらを含む合金を使用しても良い。
第4の実施例による輝度傾斜構造では、p型半導体層24表面に与えられるプラズマダメージの深さが、n側電極11から離れるに従い連続的に深くなるため、徐々に接触抵抗が高くなる。そのため、n側電極11に近い領域は相対的に低抵抗領域LRとなり遠く離れるに従い高抵抗領域HRとなる。第1及び第2の実施例と同様に、配線電極8(n側電極11)から注入される電流は選択的に低抵抗領域LRに流れ、低抵抗領域LRの方が高抵抗領域HRよりも高い輝度となる。したがって、図12(A)にしめすように、一方から他方にかけて徐々に輝度が変化する輝度分布を得ることができる。
なお、この例では、p型半導体層24表面に与えられるプラズマダメージの深さを連続的に変化させたが、段階的に深くするようにしてもよい。また、プラズマダメージ領域24bの平面形状を第1の実施例と同様に、n側電極11から離れるに従い、水平方向(図中W方向)の幅が広くなるようにしてもよい。さらに、第1〜第3の実施例と組み合わせて、例えば、反射電極層3をITO膜3a及び反射金属膜3bで構成してもよいし、プラズマダメージ領域24bに加えてSiO2膜による透明絶縁層3cを形成するようにしてもよい。
図13は、本発明の各実施例によるLEDアレイ100(もしくは単一の半導体発光素子101)を組み込んだ車両用灯具(ヘッドランプ)50の構成を表す概念図である。
ヘッドランプ50は、LEDアレイ100の発光面を覆うように配置された蛍光体層(波長変換層)108からなる光源102と、複数の小反射領域に区画されたマルチリフレクタである反射面103を含んで構成される。
光源102は、n側電極11側(輝度がピークの部分で図1のHf側)が車両前方側に位置し、p電極12側(図1のHb側)が車両後方側(すなわち反射面103側)に位置し、かつ、当該光源102の照射方向(すなわち当該光源102の発光面)が下向きとなるように配置されている。
反射面103は、焦点が光源102近傍に設定された回転放物面系の反射面(例えば、複数の小反射領域に区画されたいわゆるマルチリフレクタ)であり、光源102からの光が入射するように、光源102の側方から前方にかけての範囲を覆うように(すなわち光源102の前方に)配置されている。反射面103は、図13に示すように、輝度がピークの部分が上方に位置するように光源102の光源像106を車両前方に投影し、車両前端部に正対した仮想鉛直スクリーン107上に、光源102の光源像を形成するように構成されている。
上記の構成により車両用灯具50では、カットオフライン付近が最も明るく、当該カットオフラインから下側に行くに従って照度が低下していくグラデーション形状の遠方視認性に優れたすれ違いビーム用配光パターンを形成することが可能となる。他のタイプの車両用灯具であっても、反射面で反射される光がカットオフラインから下側に行くにしたがってLEDアレイの輝度傾斜の高い側から低い側の光が反映されるように配置されればよい。
以上、本発明の各実施例によれば、窒化物半導体発光素子101に、配線電極8(n側電極11)と反射電極層3(p側電極12)との間に低抵抗領域LRと高抵抗領域HRとを形成する。これにより、配線電極8(n側電極11)から注入される電流を選択的に低抵抗領域LRへ向かうようすることができる。よって、低抵抗領域LRと高抵抗領域HRの平面視上の配置を制御することにより、窒化物半導体発光素子101全体の光量を落とすことなく、所望の輝度分布を形成することが可能となる。
例えば、n側電極11が形成される側にピークを有し、該n側電極から離れるに従い徐々に輝度が減少する輝度分布を形成することができる。このような輝度分布を有する窒化物半導体発光素子101を車両用灯具に用いることにより、窒化物半導体発光素子101からの光の一部をカットすることなく、所望のカットオフパターンを有する配光を実現することができる。よって、光利用効率を向上させることができる。
以上、実施例、及び変形例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
以上、実施例、及び変形例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
1…成長基板、2…デバイス構造層(GaN系発光部)、3…p電極層(反射電極層)、4…エッチングストップ層、5…第1接着層、6…第2接着層、7…絶縁膜、8…配線電極、9…絶縁層、10…支持基板、11…n側電極、12…電極部(p側電極)、20…バッファ層、21…アンドープGaN層、22…n型GaN層、23…活性層、24…p型GaN層、50…ヘッドランプ、100…LEDアレイ、101…窒化物半導体発光素子(LED素子)、108…蛍光体層(波長変換層)、102…光源、103…反射面、106…光源像、107…照射面
本発明の一観点によれば、半導体発光装置は、p型半導体層と、活性半導体層と、n型半導体層とを含む半導体積層と、p型半導体層情報に形成された第1電極構造と、n型半導体層上方に形成された第2電極構造とを含む対向電極構造と、p型半導体層とn型半導体層の一方の表面層を含み、光出力面の1端から他端に向かって徐々に変化する輝度傾斜を作る輝度傾斜創出構造とを有する。
また、本発明の他の観点によれば、輝度勾配を持つ光を放出できる半導体発光装置の製造方法は、成長基板上に、p型半導体層、活性半導体層、n型半導体層を含む、半導体積層を成長し、p型半導体層とn型半導体層の少なくとも一方の表面層を含み、光出力面の1端から他端に向かって徐々に変化する輝度傾斜を創出する、輝度傾斜創出構造を作成し、p型半導体層上方に形成された第1電極構造と、n型層上方に形成された第2電極構造とを含む、対向電極構造を形成する。
個々のLED素子101は、図1(B)に示すように、それぞれ左右に隣接するLED素子101と直列に接続されている。LED素子101のn側電極11は、隣接するLED素子101のp側電極12と電気的に接続され、p側電極12は隣接するLED素子101のn側電極11と電気的に接続されている。LEDアレイ100の端部に位置するLED素子101のp側電極12及びn側電極11はそれぞれ給電パッド13に接続されている。
次に、p型GaN層24の活性化を行う。p型半導体層中のMgは、成長過程において膜中に水素が混入し、Mg−H結合となっている。この様な状態では、ドーパントとしての機能を果たす事が出来ず、p型半導体層は高抵抗化している。その為、p型半導体層の水素を膜中より追い出す活性化工程が必要となる。具体的には、熱処理炉を用いて真空又は不活性ガス雰囲気中にて400℃以上の熱処理を行う。
次に、図4(E)に示すように、ITO膜3aをマスクとして、ITO膜3aが形成されていない領域で露出しているp型GaN層24表面にプラズマ照射することで、電流が流れない高抵抗領域HRを形成する。プラズマ照射部の接触抵抗は1×10−2Ωcm2以上で電流が流れにくい高抵抗領域HRとなる。それぞれの高抵抗領域HRの厚さは、p型GaN層24の膜厚より薄く設定される。ここでは、Ar、He、N2、CF4及びH2をプラズマの不活性ガスとして用いることができる。
次に、電子ビーム蒸着法により、膜厚1nmのTi層、膜厚200nmのAl層、膜厚100nmのTi層、膜厚200nmのPt層、膜厚2.5μmのAu層をこの順序で積層し、リフトオフによってパターニングすることにより、n型GaN層22と隣接する素子の電極部12(p側電極)とを接続する、例えば、幅10μm程度の配線電極8を形成する。配線電極8は、n型GaN層22の上面から連続してデバイス構造層2の順テーパ形状の側面及び第1接着層5と第2接着層6から形成された融着層の順テーパ形状の側面上に、絶縁性保護膜7を介して形成されている。また、配線電極8は、n型GaN層22に接触し、当該n型GaN層22とオーミック接触を形成している。配線電極8は、平面または順テーパ形状の表面上に形成されるため、製造工程中又は製造後に断線することなく配置される。なお、配線電極8の線幅は20μm以下3μm以上であることが好ましい。
Claims (5)
- 支持基板と、
第1導電型の第1半導体層と、該第1半導体層の上に形成される活性層と、該活性層の上に形成される第2導電型の第2半導体層とを含む半導体積層と、
前記第1半導体層と電気的に接続する第1の電極層と、
前記第1の電極層と対をなし、前記第2半導体層と電気的に接続する第2の電極層と、
前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に配置され、前記第2半導体層の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域と
を有する半導体発光素子。 - 請求項1記載の半導体発光素子と、
前記半導体発光素子の照射像を所定の配光形状で照射する光学系と
を有する車両用灯具。 - (a)成長基板を準備する工程と、
(b)前記成長基板上に、第1導電型の第1半導体層と、該第1半導体層の上に形成される活性層と、該活性層の上に形成される第2導電型の第2半導体層とを含む半導体積層を成長する工程と、
(c)前記第2半導体層表面に、前記第2半導体層の一端から他端にかけて面積又は抵抗値が増大する高抵抗領域を形成する工程と、
(d)前記高抵抗領域を含む前記第2半導体層上に第2の電極層を形成する工程と、
(e)前記第2の電極層上に第1を接合層形成する工程と、
(f)前記半導体積層を分割する工程と、
(g)支持基板を準備する工程と、
(h)前記支持基板上に、第2接合層を形成する工程と、
(i)前記第1接合層と前記第2接合層とを重ね合わせて接合することにより融着層を形成する工程と、
(j)前記成長基板を前記半導体積層から剥離する工程と、
(k)前記第1半導体層上に第1の電極層を形成する工程と
を含む半導体発光素子の製造方法。 - 前記工程(c)は、前記第2半導体層表面の所定領域にプラズマダメージを与えることにより高抵抗領域を形成する請求項3記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記工程(c)は、前記第2半導体層表面の所定領域に絶縁層を形成することにより高抵抗領域を形成する請求項3記載の半導体発光素子の製造方法。
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