JP2014040639A - 金属の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】陽イオン交換膜により、陰極を備えた陰極室と、ダイヤモンド電極を備えた陽極室と、に仕切られた電解槽の、前記陰極室に金属イオンを含む溶液を供給し、前記陽極室に還元された状態の酸化剤を含む溶液を供給し、前記陰極と前記ダイヤモンド電極との間に電圧を印加して、前記陰極室では陰極表面に金属を析出させ、前記陽極室では溶液中の酸化剤を再生させることを特徴とする金属の製造方法。
【選択図】図1
Description
上記のような乾式法による銅の回収は、工程はシンプルであるが、樹脂の燃焼により二酸化炭素が発生するため環境負荷が大きく、また、銅は酸化銅として回収されるため還元処理を行うことが必要となる。更に、原料となる市場から回収した銅スクラップの純度によっては回収される金属銅の純度が低くなってしまう。
しかしながら湿式法ではアノード電極では酸素が発生するため、電解時の消費電力が必然的に大きくなるという問題がある。
しかしながら、銅を回収する処理対象溶液にはマンガン、ニッケル、亜鉛、鉛などの金属の各イオンが含まれているため、電解操作を行うには金属イオンを除去することが必要である。このとき、目的物の抵抗が高い、あるいは絶縁性の樹脂に覆われているなど何らかの理由により通電が困難な場合は、目的物をアノード溶解させ、カソード側に析出させる電解精錬手法の適用が困難であるという問題がある。
その結果、サイクルを重ねる毎に、電析効率が高くなる一方、溶解速度は遅くなり、20サイクル目で溶解させることができなくなった。この原因を調査した結果、溶液中の過硫酸アンモニウムが減少していることに起因することが判明した。そこで、20サイクル毎に新たに過硫酸アンモニウムを補充し、更にサイクルを重ねたところ、60サイクル目では過硫酸アンモニウムが溶けきらずに沈殿してしまい、沈殿物の増加により検証を続けることができなくなってしまった。
(1)陽イオン交換膜により、陰極を備えた陰極室と、ダイヤモンド電極を備えた陽極室と、に仕切られた電解槽の、
前記陰極室に金属イオンを含む溶液を供給し、
前記陽極室に還元された状態の酸化剤を含む溶液を供給し、
前記陰極と前記ダイヤモンド電極との間に電圧を印加して、前記陰極室では陰極表面に金属を析出させ、前記陽極室では溶液中の酸化剤を再生させる
ことを特徴とする金属の製造方法。
(2)前記金属イオンを含む溶液は、
少なくとも前記酸化剤を含む電解液中に金属含有物を添加して金属を電解液中に溶かして得られたものである
ことを特徴とする上記(1)に記載の金属の製造方法。
(3)前記金属イオンを含む溶液は、
電線、プリント基板、半導体、モーター、自動車のシュレッダーダスト及び金属を含有する電子機器からなる群より選ばれるいずれか一種以上の粉砕物を透水性の袋に詰めたものを、少なくとも前記酸化剤を含む電解液中に添加し、攪拌して得られたものである
ことを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の金属の製造方法。
(4)前記金属イオンを含む溶液が、少なくとも、銅、ニッケル及び亜鉛からなる群より選択されるいずれか1種以上の金属のイオンを含んでいることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の金属の製造方法。
(5)前記陰極表面に析出する金属が、銅、ニッケル、又は亜鉛であることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載の金属の製造方法。
(6)前記酸化剤が、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、又は塩酸であることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれかに記載の金属の製造方法。
(7)前記酸化剤が過硫酸アンモニウムであることを特徴とする上記(6)に記載の金属の製造方法。
(8)前記ダイヤモンド電極が、シリコン基板上にCVD法により導電性ダイヤモンド膜を形成して得られたものであることを特徴とする上記(1)〜(7)のいずれかに記載の金属の製造方法。
このため、続けて金属銅の電析を行う場合には、両室から陰極とダイヤモンド電極を取り出し、再生された酸化剤が多く含まれる方の溶液に金属銅含有物を供給して銅を溶解して陽極を設置し、更に、反対側の還元された状態の酸化剤が多く含まれる方の溶液にはダイヤモンド電極を設置し、両極間に電圧を印加すればよい。すなわち、最初に説明した操作手順における陰極室と陽極室とを入れ換えて電析を行えばよい。これにより、新たな陰極室の陰極表面には金属銅が析出し、かつ、新たな陽極室では酸化剤の再生を行うことができる。
上記のように、金属銅含有物を供給しつつ、陰極室と陽極室とを入れ替えるだけで電解精錬を繰り返すことができ、また、毎回酸化剤を再生させることができるため液寿命が非常に長く、廃液を出さずに操業することが可能である。
このようにするためには、例えば、上段の電極槽部よりも下段の溶液槽部を大きくし、陰極室の陽イオン交換膜ではない方の側壁の片側のみを、対向する側の側壁よりも低く形成し、また、同様に、陰極室の側壁も、陽極室において低く形成した側壁とは反対側の側壁のみを低く形成すればよい。これにより、ポンプによって陰極室又は陽極室に供給されたそれぞれの溶液の量がそれぞれの室の容量を超えると、低く形成された側壁から溢れ出て下段のそれぞれの部屋に戻されて溶液が循環するようになり、電解精錬の効率を上げることができる。
(金属含有物)
金属含有物としては、目的となる金属が含まれていればどのようなものでもよい。例えば、市場からの回収品を利用すれば、資源保護に資することができる。例えば、銅線、パソコンや家電製品のプリント基板、半導体、電子機器、モーター、自動車のシュレッダーダスト、ハーネスコネクタ等を利用することにより、銅、ニッケル、亜鉛、銀、鉄など金属含有物に含まれる任意の金属を得ることができる。
酸化剤は、金属含有物から金属を溶解させることができるものであればどのようなものでも使用することができ、金属含有物に含まれる金属の種類に応じて適宜選択すればよい。例えば、塩素、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過硫酸ソーダ等が挙げられるが、これらのなかでも過硫酸アンモニウムが特に好ましい。
電解液は特に限定されるものではなく、上記酸化剤との組み合わせにより適宜選択すればよい。例えば、硫酸、塩酸、リン酸、フッ酸、硝酸等の酸性溶液が挙げられる。これらのなかでも硫酸が特に好ましい。
上記の酸化剤との組み合わせでは、過酸化水素と硫酸の組み合わせや、過硫酸アンモニウムと硫酸の組み合わせが好ましく、過硫酸アンモニウムと硫酸の組み合わせが特に好ましい。過硫酸アンモニウムは濃度が1g/L〜飽和溶解度の範囲で用いることができるがさらに30〜100g/Lが好ましい。また、硫酸過水は硫酸と過酸化水素のモル比(H2SO4/H2O2)が0.61〜1.5の範囲で用いることが好ましい。
陽イオン交換膜は、陰イオン、特に還元された状態の酸化剤を透過しないものであればどのようなものでも使用することができる。市販品としては、例えば、SF7202(旭化成イーマテリアルズ株式会社)、ナフィオン−117(デュポン株式会社)、アシブレックス(旭化成ケミカルズ)等が挙げられるが、これらの中でも耐久性の観点からデュポン株式会社製のナフィオン−117が特に好ましい。
陰極としては、電極表面に金属を析出させることができるものであればどのようなものでも使用することができる。例えば、銅、白金、ニッケル、鉄、チタン等が挙げられ、対象となる金属の種類に応じて適宜選択すればよい。
ダイヤモンド電極としては、少なくとも表面に導電性ダイヤモンドを有する電極であればどのようなものでも使用することができる。例えば、シリコン基板表面に化学気相成長法(CVD法)により導電性ダイヤモンド膜を形成したものを好ましく用いることができる。このようなダイヤモンド電極は、市場においては例えば、住友電工ハードメタル株式会社より購入することができる。
ダイヤモンド電極は、陽極側にも陰極側にも広い電位窓(>2V)を有するため強い酸化・還元力を有し、水電解以外の反応を起こすことができる。このため本発明においてもダイヤモンド電極を陽極として用いることにより、酸化剤を効率よく再生させることが可能となる。
金属含有物として、市場から回収した細い銅線の粉砕物を用いた。当該粉砕物の組成は、銅が約38質量%、樹脂が約47質量%、水分が約15質量%であった。これをポリプロピレン製の不織布でできた袋に詰めた。
陽イオン交換膜でしきられたもう一方の室には、6Nの硫酸1Lに60gの硫酸アンモニウムを溶かした溶液を入れ、ダイヤモンド電極(陽極)を設置して陽極室とした。ダイヤモンド電極は、住友電工ハードメタル株式会社製のダイヤ電極工業グレードを用いた。
陰極の表面には金属銅が析出し、また、陽極室内の溶液からは過硫酸イオンが確認された。金属銅の純度は99.99%であり、陽極室内の溶液は濃度が80g/Lの過硫酸アンモニウム溶液であることが確認された。陰極室内の溶液は、酸化剤である過硫酸アンモニウムが還元されて硫酸アンモニウムとなっていた。
1回目の通電処理と同様に、陰極の表面には純度が99.99%の金属銅が析出し、陽極室中の溶液は酸化剤が再生して濃度が80g/Lの過硫酸アンモニウム溶液となっていた。
実施例1と同様にして、実施例1で用いたと同じ金属含有物の粉砕物を袋に詰めた。
6Nの硫酸1Lに、濃度30%の過酸化水素水0.1Lを加えて攪拌した。当該溶液に上記で用意した袋を浸し、スターラーを用いてよく攪拌し、銅イオンを含む溶液を用意した。
陽極室中の溶液を硫酸(6N)に変えた以外は実施例1と同様の陽イオン交換膜、陰極、ダイヤモンド電極を用意して各々セッティングし、両極間に、20Vの電圧を印加して、10分間、通電処理した。
陰極の表面には純度99.99%の金属銅が析出し、また、陽極室中の溶液は過酸化水素の濃度が0g/Lの硫酸過水になっていることが確認された。
1回目の通電処理と同様に、陰極の表面には純度が99.99%の金属銅が析出し、陽極室中の溶液は酸化剤が再生して濃度が5g/Lの硫酸過水となっていた。
これと同様の操作を繰り返し行ったところ、20サイクル後には酸化剤としてのH2O2量が減少していることが確認されたため、濃度が30%の過酸化水素水を0.1L添加して、同様の操作を繰り返した。
過酸化水素を適時補充することにより、100サイクル後においても処理液が寿命に達することはなく、連続して利用できることが確認された。なお、添加した過酸化水素は銅の溶解に伴い水となるが、水分の蒸発が起こるため体積は見かけ上過酸化水素水の添加前と変わらず、バランスさせることが出来る。
金属含有物として、銅純度が80%、残部がニッケル19%、シリコン1%からなる合金端子材をポリプロピレン製の不織布でできた袋に詰め、実施例1と同様の方法で金属の溶解、析出を行った。
その結果、電圧を20Vとして電解したところ純度99.99%の銅が陰極(Pt製)表面に析出し回収することができた。また、シリコンはSiO2粉末として濾過フィルターにより回収することができた。
銅の回収が終わった段階で陰極を新しいものに交換して、電圧を30Vまで上げたところ、ニッケルが99.9%以上の純度で陰極表面に析出し回収することができた。
さらに、電解液についても酸化剤の再生が可能であり、実施例1と同様に繰り返し使用することができることを確認した。
金属含有物として、銅純度が1%、残部がニッケル99%である合金屑をポリプロピレン製の不織布でできた袋に詰め、実施例1と同様の方法で金属の溶解、析出を行った。
その結果、実施例3と同様に、先ず20Vで99.99%以上の純度の銅を陰極(Pt製)表面に析出させて回収することができた。さらに、陰極を交換して電圧を30Vに上げて実施したところ、ニッケルを99.95%の純度で陰極表面に析出させて回収することができ、なおかつ電解液も繰り返し使用することができることが確認された。
金属含有物として銅純度が80%、残部が亜鉛である合金屑をポリプロピレン製の不織布でできた袋に詰め、実施例1と同様の方法で金属の溶解、析出を行った。
その結果、実施例3と同様に、先ず20Vで99.9%の純度の銅を陰極(Pt製)表面に析出させて回収することができた。さらに、陰極を交換して40Vまで電圧を上げたところ、激しいガス発生を伴ったが99.9%以上の純度の亜鉛を陰極表面に析出させて回収可することができ、なおかつ電解液も繰り返し使用できることが確認された。
実施例1と同様にして、実施例1で用いたと同じ金属含有物の粉砕物を袋に詰めた。
6Nの硫酸1Lに、60gの過硫酸アンモニウムを加えて攪拌し完全に溶解させた。更に、上記で用意した金属含有物の粉砕物が詰まった袋を溶液中に浸し、スターラーを用いてよく攪拌し、銅イオンを含む溶液を用意した。
この銅イオンを含む溶液中に、実施例1と同様の陰極及びダイヤモンド電極を設置し、両極間に20Vの電圧を印加して、10分間、通電処理を行ったところ、陰極表面に純度99.99%の金属銅が析出した。
続いて、陰極を新しいものに交換し、溶液中に金属含有物の粉砕物が詰まった袋を入れ、スターラーを用いて良く攪拌し、銅イオンを含む溶液を作製した。そして上記と同様に両極間に20Vの電圧を印加して、10分間、通電処理を行った。その結果、1回目と同様に陰極表面には純度99.99%の金属銅が析出した。
そこで、20サイクル毎に過硫酸アンモニウムを追加して同様の操作を繰り返したが、60サイクル目では硫酸イオンの増加により過硫酸アンモニウムが溶けなくなり、沈殿物が増えすぎてしまった。このため、処理液を交換しなければ操作を続けることが出来なくなった。
ダイヤモンド電極の代わりに白金製の陽極を用いた以外は実施例1と同様にして、装置のセッティングを行った。
両極間に20Vの電圧を印加して、10分間、通電処理したところ、陰極の表面には純度99.99%の金属銅が析出したが、陽極室においては、過硫酸イオンは生成されていなかった。
また、実施例1と同様にして操作を繰り返したところ、15〜20サイクル目で銅を溶解させることができなくなった。
比較例2と同様に過硫酸アンモニウムを追加しながら操作を続けたが、50サイクル目で過硫酸アンモニウムが溶けなくなり、液寿命となった。
Claims (8)
- 陽イオン交換膜により、陰極を備えた陰極室と、ダイヤモンド電極を備えた陽極室と、に仕切られた電解槽の、
前記陰極室に金属イオンを含む溶液を供給し、
前記陽極室に還元された状態の酸化剤を含む溶液を供給し、
前記陰極と前記ダイヤモンド電極との間に電圧を印加して、前記陰極室では陰極表面に金属を析出させ、前記陽極室では溶液中の酸化剤を再生させる
ことを特徴とする金属の製造方法。 - 前記金属イオンを含む溶液は、
少なくとも前記酸化剤を含む電解液中に金属含有物を添加して金属を電解液中に溶かして得られたものである
ことを特徴とする請求項1に記載の金属の製造方法。 - 前記金属イオンを含む溶液は、
電線、プリント基板、半導体、モーター、自動車のシュレッダーダスト、及び金属を含有する電子機器からなる群より選ばれるいずれか一種以上の粉砕物を透水性の袋に詰めたものを、少なくとも前記酸化剤を含む電解液中に添加し、攪拌して得られたものである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の金属の製造方法。 - 前記金属イオンを含む溶液が、少なくとも、銅、ニッケル及び亜鉛からなる群より選択されるいずれか1種以上の金属のイオンを含んでいることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属の製造方法。
- 前記陰極表面に析出する金属が、銅、ニッケル、又は亜鉛であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の金属の製造方法。
- 前記酸化剤が、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、又は塩酸であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の金属の製造方法。
- 前記酸化剤が過硫酸アンモニウムであることを特徴とする請求項6に記載の金属の製造方法。
- 前記ダイヤモンド電極が、シリコン基板上にCVD法により導電性ダイヤモンド膜を形成して得られたものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の金属の製造方法。
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