JP2014034523A - モノまたはジハロゲノピリジルアミン類の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
下記一般式(1)
(式中、
NPGは、1もしくは2つの保護基により保護されたアミノ基であり;
Xは、ハロゲン原子であり、かつ少なくとも1つのXは、NPGが結合する炭素原子の隣接炭素原子に結合しており;Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコシキ基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数4〜24の芳香族基、シアノ基、水酸基またはカルボキシル基であるか、あるいは隣接炭素原子に結合した2個のRは、環を形成してもよく;
nは、2〜4であり、mは、0〜2であり、かつm+nは、4以下であるが、但し隣接炭素原子に結合した2個のRが環を形成する場合、m+nは、4を超えてもよい)
で表わされるポリハロゲノピリジルアミン類を、溶媒中、白金族触媒と、マグネシウムと、水素源との存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(2):
(式中、NPG、X、Rおよびmは、前記と同義であり、n′は、1〜2であるが、但しn>n′である)
で表わされるモノまたはジハロゲノピリジルアミン類の製造方法に関する。
〔用語の意義〕
先ず、本明細書および特許請求の範囲において用いられる用語について説明する。各用語は、他に断りのない限り、以下の意義を有する。
カラム:InterCap 5MS/Sil ProG 2M
カラム温度:50℃(2分保持)→20℃/min→280℃(1.5分保持)
インジェクション温度:50℃
キャリヤーガス:純ヘリウム G1
検出器:水素炎イオン化検出器(FID)
20mLの試験管にメタノール1mL、N,N−ジ−tert−ブトキシカルボニル−2−アミノ−3,5−ジブロモピリジン113mg(0.250mmol)、10%Pd/C 11.3mg(10.6μmol)、及びマグネシウム3.0mg(0.125mmol)を加え、水素ガスで置換されたバルーンを取り付け水素雰囲気下とした後、室温で18時間撹拌した。反応後の反応液をろ過し、ろ液を濃縮して109mgの生成物を得た(GC収率:97%)。得られた生成物について、GC−MSにて分析を行った。結果を表1に示す。
表1に示す条件に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、得られた生成物について、GC−MSにて分析を行った。結果を表1に示す。ただし、実施例4については、反応後の反応液に、ジクロロメタン20mL及び水10mLを加えた後、有機層を分取し、得られた有機層を濃縮して生成物を得た。
表1に示す条件に変更した以外は、実施例1と同様の操作を行い、得られた生成物について、GC−MSにて分析を行った。結果を表1に示す。
20mLの試験管にメタノール1mL、N,N−ジ−tert−ブトキシカルボニル−3−アミノ−2,6−ジブロモピリジン113mg(0.250mmol)、10%Pd/C 11.3mg(10.6μmol)、及びマグネシウム3.0mg(0.125mmol)を加え、水素ガスで置換されたバルーンを取り付け水素雰囲気下とした後、室温で17時間撹拌した。反応後の反応液をろ過し、ろ液を濃縮して82.4mgの生成物を得た(GC収率:94%)。得られた生成物について、GC−MSにて分析を行った。結果を表2に示す。
Claims (9)
- 下記一般式(1):
(式中、
NPGは、1もしくは2つの保護基により保護されたアミノ基であり;
Xは、ハロゲン原子であり、かつ少なくとも1つのXは、NPGが結合する炭素原子の隣接炭素原子に結合しており;
Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコシキ基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数4〜24の芳香族基、シアノ基、水酸基またはカルボキシル基であるか、あるいは隣接炭素原子に結合した2個のRは、環を形成してもよく;
nは、2〜4であり、mは、0〜2であり、かつm+nは、4以下であるが、但し隣接炭素原子に結合した2個のRが環を形成する場合、m+nは、4を超えてもよい)
で表わされるポリハロゲノピリジルアミン類を、溶媒中、白金族触媒と、マグネシウムと、水素源との存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(2):
(式中、NPG、X、Rおよびmは、前記と同義であり、n′は、1〜2であるが、但しn>n′である)
で表わされるモノまたはジハロゲノピリジルアミン類の製造方法。 - 前記白金族触媒が、Pd触媒および/またはRh系触媒であることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
- 前記白金族触媒が、Pd触媒であることを特徴とする、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記Pd触媒が、Pd/C、Pd/Al2O3および酢酸Pdからなる群より選ばれた少なくとも一種のPd触媒であることを特徴とする、請求項3に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、アルコール系溶媒であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記アルコール系溶媒が、メタノールであることを特徴とする、請求項5に記載の製造方法。
- NPGが、2つの保護基により保護されたアミノ基であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 水素源が、水素ガスまたはギ酸塩であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
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2012
- 2012-08-07 JP JP2012175067A patent/JP2014034523A/ja active Pending
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