JP2014029381A - 視差バリア構造及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】平坦化膜とカラーフィルタとのミキシングを抑制する視差バリア構造及びその製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明に係る視差バリア構造３０は、ＣＦ側基板１と、ＣＦ側基板１上の視差バリア２と、視差バリア２を覆いかつ少なくとも切断ラインを除く領域のＣＦ側基板１上に設けられ、その膜厚によって視野角を規定可能な平坦化膜３と、平坦化膜３の上面と側面を覆うキャップ層４と、キャップ層４上に設けられるブラックマトリクス５と、キャップ層４上にブラックマトリクス５と交互に設けられる各色に対応したカラーフィルタ６とを備える。
【選択図】図３

Description

この発明は、視差バリア構造及びその製造方法に関する。

液晶表示装置に代表される画像表示装置の高機能化の例として、一つの表示面に複数の画像を表示させる技術が従来存在する。この技術によれば、例えば自動車のセンターパネルに設置した表示装置から、運転席方向にナビゲーション画像を表示すると同時に助手席方向に別の画面を表示することが可能である。また別の例では、一人の視聴者に対して右目用と左目用の画像をそれぞれ表示することで、立体的な画像表示が可能である。

一つの表示面に複数の画像を表示する方法として、特許文献１，２には、視差バリアによって観察者側から見える画素を特定する方法が提案されている。カラーフィルタと視差バリアの距離は平坦化膜の厚みによって規定され、この距離によって視野角が決定する。

特許第４０２４７６９号公報 特開２００７−７２４７６号公報

しかし、特許文献１，２に開示されている視差バリア構造では、パネルの側壁で平坦化膜の端面が露出しているため、この部分から水分が浸入する危険性がある。水分が浸入すると、平坦化膜とカラーフィルタとのミキシングが加速し、画質が劣化する原因となる。

また、平坦化膜の膜厚が数十〜百数十μｍの厚さになると、視差バリアの凹凸形状が平坦化膜で埋もれてしまうため、視差バリアを基準にブラックマトリクス（ＢＭ）の位置決めを行う事が困難になる。

本発明は上述の問題点に鑑み、平坦化膜とカラーフィルタとのミキシングを抑制する視差バリア構造及びその製造方法の提供を目的とする。

本発明に係る視差バリア構造は、透明基板と、透明基板上の視差バリアと、透明基板上の切断ラインを除く領域に、視差バリアを覆って設けられ、その膜厚によって視野角を規定可能な透明平坦化膜と、透明平坦化膜の上面と側面を覆うキャップ層と、キャップ層上に設けられ、ブラックマトリクスとＲＧＢ各色に対応したカラーフィルタからなるカラーフィルタ層とを備える。

本発明に係る視差バリア構造は、透明基板と、透明基板上の視差バリアと、透明基板上の切断ラインを除く領域に、視差バリアを覆って設けられ、その膜厚によって視野角を規定可能な透明平坦化膜と、透明平坦化膜の上面と側面を覆うキャップ層と、キャップ層上に設けられ、ブラックマトリクスとＲＧＢ各色に対応したカラーフィルタからなるカラーフィルタ層とを備えるので、透明平坦化膜への水分の浸入をキャップ層で抑制することにより、ミキシングを抑制することが出来る。画質の劣化を防ぐことで、製品の長寿命化が可能となる。

実施の形態１に係る液晶表示装置の平面図である。 実施の形態１に係る液晶表示装置の断面図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の断面図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１の変形例に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１の変形例に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態１の変形例に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態２に係る液晶表示装置の平面図である。 実施の形態３に係る視差バリア構造の断面図である。 実施の形態３に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態３に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。 実施の形態３に係る視差バリア構造の製造工程を示す図である。

＜Ａ．実施の形態１＞
＜Ａ−１．構成＞
図１は、実施の形態１に係る視差バリア構造を含む４つの液晶表示装置をＣＦ側基板１側から見た平面図である。図は、切断ラインＤ１，Ｄ２で４つに分割する前の状態を示している。点線で示すＡ１〜Ａ４は各液晶表示装置の画像表示領域であり、画像表示領域には視差バリアやカラーフィルタ６（図２参照）が形成されている。

図２は、図１に示す液晶表示装置の画像表示領域内における断面図である。液晶表示装置において、液晶１１はＣＦ側基板１とＴＦＴ側基板１３に挟持される。ＣＦ側基板１とＴＦＴ側基板１３はいずれも透明基板である。ＴＦＴ側基板１３上にはＴＦＴ（図示せず）や画素電極１２が形成され、画素電極１２と液晶１１の間には、液晶１１の配列を決めるための配向膜（図示せず）が形成される。液晶１１のＣＦ側基板１側には、オーバーコート（ＯＣ）１０、ブラックマトリクス（ＢＭ）５、カラーフィルタ（ＣＦ）６、キャップ層４、平坦化膜３、視差バリア２が、液晶１１からＣＦ側基板１にかけてこの順で積層されている。なお、ＢＭ５とＣＦ６は同一レイヤに形成される。

図２において、ＣＦ側基板１の上側が観察側であり、ＴＦＴ側基板１３の下側には導光板やバックライトユニット（図示せず）などが形成される。ＣＦ側基板１の上には付加機能を実現するタッチパネルが形成されることもある。ＴＦＴ側基板１３とＣＦ側基板１は共に、液晶１１と反対側の表面に偏光板（図示せず）が形成される。

図３は、図１のＸ１−Ｙ１−Ｘ２断面における実施の形態１に係る視差バリア構造３０を示す断面図である。図３において、図２に示す構成要素と対応するものには同一の参照符号を付している。

視差バリア構造３０は、ＣＦ側基板１と、ＣＦ側基板１に形成された視差バリア２及びアライメントマーク２Ａを備える。ＣＦ側基板１は透明性の絶縁基板である。視差バリア２とアライメントマーク２Ａの材料は同一であって、クロムなどの金属、酸化物、又は有機系の黒色の樹脂等が用いられる。視差バリア２はＣＦ側基板１の画像表示領域（図１のＡ１〜Ａ４）内に形成され、アライメントマーク２Ａは画像表示領域外に形成される。

視差バリア構造３０はさらに、視差バリア２を覆う平坦化膜３と、平坦化膜３を覆うキャップ層４と、平坦化膜３上にキャップ層４を介して設けられるＢＭ５及びＣＦ６を備えている。

スクライブ領域９とは、図３において、パネルを基板から切り出す際の切断ラインＤ１が含まれる領域である。設計上決められた位置でパネルを切断することになるが、実際に切断される位置は、切断する装置の位置精度で決まる範囲内で切断されることになる。この幅に相当する領域がスクライブ領域となる。実際には、さらに、切断装置だけでなく、平坦化膜３の加工精度などを考慮した上で、切断装置が最大限ずれた場合にも切断ラインが平坦化膜にかからないように設定することになる。切断ラインＤ２についても同様である。

図１においては、４つのパネルを配置した場合を示し、２本の切断ラインＤ１およびＤ２のみを示しているが、製品となるパネルのサイズは様々であり、必ずしも２本の切断ラインだけで必要なパネルが切り出せるとは限らない。実際の製造においては、最終的な製品の寸法に仕上げるため、更に多くの切断ライン及びスクライブ領域が設定される。

平坦化膜３がこのスクライブ領域９にかかると、パネルを切断したときに平坦化膜３の側面が露出することになり、そこが水分の侵入経路となり、平坦化膜とカラーフィルタとのミキシングが加速して、ひいては画質の劣化が加速されることになる。

平坦化膜３は、アライメントマーク２Ａが形成される領域と切断ラインＤ１，Ｄ２周辺のスクライブ領域９を避けて、視差バリア２上に形成される。平坦化膜３は、視差バリア２とＣＦ６との距離を決める要素であり、その距離によって視差が定まる。例えば、自動車のセンターパネルに設置され、運転席側と助手席側とで見える画像が異なる表示装置に用いる場合には、視差バリア２とＣＦ６との距離は数十〜百数十μｍ程度必要である。これを実現するため、平坦化膜３にはアクリル系材料など透明な塗布型の絶縁膜が用いられる。

キャップ層４は、平坦化膜３とＣＦ６のミキシングを防ぐために形成するものであり、シロキサン系の塗布型絶縁膜やＳＯＧの他、プラズマＣＶＤなどによるＳｉＮやＳｉＯ等が材料として用いられる。

ＣＦ６は、赤色フィルタ６Ｒ，緑色フィルタ６Ｇ，青色フィルタ６Ｂから構成され、これらはＢＭ５を間に挟んでキャップ層４上に繰り返し配置される。ＢＭ５とＣＦ６は、画像表示領域上に、すなわち平坦化膜３上にキャップ層４を挟んで形成され、その位置は視差バリア２との関係で定められる。

図３では、キャップ層４がアライメントマーク２Ａをも覆う様を示しているが、ミキシングを防ぐ目的上、キャップ層４は少なくとも平坦化膜３の上面と側面を覆っていれば良い。キャップ層４によって平坦化膜３とＣＦ６は分離され、さらに平坦化膜３の側面が露出しないので、平坦化膜３への水分の浸入が抑制され、平坦化膜３とＣＦ６との間でのミキシングが抑制される。

＜Ａ−２．製造工程＞
図４〜８に沿って、視差バリア構造３０の製造工程を説明する。まず、ガラスなどの透明性の絶縁基板であるＣＦ側基板１上に、視差バリア２を形成する（図４）。視差バリア２はクロムなどの金属や金属酸化物、有機系の黒色の樹脂等が用いられる。視差バリア２に金属系の材料を用いる場合は、ＣＦ側基板１上に材料を堆積させ、写真製版、エッチング、及びレジスト除去と、ＴＦＴを形成するためのプロセスと同様のプロセスを使用してパターン形成を行う。なお、視差バリア２の材料は、効果的に光を遮断でき、加工しやすい材料であれば良いので、クロム以外の金属材料を用いても良い。

視差バリア２に有機系の材料を用いる場合は、上述の金属材料を用いる場合と同様のプロセスによってパターン形成が行われる。あるいは、感光性を有する材料である場合は、写真製版の工程だけでパターン形成することも可能である。

このパターン形成工程により、画像表示領域内に視差バリア２を形成すると同時に、画像表示領域外にはアライメントマーク２Ａが形成される。

次に、視差バリア２上に平坦化膜３を形成する。まず、平坦化膜３をＣＦ側基板１の全面に形成し、写真製版によりパターン形成したレジストマスク８（図５）を用いてエッチングすることにより、アライメントマーク２Ａとスクライブ領域９上から平坦化膜３を除去する（図６）。ここで、アライメントマーク２Ａに有機系の樹脂材料を用いている場合は、アライメントマーク２Ａのエッチング耐性が平坦化膜３と同程度になるため、平坦化膜３を除去する過程でアライメントマーク２Ａも除去してしまう可能性がある。そのため、このような場合には視差バリア２及びアライメントマーク２Ａには金属系の材料を用いる方が良い。

次に、キャップ層４を基板１の全面に形成する（図７）。キャップ層４の材料には、シロキサン系の塗布型絶縁膜やＳＯＧの他，プラズマＣＶＤなどによるＳｉＮ，ＳｉＯなどを用いる。キャップ層４は、平坦化膜３の上面と側面に形成されていれば、平坦化膜３とＣＦ６のミキシングを防ぐことが出来るので、アライメントマーク２Ａ上からキャップ層４を除去しても良い。しかし、キャップ層４は平坦化膜３に比べて薄く、アライメントマーク２Ａの段差がキャップ層４に反映されるので、除去しなくても後工程でアライメントマーク２Ａを用いた位置合わせを行うことは可能である。

次に、キャップ層４上に感光性の樹脂膜からなるＢＭ５を形成し、レジストマスク２１を用いた写真製版によりＢＭ５のパターニングを行う（図８）。このときに、キャップ層４やＢＭ５は平坦化膜３に比べて薄く、アライメントマーク２Ａの段差がＢＭ５に反映されるので、その段差を用いてＢＭ５のパターニングを行う。よって、視差バリア２とＢＭ５の重ね合わせ精度を確保することが可能である。ＣＦ６Ｒ，６Ｇ，６Ｂについては、パターニング後のＢＭ５を基準に位置決めをして形成することが可能である。

＜Ａ−３．変形例＞
上記では、アライメントマーク２Ａ上とスクライブ領域９から平坦化膜３を除去する方法として、写真製版とエッチングについて説明した。エッチングをサンドブラスト法で行う場合に、アライメントマーク２Ａが樹脂系の材料であると、アライメントマーク２Ａが平坦化膜３と共に除去されてしまう危険性がある。

そこで、視差バリアとアライメントマークの形成は次に示す方法等により形成する。視差バリア，アライメントマークの下層膜２３と、メタル材料などから成るハードマスク２５を順次積層する。この積層膜を写真製版およびエッチングにより所望のパターンに加工する。下層膜２３はハードマスク２５とのエッチング選択性が確保できればよく、有機系の材料などからなる。

写真製版によりパターニングされたフォトレジスト８の膜厚は、通常１〜１０μｍ程度であり、これに対して、平坦化膜３の膜厚は数十〜百数十μｍ程度である。そのため、全面をサンドブラストするとフォトレジスト８が耐えきれない危険性があるので、平坦化膜３の上にハードマスク２４を形成し（図９）、フォトレジスト８をマスクにハードマスク２４をパターニングしてから、ハードマスク２４を使ってサンドブラスト法により平坦化膜３をエッチングする（図１０）。

その後、アライメントマーク２６Ａの上層であるハードマスク２５と、ハードマスク２４をエッチングで除去する（図１１）。その後は、図７，８に示す工程と同様にして視差バリア構造を形成する。

アライメントマーク２６Ａは下層の有機系材料２３のみが残されるが、アライメントマークとしては十分に機能する。

視差バリア２６は積層されたままの状態となるが、元々が遮光性のある材料を用いるため、上層にメタルなどのハードマスク２５が残されても視差バリアとしての機能には支障ない。

＜Ａ−４．効果＞
本実施の形態の視差バリア構造３０では、膜厚によって視野角を規定可能な平坦化膜３（透明平坦化膜）が、視差バリア２を覆いかつ少なくともスクライブ領域９を避けてＣＦ側基板１上に設けられ、キャップ層４が平坦化膜３の上面と側面を覆って設けられ、ＢＭ５及び各色に対応したＣＦ６がキャップ層４上に設けられる。そのため、平坦化膜３はＣＦ６と接することがなく、その側面はキャップ層４に覆われているので水分の浸入が抑制される。よって、平坦化膜３とＣＦ６とのミキシングが抑制される。

また、アライメントマーク２ＡがＣＦ側基板１（透明基板上）に設けられ、平坦化膜３（透明平坦化膜）はアライメントマーク２Ａを避けてＣＦ側基板１に設けられるので、厚い平坦化膜３によってアライメントマーク２Ａの段差が埋もれてしまうことがない。そのため、アライメントマーク２Ａを用いてＢＭ５やＣＦ６の位置合わせを精度良く行うことが出来る。もし平坦化膜３がアライメントマーク２Ａ上に設けられていれば、アライメントマーク２Ａ，２３Ａの凹凸が平坦化膜３に埋もれてしまうため、アライメントマーク２Ａ，２３Ａの位置を読み取ることができない。この場合には、基板を載せて加工するステージの移動精度によって重ね合わせの精度が決まることになる。

本実施の形態の視差バリア構造３０の製造方法は、（ａ）ＣＦ側基板１（透明基板）上に視差バリア２を形成する工程と、（ｂ）工程（ａ）の後、ＣＦ側基板１上の少なくともスクライブ領域９を避けて、ＣＦ側基板１上にその膜厚によって視野角を規定可能な平坦化膜３（透明平坦化膜）を視差バリア２を覆って形成する工程と、（ｃ）平坦化膜３の上面と側面をキャップ層４で覆う工程と、（ｄ）キャップ層４上にＢＭ５及び各色に対応したＣＦ６を形成する工程とを備える。キャップ層４を形成することにより平坦化膜３はＣＦ６と接することがなく、さらに平坦化膜３の側面は露出しないので水分の浸入が抑制される。よって、平坦化膜３とＣＦ６とのミキシングが抑制される。

また、工程（ａ）は、視差バリア２と同時に、ＣＦ側基板１（透明基板）上にアライメントマーク２Ａを形成する工程であり、工程（ｂ）は、アライメントマーク２Ａをも避けて、ＣＦ側基板１上に平坦化膜３（透明平坦化膜）を形成する工程である。よって、厚い平坦化膜３によってアライメントマーク２Ａの段差が埋もれてしまうことがない。そのため、アライメントマーク２Ａを用いてＢＭ５やＣＦ６の位置合わせを精度良く行うことが出来る。

また、ＣＦ側基板１上の平坦化膜３を選択的に除去する方法としてサンドブラスト法を用いる場合には、アライメントマーク２６Ａを樹脂などから成る下層膜２３とハードマスク２５の積層構造で形成する。よって、アライメントマーク２６Ａの上層をハードマスク２５で構成することによって、サンドブラストによって平坦化膜３と共にアライメントマーク２６Ａまで除去されることを防ぐ。

＜Ｂ．実施の形態２＞
実施の形態１の視差バリア構造３０を形成するには、ＣＦ側基板１の全面に平坦化膜３を形成した後、不要な領域から平坦化膜３を除去する必要があった。実施の形態２の視差バリア構造３１では、平坦化膜３の位置を規定するフェンス７を設けることにより、比較的困難な平坦化膜３の加工工程を省略する。

＜Ｂ−１．構成＞
図１２は、視差バリア構造３１を含む液晶表示装置をＣＦ側基板１側から見た平面図である。図は、液晶表示装置を切断ラインＤ１，Ｄ２で分割する前の状態を示している。基板１を一周するフェンス７が設けられる点が、図１に示した実施の形態１に係る液晶表示装置とは異なる。フェンス７の内部が画像表示領域となり、フェンス外の切断ラインＤ１，Ｄ２と接する領域がスクライブ領域９となる。

図１３は、図１２のＸ１−Ｙ１断面における視差バリア構造３１を示す断面図である。なお、図１３において、図３に示す視差バリア構造３０と同一又は対応する構成要素には、同一の参照符号を付している。

視差バリア構造３１は、視差バリア構造３０の構成に加えて、さらにフェンス７を備えている。フェンス７は、ＣＦ側基板１上を１周するように設けられ、画像表示領域を規定する。すなわち、フェンス７の外部にアライメントマーク２Ａが設けられ、フェンス７の内部に視差バリア２が設けられる。平坦化膜３は視差バリア２を覆ってフェンス７の内部に設けられる。アライメントマーク２Ａ、フェンス７、平坦化膜３の上部にはキャップ層４が形成され、平坦化膜３上にはキャップ層４を挟んでＢＭ５及びＣＦ６が形成される。

＜Ｂ−２．製造工程＞
以下、図１４〜１６に沿って、視差バリア構造３１の製造工程を説明する。視差バリア構造３０の製造工程と同様に、アライメントマーク２Ａと視差バリア２をＣＦ側基板１上に形成した後、フェンス７を形成する（図１４）。

フェンス７は、パネルの必要な領域のみに平坦化膜３が形成されるように、基板１の内側を囲うように形成する（図１２）。フェンス７には、例えばプラスチック系の材料が用いられ、シール等でＣＦ側基板１に貼り付けられる。ただし、膜厚の制御性が±１０μｍ程度であれば透明性は必要ないのでプラスチック系に限定せず、金属系の材料を用いても良い。

その後、平坦化膜３の液状原材料をフェンス７内に流し込み、ＵＶや熱などで硬化させて平坦化膜３を形成する（図１５）。平坦化膜３には、有機系のＳＯＧやアクリル系の材料を用いる。平坦化膜３の膜厚はフェンス７の高さで規定されるので、実施の形態１に比べて、平坦化膜３の膜厚を精度良くコントロールすることが可能である。

次に、平坦化膜３、フェンス７、及びアライメントマーク２Ａを覆うようにキャップ層４を形成する（図１６）。さらに、平坦化膜３上にキャップ層４を介してＢＭ５及びＣＦ６を形成し、図１３に示す視差バリア構造３１を得る。

フェンス７が平坦化膜３の形成位置を規定する仕切りとなるため、アライメントマーク２Ａ上には平坦化膜３が形成されない。そのため、ＢＭ５やＣＦ６の位置決めを、アライメントマーク２Ａを用いて行う事が出来る。

＜Ｂ−３．効果＞
実施の形態２に係る視差バリア構造３１は、実施の形態１に係る視差バリア構造３０の構成に加えて、ＣＦ側基板１（透明基板）上を１周するフェンス７をさらに備え、平坦化膜３（透明平坦化膜）はフェンス７に囲まれた領域に形成される。フェンス７に仕切られて、アライメントマーク２Ａ上には平坦化膜３が形成されないので、アライメントマーク２Ａを用いてＢＭ５やＣＦ６の位置決めを高精度に行う事が可能である。また、液状塗布型の材料を用いて平坦化膜３を形成することにより、フェンス７の高さで平坦化膜３の厚みが規定されるので、平坦化膜３の厚みの制御性が良い。

また、実施の形態２に係る視差バリア構造３１の製造方法では、ＣＦ側基板１（透明基板）上に選択的に平坦化膜３（透明平坦化膜）を形成する工程として、（ｂ１）ＣＦ側基板１上を１周するフェンス７を形成する工程と、（ｂ２）フェンス７の内側に液状の平坦化膜原材料を流し込む工程と、（ｂ３）工程（ｂ２）の後、平坦化膜原材料を硬化させて平坦化膜３を形成する工程とを備える。フェンス７に仕切られて、アライメントマーク２Ａ上には平坦化膜３が形成されないので、アライメントマーク２Ａを用いてＢＭ５やＣＦ６の位置決めを高精度に行う事が可能である。また、液状塗布型の平坦化膜３を用いる場合には、フェンス７の高さで平坦化膜３の厚みが規定されるので、平坦化膜３の厚みの制御性が良い。

なお、本発明は、その発明の範囲内において、（各実施の形態を自由に組み合わせたり、各）実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。

１ ＣＦ側基板、２，２６ 視差バリア、２Ａ，２６Ａ アライメントマーク、３ 平坦化膜、４ キャップ層、５ ブラックマトリクス（ＢＭ）、６ カラーフィルタ（ＣＦ）、６Ｒ 赤色フィルタ、６Ｇ 緑色フィルタ、６Ｂ 青色フィルタ、７ フェンス、８ フォトレジスト、９ スクライブ領域、１０ オーバーコート、１１ 液晶、１２ 画素電極、１３ ＴＦＴ側基板、２１ マスク、２４，２５ ハードマスク。

Claims (7)

1. 透明基板と、
   前記透明基板上の視差バリアと、
   前記視差バリアを覆いかつ少なくとも切断ラインを除く領域の前記透明基板上に設けられ、その膜厚によって視野角を規定可能な透明平坦化膜と、
   前記透明平坦化膜の上面と側面を覆うキャップ層と、
   前記キャップ層上に設けられるブラックマトリクスと、
   前記キャップ層上に前記ブラックマトリクスと交互に設けられる各色に対応したカラーフィルタとを備える、
   視差バリア構造。
2. 前記透明基板上に設けられたアライメントマークをさらに備え、
   前記透明平坦化膜は前記アライメントマークをも避けて前記透明基板上に設けられる、
   請求項１に記載の視差バリア構造。
3. 前記透明基板上を１周するフェンスをさらに備え、
   前記透明平坦化膜は前記フェンスに囲まれた領域に形成される、
   請求項１又は２に記載の視差バリア構造。
4. （ａ）透明基板上に視差バリアを形成する工程と、
   （ｂ）前記工程（ａ）の後、前記透明基板上の少なくとも切断ラインを除く領域に、前記透明基板上にその膜厚によって視野角を規定可能な透明平坦化膜を前記視差バリアを覆って形成する工程と、
   （ｃ）前記透明平坦化膜の上面と側面をキャップ層で覆う工程と、
   （ｄ）前記キャップ層上にブラックマトリクス及び各色に対応したカラーフィルタを形成する工程とを備える、
   視差バリア構造の製造方法。
5. 前記工程（ａ）は、前記視差バリアと同時に、前記透明基板上にアライメントマークを形成する工程であり、
   前記工程（ｂ）は、前記アライメントマークをも避けて、前記透明基板上に前記透明平坦化膜を形成する工程である、
   請求項４に記載の視差バリア構造の製造方法。
6. 前記工程（ａ）は、前記アライメントマークを樹脂とハードマスクの積層構造で形成する工程であり、
   前記工程（ｂ）は、
   （ｂ１）前記透明基板の全面に前記透明平坦化膜を形成する工程と、
   （ｂ２）サンドブラスト法により前記透明平坦化膜を選択的に除去する工程とを備える、
   請求項４又は５に記載の視差バリア構造の製造方法。
7. 前記工程（ｂ）は、
   （ｂ１）前記透明基板上を１周するフェンスを形成する工程と、
   （ｂ２）前記フェンスの内側に液状の透明平坦化膜原材料を流し込む工程と、
   （ｂ３）前記工程（ｂ２）の後、前記透明平坦化膜原材料を硬化させて透明平坦化膜を形成する工程とを備える、
   請求項４又は５に記載の視差バリア構造の製造方法。

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