JP2014027320A - 露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、かつ第１面より下方に配置された第２面と、第１面と第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収する第１回収部とを備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。
【選択図】図２

Description

本発明は、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、２００８年１２月２９日に出願された米国特許仮出願６１／１９３，８３３号、６１／１９３，８３４号、６１／１９３，８３５号、６１／１９３，８３６号、及び２００９年１２月２２日に出願された米国出願に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

半導体デバイス、電子デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、例えば下記特許文献に開示されているような、投影光学系と基板との間の液体を介して投影光学系からの露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許出願公開第２００６／０２２１３１５号明細書 米国特許出願公開第２００７／００８１１４０号明細書 米国特許出願公開第２００８／０１７４７４８号明細書

液浸露光装置において、液体と接触する部材が汚染される可能性がある。例えば、その部材に異物が付着すると、その異物に起因して、基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

また、液浸露光装置において、例えば基板を高速で移動した場合、投影光学系と基板との間を液体で満たし続けることが困難となる可能性がある。また、基板を高速で移動した場合、液体が流出したり、基板上に液体（膜、滴等）が残留したりする可能性がある。その結果、基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生したり、不良デバイスが発生したりする可能性がある。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に、かつ第１面より下方に配置された第２面と、第１面と第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収する第１回収部と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、第１面と第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、空隙部の上端を規定する上端部と、光学系の光軸に対する放射方向において、上端部の外側に少なくとも一部が設けられ、空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収する第１回収部と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、及び第２面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１開口を介して液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、空隙部からの液体を回収する第１回収部と、を備え、第１回収部は、空隙部に戻らないように空隙部からの液体を貯めるリザーブ部を有し、基板の露光の少なくとも一部において、基板上の液体の少なくとも一部を第１開口から空隙部を介してリザーブ部に貯め、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、第１，第２，第３の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、第１面と基板との間で液体を保持することと、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面を、第１ギャップより小さい第２ギャップを介して基板と対向させることと、第１面と第２面との間の第１開口から、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第６の態様に従えば、光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、第１面と基板との間で液体を保持することと、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と基板と対向させることと、第１面と第２面との間の第１開口から、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、光学系の光軸に対する放射方向において、空隙部の上端の外側で回収することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第７の態様に従えば、光学系の射出面と基板との間の露光光の光路を液体で満たすことと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を、光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１開口から、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部を介して回収することと、を含み、その回収は、回収された液体が空隙部に戻らないように、空隙部からの液体をリザーブ部に貯めることを含む露光方法が提供される。

本発明の第８の態様に従えば、第５，第６，第７の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第９の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第１凹部と、第１凹部を規定する内面に配置され、気体を供給する第１給気口と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、基板の表面が、射出面、第１面、及び第１凹部に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第１０の態様に従えば、第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１１の態様に従えば、光学系の射出面、及び光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように基板を移動することと、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第１凹部を規定する内面に配置された第１給気口から気体を供給して、第１凹部の圧力を高めることと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１２の態様に従えば、第１１の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１３の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面が面する空間に面するように第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、光路を液体で満たすために空間に液体を供給する供給口と、供給口から供給され、射出面の周縁から上方に、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する空隙部に第１開口を介して流入した液体の少なくとも一部を回収する回収部と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、射出面の下方に配置された基板の表面が、射出面及び第１面に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第１４の態様に従えば、第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１５の態様に従えば、光学系の射出面、及び光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、基板を移動することと、第１面と基板との間の空間に面するように第１面の周囲の少なくとも一部に配置された供給口から、空間に液体を供給して、射出面と基板との間の光路を液体で満たすことと、供給口から供給され、射出面の周縁から上方に、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の表面が面する空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第１６の態様に従えば、第１５の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１７の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、射出面の周縁から上方、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する第１空隙部と、第１面と第２面との間に配置された第１開口から液体が流入可能であり、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された第２空隙部と、少なくとも一部が光学系の側面と対向する位置に設けられ、第１開口から第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部を第２開口を介して回収する回収部と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、基板の表面が射出面、第１面、及び第２面に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第１８の態様に従えば、基板を露光する露光装置において、露光光を射出する射出面を有する光学系と、射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、射出面の周縁から上方、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面し、雰囲気に開放された第１空隙部と、第１面と第２面との間に配置された第１開口を介して液体が流入可能な第２空隙部と、第１開口から第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、第１空隙部に面する第２開口を介して回収する回収部と、を備え、基板の露光の少なくとも一部において、基板の表面が射出面、第１面、及び第２面に対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する露光装置が提供される。

本発明の第１９の態様に従えば、第１７，第１８の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第２０の態様に従えば、光学系の射出面、及び光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、基板を移動することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、第１面と、第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面との間の第１開口から、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、第２開口を介して、射出面の周縁から上方に、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する回収部で回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２１の態様に従えば、光学系の射出面、及び光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、基板を移動することと、射出面と基板との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光することと、第１面と第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面との間の第１開口から、第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、射出面の周縁から上方に、及び／又は光学系の光軸に対する放射方向に延びる光学系の側面が面する第１空隙部に面する第２開口を介して回収することと、を含む露光方法が提供される。

本発明の第２２の態様に従えば、第２０，第２１の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 第１実施形態に係る露光装置の一部を拡大した図である。 第１実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。 第１実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１施形態に係る第１回収部の近傍を示す図である。 第１施形態に係る第１回収部の近傍を示す図である。 第２実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第４実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第５実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第６実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第７実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第８実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第９実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１０実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 第１０実施形態に係る露光装置の一部を拡大した図である。 第１０実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。 第１０実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１０施形態に係る回収部の近傍を示す図である。 第１０施形態に係る回収部の近傍を示す図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１２実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１３実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 第１３実施形態に係る露光装置の一部を拡大した図である。 第１３実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。 第１３実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１４実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。 第１４実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 第１５実施形態に係る液浸部材の近傍を示す図である。 マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置を光学的に計測する干渉計システム３と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材４と、少なくとも投影光学系ＰＬを収容するチャンバ装置５と、少なくとも投影光学系ＰＬを支持するボディ６と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置７とを備えている。

マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された多層膜とを含む。多層膜は、少なくとも感光膜を含む複数の膜が積層された膜である。感光膜は、感光材で形成された膜である。また、多層膜が、例えば反射防止膜、及び感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

チャンバ装置５は、実質的に閉ざされた内部空間８を形成するチャンバ部材５Ａと、内部空間８の環境（温度、湿度、クリーン度、及び圧力等）を制御する環境制御装置５Ｂとを有する。ボディ６は、内部空間８に配置される。ボディ６は、支持面ＦＬ上に設けられた第１コラム９と、第１コラム９上に設けられた第２コラム１０とを有する。第１コラム９は、第１支持部材１１と、第１支持部材１１に防振装置１２を介して支持された第１定盤１３とを有する。第２コラム１０は、第１定盤１３上に設けられた第２支持部材１４と、第２支持部材１４に防振装置１５を介して支持された第２定盤１６とを有する。また、本実施形態においては、支持面ＦＬ上に、防振装置１７を介して、第３定盤１８が配置されている。

照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

マスクステージ１は、マスクＭをリリース可能に保持するマスク保持部１９を有し、マスクＭを保持した状態で、第２定盤１６のガイド面１６Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、駆動システム２０の作動により、照明領域ＩＲに対して、マスクＭを保持して移動可能である。駆動システム２０は、マスクステージ１に配置された可動子２０Ａと、第２定盤１６に配置された固定子２０Ｂとを有する平面モータを含む。マスクステージ１を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。マスクステージ１は、駆動システム２０の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。

投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。

投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、保持部材（鏡筒）２１に保持されている。保持部材２１は、フランジ２１Ｆを有する。投影光学系ＰＬは、フランジ２１Ｆを介して、第１定盤１３に支持される。なお、第１定盤１３と保持部材２１との間に防振装置を設けることができる。

投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面２３を有する。射出面２３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子２２に配置されている。投影領域ＰＲは、射出面２３から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面２３は−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面２３は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。

本実施形態において、終端光学素子２２の光軸（投影光学系ＰＬの像面近傍の光軸）ＡＸは、Ｚ軸とほぼ平行である。なお、終端光学素子２２と隣り合う光学素子で規定される光軸を終端光学素子２２の光軸とみなしてもよい。また、本実施形態において、投影光学系ＰＬの像面は、Ｘ軸とＹ軸とを含むＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態において、像面は、ほぼ水平である。ただし、像面はＸＹ平面と平行でなくてもよいし、曲面であってもよい。

基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部２４を有し、第３定盤１８のガイド面１８Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、駆動システム２５の作動により、投影領域ＰＲに対して、基板Ｐを保持して移動可能である。駆動システム２５は、基板ステージ２に配置された可動子２５Ａと、第３定盤１８に配置された固定子２５Ｂとを有する平面モータを含む。基板ステージ２を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されている。基板ステージ２は、駆動システム２５の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。

基板ステージ２は、基板保持部２４の周囲に配置され、射出面２３と対向可能な上面２６を有する。本実施形態において、基板ステージ２は、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号明細書等に開示されているような、基板保持部２４の周囲の少なくとも一部に配置され、プレート部材Ｔの下面をリリース可能に保持するプレート部材保持部２７を有する。本実施形態において、基板ステージ２の上面２６は、プレート部材Ｔの上面を含む。上面２６は、平坦である。

本実施形態において、基板保持部２４は、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。プレート部材保持部２７は、プレート部材Ｔの上面２６とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、プレート部材Ｔを保持する。

干渉計システム３は、ＸＹ平面内におけるマスクステージ１（マスクＭ）の位置を光学的に計測可能な第１干渉計ユニット３Ａと、ＸＹ平面内における基板ステージ２（基板Ｐ）の位置を光学的に計測可能な第２干渉計ユニット３Ｂとを有する。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置７は、干渉計システム３の計測結果に基づいて、駆動システム２０，２５を作動し、マスクステージ１（マスクＭ）及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。

液浸部材４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材４は、射出面２３と、射出面２３と対向する位置に配置された物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。本実施形態において、物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材４は、終端光学素子２２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。

本実施形態において、液浸部材４は、第１部材３１と第２部材３２とを含む。第１部材３１及び第２部材３２は、終端光学素子２２の近傍に配置されている。本実施形態において、第１部材３１は、第１支持機構２８に支持されている。第２部材３２は、第２支持機構２９に支持されている。本実施形態において、第１，第２支持機構２８，２９は、第１定盤１３に支持されている。本実施形態において、第１部材３１は、第１支持機構２８を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。第２部材３２は、第２支持機構２９を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。

本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。基板Ｐの露光時、制御装置７は、マスクステージ１及び基板ステージ２を制御して、マスクＭ及び基板Ｐを、光軸ＡＸ（露光光ＥＬの光路）と交差するＸＹ平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置７は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。

図２は、液浸部材４の近傍を示す側断面図、図３は、液浸部材４を上方から見た図、図４は、図２の一部を拡大した図である。

図２，図３，及び図４に示すように、本実施形態において、第１部材３１及び第２部材３２のそれぞれは、環状の部材である。第１部材３１の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子２２の周囲に配置されている。第２部材２３の少なくとも一部は、第１部材３１の周囲に配置されている。図３に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における第１部材３１及び第２部材３２の外形は、円形である。なお、第１部材３１及び第２部材３２の外形が、他の形状（例えば、矩形）でもよい。

液浸部材４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面４１と、第１面４１の周囲の少なくとも一部、かつ第１面４１より下方（−Ｚ側）に配置された第２面４２と、第１面４１と第２面４２との間の第１開口３３を介して液体ＬＱが流入可能であり、第１開口３３と異なる第２開口３４を介して雰囲気に開放された空隙部８０と、空隙部８０に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する第１回収部６０とを備えている。本実施形態において、第１面４１は、第１部材３１に配置されている。第２面４２は、第２部材３２に配置されている。第１面４１及び第２面４２は、液浸部材４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面４１及び第２面４２の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面４２の内側のエッジも、円形である。

本実施形態において、第１面４１及び第２面４２は、液体ＬＱを回収不可能である。すなわち、本実施形態においては、第１面４１及び第２面４２には液体回収口が設けられていない。本実施形態において、第１面４１及び第２面４２は、平坦である。第１面４１と物体の表面（上面）との間の第１空間５１は、液体ＬＱを保持可能である。なお、本実施形態においては、第１面４１及び第２面４２は、それぞれＸＹ平面（水平面）と平行であるが、第１面４１及び／又は第２面４２の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよく、第１面４１と第２面４２とが平行でなくてもよい。また、本実施形態において、第１面４１と第２面４２の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３、第１面４１、及び第２面４２に基板Ｐの表面が対向する。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３と基板Ｐの表面との間の空間に液体ＬＱが満たされる。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面４１と基板Ｐの表面との間の第１空間５１に液体ＬＱが保持される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。

本実施形態において、第１面４１と物体との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているときに、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの気液界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１は、第１面４１及び第２面４２の少なくとも一方と基板Ｐの表面との間に形成することができるが、第２面４２の内側のエッジと基板Ｐとの間に形成されることが望ましい。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。

以下、簡単のため、射出面２３、第１面４１、及び第２面４２と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材４と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面２３及び液浸部材４と他の部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔなど）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。

上述したように、本実施形態において、第１面４１及び第２面４２のそれぞれは、ＸＹ平面とほぼ平行である。図４などに示すように、第１面４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面４２は、第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さい。

本実施形態において、第１部材３１は、基板Ｐの表面と対向可能な第１面４１と、第１面４１と逆方向を向き、射出面２３の少なくとも一部と対向する第３面４３と、第３面４３の周囲に配置され、終端光学素子２２の側面３５と対向する第４面４４と、第４面４４の周囲に配置され、保持部材２１の外面３６と対向する第５面４５とを有する。第１部材３１は、少なくとも一部が射出面２３と対向するように配置されたプレート部３７と、少なくとも一部が終端光学素子２２の周囲に配置される本体部３８とを有する。第１面４１及び第３面４３は、プレート部３７に配置されている。第４面４４及び第５面４５は、本体部３８に配置されている。また、プレート部３７は、射出面２３から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３９を有する。基板Ｐの露光中、射出面２３から射出された露光光ＥＬは、開口３９を介して、基板Ｐの表面に照射される。図３に示すように、本実施形態において、開口３９は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。

第３面４３は、射出面２３と第３ギャップＧ３を介して対向する。第４面４４は、側面３５と第４ギャップＧ４を介して対向する。第５面４５は、外面３６と第５ギャップＧ５を介して対向する。

終端光学素子２２の側面３５は、射出面２３と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面３５は、射出面２３の周囲に配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びるように配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に延びるように設けられている。すなわち、側面３５は、光軸ＡＸに対する放射方向に、かつ上方に延びるように傾斜している。

本実施形態において、第３面４３と射出面２３とは、ほぼ平行である。また、第４面４４と側面３５とは、ほぼ平行である。また、第５面４５と外面３６とは、ほぼ平行である。なお、第３面４３と射出面２３とは平行でなくてもよい。また、第４面４４と側面３５とは平行でなくてもよい。また、第５面４５と外面３６とは平行でなくてもよい。

終端光学素子２２及び保持部材２１と第１部材３１との間の空間は、射出面２３と第３面４３とで規定された第３空間５３と、側面３５と第４面４４とで規定された第４空間５４と、外面３６と第５面４５とで規定された第５空間５５とを含む。第４空間５４は、光軸ＡＸに対する放射方向に、投影光学系ＰＬの像面から離れる方向に、かつ＋Ｚ方向に延びるように傾斜した空間である。第５空間５５は、光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに垂直な方向）に延びる空間である。

なお、本実施形態においては、第４面４４は終端光学素子２２の側面３５と対向しているが、第４面４４の少なくとも一部が保持部材２１の外面と対向していてもよい。また、本実施形態においては、第５面４５は、保持部材２１の外面３６と対向しているが、終端光学素子２２の側面３５の周囲に終端光学素子２２の下面が露出している場合には、第５面４５の少なくとも一部が、終端光学素子２２の下面と対向していてもよい。

また、第４空間５４は、光軸ＡＸと平行であってもよい。また第５空間５５は光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

また、第１部材３１は、第１面４１の周囲に配置された第６面４６と、第６面４６の周囲に配置された第７面４７とを有する。第６面４６及び第７面４７は、本体部３８に配置されている。本実施形態において、第４面４４と第６面４６とは、ほぼ平行である。また、第５面４５と第７面４７とは、ほぼ平行である。なお、第４面４４と第６面４６とは平行でなくてもよい。また、第５面４５と第７面４７とは平行でなくてもよい。

本実施形態において、第２部材３２は、基板Ｐの表面と対向可能な第２面４２と、第６面４６と対向する第８面４８と、第７面４７と対向する第９面４９とを有する。

第８面４８は、第６面４６と第６ギャップＧ６を介して対向する。第９面４９は、第７面４７と第７ギャップＧ７を介して対向する。本実施形態において、第８面４８と第６面４６とは、ほぼ平行である。また、第９面４９と第７面４７とは、ほぼ平行である。なお、第８面４８と第６面４６とは平行でなくてもよい。また、第９面４９と第７面４７とは平行でなくてもよい。

第１部材３１と第２部材３２との間の空間は、第６面４６と第８面４８とで規定された第６空間５６と、第７面４７と第９面４９とで規定された第７空間５７とを含む。第６空間５６は、光軸ＡＸに対する放射方向に、投影光学系ＰＬの像面から離れる方向（＋Ｚ方向）に延びるように傾斜した空間である。第７空間５７は、光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに垂直な方向）に延びる空間である。なお、第６空間５６は、光軸ＡＸと平行であってもよい。また、第７空間５７は、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

本実施形態において、空隙部８０は、第６空間５６を含む。空隙部８０（第６空間５６）の下端は、第１空間５１及び第２空間５２と流体的に接続されている。空隙部８０の上端は、第７空間５７と結ばれている。本実施形態においては、空隙部８０の下端に、第１開口３３が配置され、空隙部８０の上端に、第２開口３４が配置されている。本実施形態においては、第８面４８の下端部４８Ｂは、空隙部８０の下端を規定する。第８面４８の上端部４８Ｔは、空隙部８０の上端を規定する。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１開口３３は、基板Ｐの表面と対向する。基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３を介して、空隙部８０に流入可能である。本実施形態においては、第１開口３３は、第１面４１とほぼ面一に形成されている。なお、第１開口３３を下方（−Ｚ方向）を向いていなくてもよい。例えば、第１開口３３を後述の第１２面７９に設けてもよい。また、第１開口３３は、環状に設けられた一つの開口であってもよいし、所定間隔で環状に配置された複数の開口から形成されてもよい。同様に、空隙部８０も、光軸ＡＸの周囲に所定間隔で環状に配置された複数の空隙部から形成されてもよい。

第１回収部６０は、空隙部８０からの液体ＬＱを回収する。第１回収部６０は、空隙部８０からオーバーフローした液体ＬＱを回収する。第１回収部６０の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部４８Ｔの外側に配置されている。

本実施形態において、第１回収部６０は、光軸ＡＸに対する放射方向において、空隙部８０の外側に上方（＋Ｚ方向）を向いて設けられた第１凹部６１を有する。第１凹部６１は、上方を向く開口６１Ｋを有する。第１回収部６０は、開口６１Ｋを介して第１凹部６１に流入した液体ＬＱを回収する。

第１凹部６１は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部４８Ｔの外側に設けられている。本実施形態において、第１凹部６１は、第９面４９の周囲に配置されている。ＸＹ平面内において、第１凹部６１は、環状である。なお、第１凹部６１は、所定間隔で環状に配置された複数の凹部から形成されてもよい。また、本実施形態においては、第２部材３２は、第１凹部６１の周囲に配置された第１０面７０を有する。第１０面７０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、第１０面７０は、第９面４９とほぼ同一平面内に配置されている。なお、第１０面７０が第９面４９より上方に（＋Ｚ側に）配置されてもよい。

第１凹部６１は、第９面４９と結ばれた第１内面６１１と、第１内面６１１と対向し、第１０面７０と結ばれた第２内面６１２と、第１内面６１１と第２内面６１２との間に配置された底面６１３とを有する。底面６１３は、上方（＋Ｚ方向）を向いている。底面６１３は、上端部４８Ｔより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、底面６１３は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、底面６１３は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、底面６１３は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、底面６１３が、曲面を含んでいてもよい。

また、第１回収部６０は、空隙部８０からの液体ＬＱを第１凹部６１にガイドする液体ガイド部８１を有する。本実施形態において、液体ガイド部８１は、第９面４９を含む。また、本実施形態において、液体ガイド部８１は、第７空間５７を含む。液体ガイド部８１は、上端部４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように形成されている。なお、本実施形態においては、液体ガイド部８１は、光軸ＡＸに対して垂直（ＸＹ平面と平行）に設けられているが、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。例えば、第９面４９を上端部４８Ｔから下方に向かって傾斜させてもよい。

第１凹部６１は、上端部４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向において、液体ガイド部８１の外側に設けられている。空隙部８０の上端からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部８１にガイドされて、第１凹部６１に流入する。

第１凹部６１は、空隙部８０からの液体ＬＱを貯めることができる。第１凹部６１は、流入した液体ＬＱを貯めることによって、空隙部８０からの液体ＬＱが空隙部８０に戻ることを抑制する。すなわち、第１凹部６１は、空隙部８０に戻らないように空隙部８０からの液体ＬＱを貯めるリザーブ部の少なくとも一部として機能する。

また、第１回収部６０は、第１凹部６１に流入した液体ＬＱを回収する回収口６２を有する。回収口６２は、第１凹部６１に貯めた液体ＬＱを回収する。

本実施形態において、回収口６２は、底面６１３と対向するように配置されている。本実施形態において、回収口６２は、第１凹部６１の内側に配置されている。換言すれば、回収口６２は、第１凹部６１の開口６１Ｋより下方（−Ｚ側）に配置されている。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、回収口６２は、環状である。なお、回収口６２が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

本実施形態において、回収口６２は、第１部材３１に配置されている。第１部材３１は、第７面４７の周囲に配置され、下方に突出する凸部６３を有する。回収口６２は、凸部６３の下端に配置されている。

回収口６２には、多孔部材６４が配置されている。多孔部材６４は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材６４が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。

本実施形態において、多孔部材６４の下面を含む凸部６３の外面と、底面６１３、第１内面６１１、及び第２内面６１２を含む第１凹部６１の内面とは離れている。すなわち、凸部６３と第１凹部６１との間に、第８空間５８が形成される。

第１部材３１は、第１０面７０と対向する第１１面７１を有する。第１０面７０と第１１面７１との間の第９空間５９は、第３開口７２を介して、雰囲気に開放されている。

空隙部８０は、第２開口３４を介して、雰囲気に開放されている。第２開口３４は、第７空間５７、第８空間５８、及び第９空間５９を介して、第３開口７２と結ばれている。本実施形態において、空隙部８０は、第２開口３４、第７，第８，第９空間５７，５８，５９、及び第３開口７２を介して、雰囲気に開放されている。すなわち、空隙部８０は、第１開口３３と異なる第２開口３４を介して液浸部材４の周囲の空間に開放されている。言い換えれば、空隙部８０は、第２開口３４を介して液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面が接する気体空間に開放されている。

本実施形態において、「雰囲気」は、液浸部材４を取り囲む気体である。本実施形態において、液浸部材４を取り囲む気体は、チャンバ装置５によって形成される内部空間８の気体である。本実施形態において、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をクリーンな空気で満たす。また、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をほぼ大気圧に調整する。もちろん、内部空間８を大気圧よりも高く設定してもよい。

また、本実施形態においては、第３空間５３、第４空間５４、及び第５空間５５も、液浸部材４の周囲の気体空間（内部空間８）に開放されている。

本実施形態において、第２面４２は、液体ＬＱに対して撥液性である。第２面４２において、液体ＬＱの接触角は９０°以上であり、１００°以上であってもよい。本実施形態においては、第２面４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜７３で形成されている。膜７３は、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。

また、本実施形態においては、第２部材３２は、第２面４２の内側のエッジと結ばれ、露光光ＥＬの光路に面するように配置された第１２面７９を有する。第１２面７９も、液体ＬＱに対して撥液性である。第１２面７９も、膜７３で形成されている。なお、第２面４２、及び第１２面の少なくとも一方は、撥液性膜の表面でなくてもよい。例えば、第２部材３２を撥液性の材料で形成してもよい。

また、本実施形態において、液浸部材４は、第１開口３３の周囲の少なくとも一部に配置された給気口７４を備えている。本実施形態において、給気口７４は、第２面４２に配置されている。給気口７４は、第２面４２と対向する物体（基板Ｐ）の表面に向けて気体を供給する。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、給気口７４は、環状である。なお、給気口７４が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

また、本実施形態において、液浸部材４は、露光光ＥＬの光路に液体ＬＱを供給する供給口７５を備えている。供給口７５は、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面と対向する位置に配置されている。本実施形態において、供給口７５は、終端光学素子２２の側面３５と対向する位置に配置されている。なお、供給口７５は、終端光学素子２２の面に対向していなくてもよい。例えば、第３面４３と射出面２３との間の第３空間５３に面するように第１部材３１に供給口７５を配置してもよい。

図３に示すように、本実施形態においては、供給口７５は、光軸ＡＸに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、供給口７５が、光軸ＡＸに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、供給口７５の数は、３つ以上でもよい。

本実施形態において、供給口７５は、第４空間５４に液体ＬＱを供給する。第４空間５４に供給された液体ＬＱは、第４空間５４を下方に流れた後、第３空間５３を介して、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。また、供給口７５から第４空間５４を介して第３空間５３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３９を介して、第１空間５１に供給される。

図２に示すように、供給口７５は、供給流路を介して、液体供給装置７６と接続されている。本実施形態において、供給流路は、第１部材３１の内部に形成された流路、及び第１支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体供給装置７６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給口７５に供給することができる。なお、第１部材３１を支持する第１支持機構２８の内部に供給流路の一部を設けなくてもよい。

回収口６２は、回収流路を介して、液体回収装置７７と接続されている。本実施形態において、回収流路は、第１部材３１の内部に形成された流路、及び第１支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体回収装置７７は、真空システム（真空源と回収口６２との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口６２から液体ＬＱを吸引して回収することができる。なお、第１部材３１を支持する第１支持機構２８の内部に回収流路の一部を設けなくてもよい。

給気口７４は、給気流路を介して、気体供給装置７８と接続されている。本実施形態において、給気流路は、第２部材３２の内部に形成された流路、及び第２支持機構２９の内部に形成された流路を含む。気体供給装置７８は、クリーンで温度及び湿度が調整された気体を給気口７４に供給することができる。なお、給気口７４から供給される気体の湿度は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度と同程度、もしくは高い方がよい。また、第２部材３２を支持する第２支持機構２９の内部に給気流路の一部を設けなくてもよい。

制御装置７は、液体回収装置７７を制御して、多孔部材６４の下面側空間（第８空間５８）から上面側空間（回収流路）へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材６４の下面側と上面側との圧力差を制御することができる。本実施形態において、下面側の第８空間５８の圧力は、雰囲気に開放され、チャンバ装置５によって制御されている。制御装置７は、多孔部材６４の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置７７を制御して、下面側の圧力に応じて、上面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置７は、多孔部材６４の孔を介して、第８空間５８からの液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材６４の孔を通過しないように調整する。多孔部材６４の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材６４の一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書などに開示されている。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

まず、制御装置７は、第１面４１及び第２面４２と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面２６）とを対向させる。第１面４１と基板Ｐの表面とは、第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面４２と基板Ｐの表面とは第２ギャップＧ２を介して対向する。

制御装置７は、第１面４１及び第２面４２と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、液体供給装置７６から液体ＬＱを送出する。また、制御装置７は、液体回収装置７７を作動する。また、制御装置７は、気体供給装置７８を作動する。

液体供給装置７６から送出された液体ＬＱは、供給口７５より、第４空間５４に供給される。第４空間５４に供給された液体ＬＱは、第４空間５４を下方に流れた後、第３空間５３を介して、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、露光光ＥＬの光路は、液体ＬＱで満たされる。

また、供給口７５から第４空間５４を介して第３空間５３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３９を介して、第１空間５１に供給され、第１面４１と基板Ｐの表面との間で保持される。本実施形態においては、基板Ｐの表面、第１面４１、及び第１２面７９で囲まれた空間がほぼ液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成されている。また液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ）の界面は、第２面４２の内側のエッジ（第１２面７９の下端）と基板Ｐの表面との間に形成されている。

開口３９から第１空間５１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３１を介して空隙部８０に流入する。

本実施形態においては、開口３９を介して第１空間５１に供給された液体ＬＱが、第２空間５２に流入することが抑制されている。すなわち、本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ１の、第１２面７９より外側へ移動することが抑制されており、液浸空間ＬＳの拡大が抑制されている。

本実施形態において、第１面４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第１面４１の周囲に配置された第２面４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さく、例えば０．１〜０．３ｍｍ程度である。したがって、光軸ＡＸに対する放射方向において、界面ＬＧ１が第１開口３３の外側へ移動することが抑制される。すなわち、第２ギャップＧ２が微小なので、図４等に示すように、液体ＬＱの表面張力により、界面ＬＧ１の位置は、第２面４２の内側のエッジと基板Ｐの表面との間に維持される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが、第２空間５２に流入することが抑制される。

また、本実施形態においては、第２面４２が液体ＬＱに対して撥液性なので、より効果的に、液体ＬＱが第２空間５２に流入することが抑制される。また、本実施形態においては、第２面４２の内側のエッジから上方に延びるように、かつ光路に面するように配置された第１２面７９が設けられているので、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。また、第１２面７９は、液体ＬＱに対して撥液性なので、これによっても、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。

また、本実施形態においては、給気口７４が設けられており、光軸ＡＸに対して第２面４２の内側エッジの外側で、基板Ｐの表面に向けて気体を供給する。これにより、給気口７４から供給された気体の力によって、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。すなわち、給気口７４は、基板Ｐの表面と第２面４２との間にガスシールを形成する。これにより、液体ＬＱが流出することが抑制され、界面ＬＧ１の移動が拘束される。

また、本実施形態においては、第１面４１の外形及び第２面４２の内側のエッジが円形であり、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの外形もほぼ円形である。これにより、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１の全方位から中心に向かう拘束力がほぼ均等に作用する。これにより、液浸空間ＬＳの拡大が効果的に抑制される。

開口３９を介して第１空間５１に流入した液体ＬＱによって形成される液浸空間ＬＳの拡大が抑制された状態で、供給口７５から液体ＬＱが供給されることによって、雰囲気に開放された空隙部８０に液体ＬＱが流入し、空隙部８０における液体ＬＱの表面の位置が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。空隙部８０が液体ＬＱで満たされると、その空隙部８０の液体ＬＱの少なくとも一部が、空隙部８０の上端（上端部４８Ｔ）からオーバーフローする。空隙部８０からオーバーフローした液体ＬＱは、空隙部８０の上端の外側に配置されている第１回収部６０で回収される。

空隙部８０からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部８１にガイドされた後、第１凹部６１に流入する。第１凹部６１に流入した液体ＬＱは、第１凹部６１に貯まる。

図５（Ａ）は、第１凹部６１の液体ＬＱの表面が第１位置Ｚ１に配置される状態を示し、図５（Ｂ）は、第２位置Ｚ２に配置される状態を示す。図５（Ａ）に示すように、例えば、液体ＬＱの表面が第１位置Ｚ１に配置され、液体ＬＱと回収口６２（多孔部材６４）とが接触していない状態においては、第２開口３４は、第７，第８，第９空間５７，５８，５９、及び第３開口７２を介して、雰囲気に開放されている。これにより、第１空間５１の液体ＬＱは、第１開口３３を介して空隙部８０に円滑に流入する。また、空隙部８０に流入し、その空隙部８０からオーバーフローした液体ＬＱは、第１凹部６１に円滑に流入する。第１凹部６１に貯まる液体ＬＱの量は除々に増加する。

図５（Ｂ）に示すように、第１凹部６１に貯まる液体ＬＱの量が増加して、液体ＬＱの表面が第２位置Ｚ２に配置され、液体ＬＱと回収口６２（多孔部材６４）とが接触することによって、第１凹部６１に貯められている液体ＬＱは、回収口６２（多孔部材６４）より回収される。回収口６２より液体ＬＱが回収されることによって、第１凹部６１の液体ＬＱの量が減少し、第１凹部６１における液体ＬＱの表面の位置が−Ｚ方向に移動する（下降する）。その第１凹部６１に空隙部８０からの液体ＬＱが流入することによって、第１凹部６１の液体ＬＱの量が再び増加し、液体ＬＱと多孔部材６４とが接触して、液体ＬＱが回収口６２より回収される。

本実施形態においては、多孔部材６４の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材６４の下面側と上面側との圧力差が制御されているので、第１回収部６０は、振動の発生、気化熱の発生を抑制しつつ、液体ＬＱを回収することができる。

本実施形態において、第１回収部６０は、第１開口３３及び空隙部８０を介して回収された基板Ｐ上の液体ＬＱを第１凹部６１に貯めるので、その空隙部８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部８０に戻ることを抑制することができる。また、第１回収部６０は、第１凹部６１に所定量以上貯まった液体ＬＱを、回収口６２で回収する。したがって、空隙部８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部８０に戻ることをより確実に抑制することができる。空隙部８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部８０に戻らないように、空隙部８０からの液体ＬＱを第１凹部６１に貯めることによって、例えば多孔部材６４に接触した液体ＬＱが、空隙部８０を介して第１空間５１及び露光光ＥＬの光路に戻ることが抑制される。

次に、基板Ｐを露光する方法について説明する。上述のように、制御装置７は、供給口７５より液体ＬＱを供給して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、第１面４１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持して、液浸空間ＬＳを形成する。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３を介して空隙部８０に流入する。第１回収部６０は、空隙部８０からの液体ＬＱを第１凹部６１に貯めるとともに、第１凹部６１で所定量に達した液体ＬＱを回収口６２で回収する。制御装置７は、供給口７５を用いる液体供給動作と並行して、第１回収部６０を用いる液体回収動作を実行して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。また、制御装置７は、給気口７４より気体を供給して、ガスシールを形成する。

制御装置７は、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部を第１開口３３から空隙部８０を介して第１凹部６１に貯めて、空隙部８０から第１回収部６０に回収された液体ＬＱが空隙部８０に戻ることを抑制しつつ、かつ、第２ギャップＧ２等を用いて液浸空間ＬＳの拡大を拘束しつつ、基板Ｐの露光を開始する。

制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。制御装置７は、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。基板Ｐの露光中にも、供給口７５から供給された液体ＬＱが第１開口３３から流入し、空隙部８０を介して回収部６０に回収される。

以上説明したように、本実施形態によれば、雰囲気に開放された空隙部８０を設け、その空隙部８０に流入した液体ＬＱを第１回収部６０で回収するようにしたので、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４の下面の構造をシンプルにすることができる。したがって、液体ＬＱと接触する液浸部材４の下面に異物が付着したり、下面が汚染されたりすることが抑制される。

例えば、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４の下面に液体ＬＱを回収する回収口を設けたり、その回収口に多孔部材を設けたりして、構造（形状）が複雑になると、その下面に異物が付着し易くなる可能性がある。例えば、基板Ｐの表面と対向する位置に多孔部材が配置されている場合、基板Ｐから発生した異物（例えば基板Ｐの表面を形成する感光膜、あるいはトップコート膜等の一部）が、多孔部材に付着する可能性がある。その付着した異物が、基板Ｐの露光中に、露光光ＥＬの光路に放出されたり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に混入したりすると、基板Ｐにパターン欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。また、下面の構造（形状）が複雑な場合、例えば凹凸部が多数存在する場合においても、基板Ｐから発生した異物が下面に付着し易くなる可能性がある。

本実施形態によれば、雰囲気に開放された空隙部８０を設け、第１開口３３を介して空隙部８０に流入した液体ＬＱを、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置された第１回収部６０で回収しており、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４の下面は、シンプルな構造である。したがって、液浸部材４の下面に異物が付着することが抑制される。また、液浸部材４の下面の構造がシンプルなので、仮に液浸部材４の下面に異物が付着した場合でも、液浸部材４の下面を円滑且つ良好にクリーニングすることができる。

また、本実施形態においては、第１開口３３に流入した液体ＬＱが流れる流路を形成する空隙部８０（第６空間５６）、及び液体ガイド部８１（第７空間５７）は、分離可能な第１部材３１と第２部材３２との間に形成される。したがって、空隙部８０を形成する第１部材３１の第６面４６及び第２部材３２の第８面４８、液体ガイド部８１を形成する第１部材３１の第７面４７及び第２部材３２の第９面４９を円滑且つ良好にクリーニングできる。

また、本実施形態においては、第１回収部６０は、空隙部８０から回収した液体ＬＱが、空隙部８０に戻らないように構成されている。すなわち、空隙部８０からの液体ＬＱを第１凹部６１に貯めている。したがって、例えば第１回収部６０の多孔部材６４が汚染された場合でも、その多孔部材６４に接触した液体ＬＱ（汚染されている可能性がある液体ＬＱ）が、空隙部８０を介して第１空間５１及び露光光ＥＬの光路に戻る（逆流する）ことを抑制することができる。したがって、露光不良の発生を抑制できる。

また、多孔部材６４が汚染された場合、その汚染された多孔部材６４を新たな多孔部材６４に交換することによって、多孔部材６４に接触する液体ＬＱの汚染を抑制できる。
なお、上端部４８Ｔと第１凹部６１との間に設けられた液体ガイド部８１（第９面４９）を省略してもよい。すなわち、上端部４８Ｔに隣接して、第１凹部６１を設けてもよい。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図６は、第２実施形態に係る液浸部材４Ｂの一例を示す図である。図６において、液浸部材４Ｂは、第１面４１を有する第１部材３１Ｂと、第２面４２を有する第２部材３２と、第１部材３１Ｂ及び第２部材３２とは別の部材であり、回収口６２及び多孔部材６４を有する第３部材８２とを含む。第１部材３１Ｂに対して第３部材８２は着脱可能である。

第３部材８２は、本体部８２Ａと、本体部８２Ａの上端に配置されたフランジ部８２Ｂとを有する。本体部８２Ａは、第１部材３１Ｂに設けられた開口８３Ａに配置可能である。フランジ部８２Ｂが、第１部材３１Ｂに設けられた支持面８３Ｂに支持されることによって、第１部材３１Ｂに対する第３部材８２の位置が固定される。フランジ部８２Ｂが支持面８３Ｂに支持された状態で、第３部材８２の下端に配置されている回収口６２及びその回収口６２に配置された多孔部材６４は、第１凹部６１の内側に配置される。

例えば、第３部材８２を上方に引き上げることによって、第３部材８２を第１部材３１Ｂから外すことができる。また、第３部材８２の本体部８２Ａを開口８３Ａの上方から開口８３Ａに挿入し、支持面８３Ｂでフランジ部８２Ｂを支持させることによって、第３部材８２を第１部材３１Ｂに取り付けることができる。第３部材８２は容易に交換可能なので、例えば多孔部材６４が汚染されたり、第３部材８２の少なくとも一部が汚染されたりした場合、その第３部材８２を、新たなものと交換したり、汚染された第３部材３２をクリーニングして、第１部材３１Ｂに再度取り付けることが容易にできる。したがって、その第３部材８２（多孔部材６４）に接触する液体ＬＱの汚染を抑制できる。

なお、第３部材８２の第１部材３１Ｂからの取り外し、及び／又は第３部材８２の第１部材３１Ｂへの取り付けは、第１部材３１Ｂが露光装置ＥＸに取り付けられた状態（第１支持機構２８に支持された状態）で行ってもよいし、第１部材３１Ｂを露光装置ＥＸから外した状態（第１支持機構２８からリリースされた状態）で行ってもよい。

＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図７は、第３実施形態に係る液浸部材４Ｃの一例を示す図である。図７において、液浸部材４Ｃは、第１面４１を有する第１部材３１Ｃと、第２面４２を有する第２部材３２Ｃとを含む。第１回収部６０Ｃは、第２部材３２Ｃに設けられた第１凹部６１Ｃと、第１凹部６１Ｃに流入した液体ＬＱを回収する回収口６２Ｃとを有する。本実施形態においても、回収口６２Ｃは、第１凹部６１Ｃの内側に配置されているが、第２部材３２Ｃが回収口６２Ｃ、及び回収流路の一部を備えている点で、上述の第１、第２実施形態と異なる。本実施形態において、回収口６２Ｃは、第１凹部６１Ｃの底部６１３Ｃに配置されている。すなわち、第１凹部６１の底部６１３Ｃは、回収口６２Ｃの少なくとも一部を含む。

本実施形態においても、回収口６２Ｃには、多孔部材６４Ｃが配置されている。多孔部材６４Ｃの上面は、上端部４８Ｔより下方（−Ｚ側）に配置されている。

本実施形態においても、第１回収部６０Ｃで液体ＬＱを良好に回収することができる。

なお、回収口６２Ｃの替わりに、あるいは回収口６２Ｃに加えて、第１凹部６１Ｃの第１内面６１１Ｃ及び第２内面６１２Ｃの少なくとも一方に液体ＬＱを回収する回収口が配置されてもよい。

また、上述の第２実施形態のように、回収口６２Ｃ（多孔部材６４Ｃ）を、第１部材、第２部材とは異なる部材で保持して、脱着（交換）を容易にできるようにしてもよい。

また、上述の第１、第２実施形態の回収口６２に加えて、本実施形態の回収口６２Ｃを設けてもよい。

＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。第４実施形態は、第１実施形態の変形例である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図８は、第４実施形態に係る液浸部材４Ｄの一例を示す図である。図８において、液浸部材４Ｄは、第１面４１を有する第１部材３１と、第２面４２を有する第２部材３２Ｄとを含む。本実施形態において、液浸部材４Ｄは、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１開口３３の外側で、第１面４１が面する第１空間５１に面する位置に配置された供給口８４を有する。供給口８４は、露光光ＥＬの光路に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、供給口８４は、第２部材３２Ｄに設けられている。本実施形態においては、供給口８４は、第２面４２の内側のエッジから上方（＋Ｚ方向）に延びる第１２面７９に配置されている。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳを良好に形成することができる。

なお、本実施形態においては、供給口７５及び供給口８４の両方が配置されているが、供給口７５を省略してもよい。

また、上述の第２実施形態、及び第３実施形態においても、本実施形態のように、第２面４２を有する第２部材に液体ＬＱを供給する供給口を設けてもよい。

＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。第５実施形態は、第１実施形態の変形例である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図９は、第５実施形態に係る液浸部材４Ｅの一例を示す図である。図９において、液浸部材４Ｅは、第１面４１を有する第１部材３１Ｅと、第２面４２を有する第２部材３２とを含む。本実施形態において、液浸部材４Ｅは、終端光学素子２２の側面３５が面する第４空間５４からオーバーフローした液体ＬＱを回収する第２回収部８５を備えている。第２回収部８５は、第１部材３１Ｅの第５面４５に設けられた第２凹部８６と、第２凹部８６の内側に配置された回収口８７とを備えている。回収口８７には多孔部材８８が配置されている。第２回収部８５は、第４空間５４の上端を規定する上端部４４Ｔからオーバーフローした液体ＬＱを回収する。上端４４Ｔと第２凹部８６との間の第５面４５の一部は、上端部４４Ｔからオーバーフローした液体ＬＱを第２凹部８６にガイドする液体ガイド部として機能する。上端４４Ｔと第２凹部８６との間に第５面４５の一部が形成されていなくてもよい。また、第２回収部８５が第２凹部８６を備えてなくてもよい。すなわち、回収口８７の上端（多孔部材８８の上面）が第５面４５と面一であってもよい。

本実施形態によれば、第４空間５４からオーバーフローした液体ＬＱが、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１部材３１Ｅの外側に流出することが抑制される。これにより、露光不良の発生を抑制することができる。

なお、上述の第２実施形態〜第４実施形態においても、本実施形態のように、第４空間５４からオーバーフローした液体ＬＱを回収する第２回収部を第１部材に設けてもよい。

＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１０は、第６実施形態に係る液浸部材４Ｆの一例を示す図である。図１０において、液浸部材４Ｆは、第１面４１を有する第１部材３１Ｆと、第２面４２を有する第２部材３２Ｆとを含む。

本実施形態において、第２開口３４は、保持部材２１の外面３６に面する位置に配置されている。保持部材２１の外面３６が面する空間は、液浸部材４Ｆの雰囲気（内部空間８）に開放されており、空隙部８０は、第２開口３４を介して、液浸部材４Ｆの周囲の雰囲気に開放されている。また、側面３５が面する第４空間５４も、液浸部材４Ｆの周囲の雰囲気に開放されている。

本実施形態において空隙部８０からの液体ＬＱを回収する第１回収部６０Ｆは、空隙部８０の上端を規定する上端部１０４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向に延びる第９面４９Ｆと、光軸ＡＸに対する放射方向において第９面４９Ｆの外側に設けられた第１凹部６１Ｆと、第１凹部６１Ｆの内側に配置された回収口６２Ｆと、回収口６２Ｆに配置された多孔部材６４Ｆとを有する。本実施形態において、第９面４９Ｆは、第１部材３１Ｆの第５面４５Ｆよりも下方に、かつ外面３６と対向する位置に配置されている。また、第１凹部６１Ｆは、第９面４９Ｆよりも下方に配置されている。

また、本実施形態においては、供給口７５Ｆは、外面３６と対向する第１部材３１Ｆの第５面４５Ｆに配置されている。供給口７５Ｆから供給された液体ＬＱは、第４空間５４を流れた後、第３空間５３及び開口３９を介して、第１空間５１に供給される。第１空間５１の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３を介して空隙部８０に流入する。空隙部８０からオーバーフローした液体ＬＱは、第１回収部６０Ｆに回収される。

本実施形態においても、空隙部８０からの液体ＬＱの空間５３，５４を介して露光光ＥＬの光路へ戻らないように空隙部８０からの液体ＬＱを回収しつつ、液浸空間ＬＳを良好に形成することができる。

また、第４空間５４から液体ＬＱがオーバーフローしたとしても、その液体ＬＱを第１回収部６０Ｆで回収することができる。

なお、液体ＬＱの供給口を、第１部材３１Ｆの第４面４４Ｆに設けてもよい。第４面４４Ｆに設けた供給口は、側面３５と対向してもよいし、側面３５と対向しなくてもよい。

また、第２部材３２Ｆの第９面４９Ｆは、第１部材３１Ｆの第５面４５Ｆと同じ高さ（面一）でもよい。

また、上述の第２実施形態のように、回収口６２Ｆ（多孔部材６４Ｆ）を、第１部材３１Ｆ、第２部材３２Ｆとは異なる部材で保持して、脱着（交換）を容易にできるようにしてもよい。

また、上述の第４実施形態のように、供給口７５Ｆの替わりに、あるいは供給口７５Ｆに加えて、第２部材３２Ｆの第１２面７９Ｆに液体ＬＱの供給口を設けてもよい。

また、第１部材３１Ｆの第５面４５Ｆに第４空間５４からオーバーフローした液体ＬＱを回収する回収部を設けてもよい。このように、第５面４５Ｆに液体ＬＱの回収部を設けておくことによって、空隙部８０から第４空間５４へ向かう液体ＬＱを回収することができる。

＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１１は、第７実施形態に係る液浸部材４Ｇの一例を示す図である。図１１において、液浸部材４Ｇは、第１面４１を有する第１部材３１Ｇと、第２面４２を有する第２部材３２Ｇとを含む。

本実施形態に係る液浸部材４Ｇは、上述の第６実施形態に係る液浸部材４Ｆの変形例である。したがって、第６実施形態で説明した説明は省略する。図１１に示すように、第７実施形態は、第２開口３４が、側面３５に面するように配置される点、及び液体ＬＱを供給する供給口７５Ｆが射出面２３と第３面４３との間の第３空間５３に面している点で、第６実施形態と異なる。

本実施形態においても、空隙部８０（上端部１１４８Ｔ）からオーバーフローした液体ＬＱは、第９面４９Ｆを介して第１回収部６０Ｆに回収される。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳを良好に形成することができる。

＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。本実施形態は、第１実施形態の変形例である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１２は、第８実施形態に係る液浸部材４Ｈの一例を示す図である。図１２において、液浸部材４Ｈは、第１面４１を有する第１部材３１と、第２面４２を有する第２部材３２Ｈとを含む。

本実施形態において、液浸部材４Ｈは、第１開口３３と第２面４２との間に配置された第２凹部９０を備えている。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第２凹部９０は、基板Ｐの表面と対向する。

また、液浸部材４Ｈは、第２凹部９０を規定する内面に配置され、第２凹部９０に気体を供給して、その第２凹部９０の圧力を高める給気口９２を備えている。本実施形態においては、第２凹部９０の内面は、光軸ＡＸに近い内面９１Ａと光軸ＡＸに対して内面９１Ａの外側に配置された内面９１Ｂとを含み、給気口９２は内面９１Ｂに配置されている。

光軸ＡＸに対する放射方向において、第１開口３３の外側に、圧力が高い第２凹部９０が配置されるので、液浸空間ＬＳの拡大を抑制することができる。すなわち、第２凹部９０に形成される高圧空間によって、液浸空間ＬＳの気液界面ＬＧ１が内面９１Ａの下端と基板Ｐの表面との間に形成され、界面ＬＧ１の外側への移動が抑制される。これにより、液体ＬＱの流出を抑制することができる。

なお、上述の第２実施形態〜第７実施形態においても、本実施形態のように、第１開口３３と第２面４２との間に第２凹部９０（高圧空間）を設けることができる。

＜第９実施形態＞
次に、第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１３は、第９実施形態に係る液浸部材４Ｉの一例を示す図である。図１３において、液浸部材４Ｉは、第１面４１を有する第１部材３１と、第２面４２を有する第２部材３２Ｉとを含む。

液浸部材４Ｉは、光軸ＡＸに対する放射方向において、給気口７４の外側に配置され、液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方を吸引可能な吸引口９３を備えている。吸引口９３は、吸引流路を、真空システムを含む吸引装置と接続可能である。制御装置７は、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、吸引口９３を用いる吸引動作を実行する。

吸引口９３が設けられているので、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが、第２空間５２に流入した場合でも、その液体ＬＱを吸引口９３で吸引して回収することができる。したがって、第２部材３２Ｉの外側に液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。また、基板Ｐの露光中に吸引口９３を使わずに、第１面４１の下側の第１空間５１から液体ＬＱのほぼすべて回収する場合にだけ、吸引口９３を用いるようにしてもよい。

なお、上述の第１〜第９実施形態においては、第１回収部の回収口（６２など）、及び２回収部の回収口８７に多孔部材を配置して、多孔部材の一側から他側へ液体ＬＱのみが通過するようにしているが、回収口が、液体ＬＱを、気体とともに回収してもよい。また、回収口に、多孔部材を配置しなくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１面４１を有する第１部材（３１）と第２面４２を有する第２部材（３２）とが、光軸ＡＸと平行な方向に、及び／又は光軸ＡＸと垂直な方向に、相対移動可能であってもよい。すなわち、第１部材（３１）と第２部材（３２）の少なくとも一方が可動に支持されてもよい。例えば、第２支持機構２９にアクチュエータを設け、そのアクチュエータの駆動力で、第２部材（３２）の位置を動かしてもよい。第２部材の位置をＺ方向に動かして、第２ギャップＧ２を調整することができる。

なお、上述の各実施形態において、給気口７４を省略してもよい。

また、上述の各実施形態において、例えば、給気口７４からの気体で液体ＬＱの界面ＬＧ１を移動を抑制できる場合には、第２面４２を第１面４１よりも下方に配置しなくてもよい。

また、上述の各実施形態において、第２面４２の少なくとも一部は液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。

また、上述の各実施形態において、空隙部（８０）が、第１開口３３と異なる第２開口３４を介して液浸部材（４）の周囲の雰囲気と開放されるように形成できるならば、第１面４１，第２面４２、空隙部（８０）などを一つの部材に形成してもよい。

また、上述の各実施形態において、第１面４１が、射出面２３と基板Ｐとの間に配置されていなくてもよい。この場合、第１面４１が射出面２３と面一、あるいは射出面２３より上方に配置されてもよい。

また、上述の各実施形態において、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びる面（側面３５）を有していなくてもよい。例えば、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面が、射出面２３とほぼ平行（光軸ＡＸと垂直な方向に）延びていてもよい。

＜第１０実施形態＞
第１０実施形態について説明する。図１４は、第１０実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１４に示すように、本実施形態において、液浸部材４は、第１部材２３１と第２部材２３２とを含む。第１部材２３１及び第２部材２３２は、終端光学素子２２の近傍に配置されている。本実施形態において、第１部材２３１は、第１支持機構２８に支持されている。第２部材２３２は、第２支持機構２９に支持されている。本実施形態において、第１，第２支持機構２８，２９は、第１定盤１３に支持されている。本実施形態において、第１部材２３１は、第１支持機構２８を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。第２部材２３２は、第２支持機構２９を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。

図１５は、液浸部材４の近傍を示す側断面図、図１６は、液浸部材４を上方から見た図、図１７は、図１５の一部を拡大した図である。

図１５，図１６，及び図１７に示すように、本実施形態において、第１部材２３１及び第２部材２３２のそれぞれは、環状の部材である。第１部材２３１の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子２２の周囲に配置されている。第２部材２３２の少なくとも一部は、第１部材２３１の周囲に配置されている。図１６に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における第１部材２３１及び第２部材２３２の外形は、円形である。なお、第１部材２３１及び第２部材２３２の外形が、他の形状（例えば、矩形）でもよい。

液浸部材４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面２４１と、第１面２４１の周囲の少なくとも一部に配置された第１凹部２９０と、第１凹部２９０を規定する内面２９２に配置され、気体を供給して、第１凹部２９０の圧力を高める第１給気口２９１とを備えている。

また、本実施形態において、液浸部材４は、第１凹部２９０の周囲に配置され、第１面２４１と同じ方向を向く第２面２４２を備えている。第１面２４１及び第２面２４２のそれぞれは、基板Ｐの表面と対向可能なように、−Ｚ方向を向いている。本実施形態において、第２面２４２は、第１面２４１より下方（−Ｚ側）に配置されている。

本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面２４１及び第２面２４２の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面２４２の内側のエッジも、円形である。また、ＸＹ平面内における第１凹部２９０の形状は、環状である。なお、第１凹部２９０として、複数の凹部を所定の間隔で第１面２４１の周囲に配置してもよい。

また、液浸部材４は、第１面２４１と第１凹部２９０との間の第１開口２３３から液体ＬＱが流入可能であり、第１開口２３３と異なる第２開口２３４を介して雰囲気に開放された空隙部２８０と、空隙部２８０に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収部２６０とを備えている。

本実施形態において、第１面２４１は、第１部材２３１に配置されている。第１凹部２９０は、第２部材２３２に配置されている。第２面２４２は、第２部材２３２に配置されている。第１面２４１、第１凹部２９０、及び第２面２４２は、液浸部材４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。

本実施形態において、第１面２４１及び第２面２４２は、液体ＬＱを回収不可能である。すなわち、本実施形態においては、第１面２４１及び第２面２４２には液体回収口が設けられていない。また、内面２９２も、液体ＬＱを回収不可能である。本実施形態において、第１面２４１及び第２面２４２は、平坦である。第１面２４１と物体の表面（上面）との間の第１空間２５１は、液体ＬＱを保持可能である。なお、本実施形態においては、第１面２４１と第２面２４２は、それぞれＸＹ平面（水平面）と平行であるが、第１面２４１及び／又は第２面２４２の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよく、第１面２４１と第２面２４２とが平行でなくてもよい。また、本実施形態において、第１面２４１と第２面２４２の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３、第１面２４１、第１凹部２９０、及び第２面２４２に基板Ｐの表面が対向する。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３と基板Ｐの表面との間の空間に液体ＬＱが満たされる。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面２４１と基板Ｐの表面との間の第１空間２５１に液体ＬＱが保持される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。

本実施形態において、第１面２４１と物体との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているときに、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの気液界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１は、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４の下面と基板Ｐの表面との間に形成することができるが、後述の第１２面２７９と基板Ｐとの間に形成されることが望ましい。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。

以下、簡単のため、射出面２３、第１面２４１、第１凹部２９０、及び第２面２４２と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材４と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面２３及び液浸部材４と他の部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔなど）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。

上述したように、本実施形態において、第１面２４１及び第２面２４２のそれぞれは、ＸＹ平面とほぼ平行である。図１７などに示すように、第１面２４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面２４２は、第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さい。

本実施形態において、第１部材２３１は、基板Ｐの表面と対向可能な第１面２４１と、第１面２４１と逆方向を向き、射出面２３の少なくとも一部と対向する第３面２４３と、第３面２４３の周囲に配置され、終端光学素子２２の側面３５と対向する第４面２４４と、第４面２４４の周囲に配置され、保持部材２１の外面３６と対向する第５面２４５とを有する。第１部材２３１は、少なくとも一部が射出面２３と対向するように配置されたプレート部２３７と、少なくとも一部が終端光学素子２２の周囲に配置される本体部２３８とを有する。第１面２４１及び第３面２４３は、プレート部２３７に配置されている。第４面２４４及び第５面２４５は、本体部２３８に配置されている。また、プレート部２３７は、射出面２３から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口２３９を有する。基板Ｐの露光中、射出面２３から射出された露光光ＥＬは、開口２３９を介して、基板Ｐの表面に照射される。図１６に示すように、本実施形態において、開口２３９は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。

第３面２４３は、射出面２３と第３ギャップＧ３を介して対向する。第４面２４４は、側面３５と第４ギャップＧ４を介して対向する。第５面２４５は、外面３６と第５ギャップＧ５を介して対向する。

終端光学素子２２の側面３５は、射出面２３と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面３５は、射出面２３の周囲に配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びるように配置されている。側面３５は、射出面２３の周縁から光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に延びるように設けられている。すなわち、側面３５は、光軸ＡＸに対する放射方向に、かつ上方に延びるように傾斜している。

保持部材２１は、終端光学素子２２を保持する。保持部材２１の外面３６は、側面３５の周囲に配置されている。外面３６は、光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように配置されている。

本実施形態において、第３面２４３と射出面２３とは、ほぼ平行である。また、第４面２４４と側面３５とは、ほぼ平行である。また、第５面２４５と外面３６とは、ほぼ平行である。なお、第３面２４３と射出面２３とは平行でなくてもよい。また、第４面２４４と側面３５とは平行でなくてもよい。また、第５面２４５と外面３６とは平行でなくてもよい。

終端光学素子２２及び保持部材２１と第１部材２３１との間の空間は、射出面２３と第３面２４３とで規定された第３空間２５３と、側面３５と第４面２４４とで規定された第４空間２５４と、外面３６と第５面２４５とで規定された第５空間２５５とを含む。第４空間２５４は、光軸ＡＸに対する放射方向に、投影光学系ＰＬの像面から離れる方向に、かつ＋Ｚ方向に延びるように傾斜した空間である。第５空間２５５は、光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに垂直な方向）に延びる空間である。

なお、本実施形態においては、第４面２４４は終端光学素子２２の側面３５と対向しているが、第４面２４４の少なくとも一部が保持部材２１の外面と対向していてもよい。また、本実施形態においては、第５面２４５は、保持部材２１の外面３６と対向しているが、終端光学素子２２の側面３５の周囲に終端光学素子２２の下面が露出している場合には、第５面２４５の少なくとも一部が、終端光学素子２２の下面と対向していてもよい。

また、第４空間２５４は、光軸ＡＸと平行であってもよい。また第５空間２５５は光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

また、第１部材２３１は、第１面２４１の周囲に配置された第６面２４６と、第６面２４６の周囲に配置された第７面２４７とを有する。第６面２４６及び第７面２４７は、本体部２３８に配置されている。本実施形態において、第４面２４４と第６面２４６とは、ほぼ平行である。また、第５面２４５と第７面２４７とは、ほぼ平行である。なお、第４面２４４と第６面２４６とは平行でなくてもよい。また、第５面２４５と第７面２４７とは平行でなくてもよい。

本実施形態において、第２部材２３２は、基板Ｐの表面と対向可能な第２面２４２と、第６面２４６と対向する第８面２４８と、第７面２４７と対向する第９面２４９とを有する。

第８面２４８は、第６面２４６と第６ギャップＧ６を介して対向する。第９面２４９は、第７面２４７と第７ギャップＧ７を介して対向する。本実施形態において、第８面２４８と第６面２４６とは、ほぼ平行である。また、第９面２４９と第７面２４７とは、ほぼ平行である。なお、第８面２４８と第６面２４６とは平行でなくてもよい。また、第９面２４９と第７面２４７とは平行でなくてもよい。

第１部材２３１と第２部材２３２との間の空間は、第６面２４６と第８面２４８とで規定された第６空間２５６と、第７面２４７と第９面２４９とで規定された第７空間２５７とを含む。第６空間２５６は、光軸ＡＸに対する放射方向に、投影光学系ＰＬの像面から離れる方向（＋Ｚ方向）に延びるように傾斜した空間である。第７空間２５７は、光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに垂直な方向）に延びる空間である。なお、第６空間２５６は、光軸ＡＸと平行であってもよい。また、第７空間２５７は、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

本実施形態において、空隙部２８０は、第６空間２５６を含む。空隙部２８０（第６空間２５６）の下端は、第１空間２５１と流体的に接続されている。空隙部２８０の上端は、第７空間２５７と流体的に接続されている。本実施形態においては、空隙部２８０の下端に、第１開口２３３が配置され、空隙部２８０の上端に、第２開口２３４が配置されている。本実施形態においては、第８面２４８の下端部２４８Ｂは、空隙部２８０の下端を規定する。第８面２４８の上端部２４８Ｔは、空隙部２８０の上端を規定する。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１開口２３３は、基板Ｐの表面と対向する。基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口２３３を介して、空隙部２８０に流入可能である。本実施形態においては、第１開口２３３は、第１面２４１とほぼ面一に形成されている。なお、第１開口２３３を下方（−Ｚ方向）を向いていなくてもよい。第１開口２３３は、環状に設けられた一つの開口であってもよいし、所定の間隔で環状に配置された複数の開口から形成されてもよい。同様に、空隙部２８０も、光軸ＡＸの周囲に所定の間隔で環状に配置された複数の空隙部から形成されてもよい。

回収部２６０は、空隙部２８０からの液体ＬＱを回収する。回収部２６０は、空隙部２８０からオーバーフローした液体ＬＱを回収する。回収部２６０の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部２４８Ｔの外側に配置されている。

本実施形態において、回収部２６０は、光軸ＡＸに対する放射方向において、空隙部２８０の外側に上方（＋Ｚ方向）を向いて設けられた第２凹部２６１を有する。第２凹部２６１は、上方を向く開口２６１Ｋを有する。回収部２６０は、開口２６１Ｋを介して第２凹部２６１に流入した液体ＬＱを回収する。

第２凹部２６１は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部２４８Ｔの外側に設けられている。本実施形態において、第２凹部２６１は、第９面２４９の周囲に配置されている。ＸＹ平面内において、第２凹部２６１は、環状である。なお、第２凹部２６１は、所定間隔で環状に配置された複数の凹部から形成されてもよい。また、本実施形態においては、第２部材２３２は、第２凹部２６１の周囲に配置された第１０面２７０を有する。第１０面２７０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、第１０面２７０は、第９面２４９とほぼ同一平面内に配置されている。なお、第１０面２７０が第９面２４９より上方に（＋Ｚ側に）配置されてもよい。

第２凹部２６１は、第９面２４９と結ばれた第１内面２６１１と、第１内面２６１１と対向し、第１０面２７０と結ばれた第２内面２６１２と、第１内面２６１１と第２内面２６１２との間に配置された底面２６１３とを有する。底面２６１３は、上方（＋Ｚ方向）を向いている。底面２６１３は、上端部２４８Ｔより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、底面２６１３は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、底面２６１３は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、底面２６１３は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、底面２６１３が、曲面を含んでいてもよい。

また、回収部２６０は、空隙部２８０からの液体ＬＱを第２凹部２６１にガイドする液体ガイド部２８１を有する。本実施形態において、液体ガイド部２８１は、第９面２４９を含む。また本実施形態において、液体ガイド部２８１は、第７空間２５７を含む。液体ガイド部２８１は、上端部２４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように形成されている。なお、本実施形態においては、液体ガイド部２８１は、光軸ＡＸに対して垂直（ＸＹ平面と平行）に設けられているが、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。例えば、第９面２４９を上端部２４８Ｔから下方に向かって傾斜させてもよい。

第２凹部２６１は、上端部２４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向において、液体ガイド部２８１の外側に設けられている。空隙部２８０の上端からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部２８１にガイドされて、第２凹部２６１に流入する。

第２凹部２６１は、空隙部２８０からの液体ＬＱを貯めることができる。第２凹部２６１は、流入した液体ＬＱを貯めることによって、空隙部２８０からの液体ＬＱが空隙部２８０に戻ることを抑制する。すなわち、第２凹部２６１は、空隙部２８０に戻らないように空隙部２８０からの液体ＬＱを貯めるリザーブ部の少なくとも一部として機能する。

また、回収部２６０は、第２凹部２６１に流入した液体ＬＱを回収する回収口２６２を有する。回収口２６２は、その第２凹部２６１に貯めた液体ＬＱを回収する。

本実施形態において、回収口２６２は、底面２６１３と対向するように配置されている。本実施形態において、回収口２６２は、第２凹部２６１の内側に配置されている。換言すれば、回収口２６２は、第２凹部２６１の開口２６１Ｋより下方（−Ｚ側）に配置されている。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、回収口２６２は、環状である。なお、回収口２６２が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

本実施形態において、回収口２６２は、第１部材２３１に配置されている。第１部材２３１は、第７面２４７の周囲に配置され、下方に突出する凸部２６３を有する。回収口２６２は、凸部２６３の下端に配置されている。

回収口２６２には、多孔部材２６４が配置されている。多孔部材２６４は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材２６４が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。

本実施形態において、多孔部材２６４の下面を含む凸部２６３の外面と、底面２６１３、第１内面２６１１、及び第２内面２６１２を含む第２凹部２６１の内面とは離れている。すなわち、凸部２６３と第２凹部２６１との間に、第８空間２５８が形成される。

第１部材２３１は、第１０面２７０と対向する第１１面２７１を有する。第１０面２７０と第１１面２７１との間の第９空間２５９は、第３開口２７２を介して、雰囲気に開放されている。

空隙部２８０は、第２開口２３４を介して、雰囲気に開放されている。第２開口２３４は、第７空間２５７、第８空間２５８、及び第９空間２５９を介して、第３開口２７２と結ばれている。本実施形態において、空隙部２８０は、第２開口２３４、第７，第８，第９空間２５７，２５８，２５９、及び第３開口２７２を介して、雰囲気に開放されている。すなわち、空隙部２８０は、第１開口２３３と異なる第２開口２３４を介して液浸部材４の周囲の空間に開放されている。換言すれば、空隙部２８０は、第２開口２３４を介して液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面が接する気体空間に開放されている。

本実施形態において、「雰囲気」は、液浸部材４を取り囲む気体である。本実施形態において、液浸部材４を取り囲む気体は、チャンバ装置５によって形成される内部空間８の気体である。本実施形態において、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をクリーンな空気で満たす。また、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をほぼ大気圧に調整する。もちろん、内部空間８を大気圧よりも高く設定してもよい。

また、本実施形態においては、第３空間２５３、第４空間２５４、及び第５空間２５５も、液浸部材４の周囲の気体空間（内部空間８）に開放されている。

本実施形態において、第２面２４２は、液体ＬＱに対して撥液性である。第２面２４２において、液体ＬＱの接触角は９０°以上であり、１００°以上であってもよい。本実施形態においては、第２面２４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜２７３で形成されている。膜２７３は、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。

本実施形態においては、第２部材２３２は、第１開口２３３と第１凹部２９０との間に配置され、第１面２４１と同じ方向を向く第１２面２７９を備えている。第１２面２７９は、基板Ｐの表面と対向可能なように、−Ｚ方向を向いている。本実施形態において、第１２面２７９は、第１面２４１とほぼ同一平面内に配置されている平坦部である。なお、第１２面２７９は、第１面２４１の下方に配置されていてもよい。また第１２面２７９が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでいてもよい。

第１凹部２９０は、下方を向く開口２９０Ｋを有する。第１凹部２９０を規定する内面２９２は、第１２面２７９と結ばれた第１内面２９２１と、第１内面２９２１と少なくとも一部が対向し、第２面２４２と結ばれた第２内面２９２２と、第１内面２９２１と第２内面２９２２との間に配置された上面２９２３とを有する。上面２９２３は、下方（−Ｚ方向）を向いている。上面２９２３は、下端部２４８Ｂより上方（＋Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、上面２９２３は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、上面２９２３は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、上面２９２３は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、上面２９２３が、曲面を含んでいてもよい。

第１給気口２９１は、第２内面２９２２に配置されている。第１給気口２９１は、第１凹部２９０の内側に気体を供給する。本実施形態において、第１給気口２９１は、光軸ＡＸに関する周方向において所定間隔で第２内面２９２２に設けられた複数の開口を有しし、複数の開口のそれぞれから気体を供給する。第１給気口２９１は、第１凹部２９０の内側に気体を供給して、その第１凹部２９０の圧力を、少なくとも雰囲気の圧力（本実施形態では大気圧）より高くする。

また、本実施形態において、液浸部材４は、第１凹部２９０の周囲の少なくとも一部に配置された第２給気口２７４を備えている。本実施形態において、第２給気口２７４は、第２面２４２に配置されている。第２給気口２７４は、第２面２４２と対向する物体（基板Ｐ）の表面に向けて気体を供給する。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、給気口２７４は、環状である。なお、給気口２７４が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

また、本実施形態において、液浸部材４は、露光光ＥＬの光路に液体ＬＱを供給する供給口２７５を備えている。供給口２７５は、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面と対向する位置に配置されている。本実施形態において、供給口２７５は、終端光学素子２２の側面３５と対向する位置に配置されている。なお、供給口２７５は、終端光学素子２２の面に対向していなくてもよい。例えば、第３面２４３と射出面２３との間の第３空間２５３に面するように第１部材２３１に供給口２７５を配置してもよい。

図１６に示すように、本実施形態においては、供給口２７５は、光軸ＡＸに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、供給口２７５が、光軸ＡＸに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、供給口２７５の数は、３つ以上でもよい。

本実施形態において、供給口２７５は、第４空間２５４に液体ＬＱを供給する。第４空間２５４に供給された液体ＬＱは、第４空間２５４を下方に流れた後、第３空間２５３を介して、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。また、供給口２７５から第４空間２５４を介して第３空間２５３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２３９を介して、第１空間２５１に供給される。

図１５に示すように、供給口２７５は、供給流路を介して、液体供給装置２７６と接続されている。本実施形態において、供給流路は、第１部材２３１の内部に形成された流路、及び第１支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体供給装置２７６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給口２７５に供給することができる。なお、第１部材２３１を支持する第１支持機構２８の内部に供給流路の一部を設けなくてもよい。

回収口２６２は、回収流路を介して、液体回収装置２７７と接続されている。本実施形態において、回収流路は、第１部材２３１の内部に形成された流路、及び第１支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体回収装置２７７は、真空システム（真空源と回収口２６２との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口２６２から液体ＬＱを吸引して回収することができる。回収口２６２と真空源を含む液体回収装置２７７とが接続されることによって、回収口２６２から液体ＬＱが回収される。なお、第１部材２３１を支持する第１支持機構２８の内部に回収流路の一部を設けなくてもよい。

第１給気口２９１は、給気流路を介して、気体供給装置２７８Ａと接続されている。本実施形態において、給気流路は、第２部材２３２の内部に形成された流路、及び第２支持機構２９の内部に形成された流路を含む。気体供給装置２７８Ａは、クリーンで温度、及び湿度が調整された気体を第１給気口２９１に供給することができる。なお、第１給気口２９１から供給される気体の湿度は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度より高い方がよい。これにより、界面ＬＧでの液体ＬＱの気化を抑制することができる。また、第２部材２３２を支持する第２支持機構２９の内部に給気流路の一部を設けなくてもよい。

第２給気口２７４は、給気流路を介して、気体供給装置２７８Ｂと接続されている。本実施形態において、給気流路は、第２部材２３２の内部に形成された流路、及び第２支持機構２９の内部に形成された流路を含む。気体供給装置２７８Ｂは、クリーンで温度、及び湿度が調整された気体を第２給気口２７４に供給することができる。なお、第２給気口２７４から供給される気体の湿度は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度より高い方がよい。第２部材２３２を支持する第２支持機構２９の内部に給気流路の一部を設けなくてもよい。

なお、第１給気口２９１から供給される気体の湿度は、第２供給口２９２より供給される気体の湿度と同程度、もしくは高い方がよい。

また、第１給気口２９１から供給される気体の湿度と、第２供給口２９２より供給される気体の湿度の少なくとも一方は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度と同程度であってもよい。

制御装置７は、液体回収装置２７７を制御して、多孔部材２６４の下面側空間（第８空間２５８）から上面側空間（回収流路）へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材２６４の下面側と上面側との圧力差を制御することができる。本実施形態において、下面側の第８空間２５８の圧力は、雰囲気に開放され、チャンバ装置５によって制御されている。制御装置７は、多孔部材２６４の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置２７７を制御して、下面側の圧力に応じて、上面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置７は、多孔部材２６４の孔を介して、第８空間２５８からの液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材２６４の孔を通過しないように調整する。多孔部材２６４の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材２６４の一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書などに開示されている。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

まず、制御装置７は、射出面２３、第１面２４１、第１凹部２９０、及び第２面２４２と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面２６）とが対向するように、基板Ｐを保持する基板ステージ２を移動する。第１面２４１と基板Ｐの表面とは、第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面２４２と基板Ｐの表面とは第２ギャップＧ２を介して対向する。

制御装置７は、第１面２４１及び第２面２４２と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、液体供給装置２７６から液体ＬＱを送出する。また、制御装置７は、液体回収装置２７７を作動する。また、制御装置７は、気体供給装置２７８Ａ，２７８Ｂを作動する。

液体供給装置２７６から送出された液体ＬＱは、供給口２７５より、第４空間２５４に供給される。第４空間２５４に供給された液体ＬＱは、第４空間２５４を下方に流れた後、第３空間２５３を介して、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、露光光ＥＬの光路は、液体ＬＱで満たされる。

また、供給口２７５から第４空間２５４を介して第３空間２５３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２３９を介して、第１空間２５１に供給され、第１面２４１と基板Ｐの表面との間で保持される。

開口２３９から第１空間２５１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口２３１を介して空隙部２８０に流入する。

本実施形態においては、開口２３９を介して第１空間２５１に供給された液体ＬＱが、光軸ＡＸの放射方向において第１２面２７９の外側の空間に流入することが抑制されている。すなわち、本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ１の外側への移動が拘束されており、液浸空間ＬＳの拡大が抑制されている。

本実施形態においては、第１面２４１の周囲に配置された第１凹部２９０に第１給気口２９１から気体が供給されて、第１凹部２９０の圧力が高められ、第１凹部２９０の下側にも高圧空間が形成される。液浸空間ＬＳを形成するために第１面２４１と基板Ｐの表面との間に保持された液体ＬＱの界面ＬＧ１の周囲に、圧力が高い空間が配置されるので、液浸空間ＬＳの拡大を抑制することができる。すなわち、第１凹部２９０によって形成される高圧空間によって、界面ＬＧ１の外側への移動が拘束される。本実施形態においては、高圧空間によって、界面ＬＧ１の位置は、図１７等に示すように、第１２面２７９と基板Ｐの表面との間に維持される。これにより、液体ＬＱの流出を抑制することができる。

また、本実施形態においては、第２面２４２の内側のエッジと結ばれ、光路に面するように配置された第２内面２９２２が設けられている。Ｚ軸方向に関する第２内面２９２２の大きさは、第１内面２９１１の大きさより大きい。すなわち、第２内面２９２２の下端は、第１面２４１より−Ｚ側（基板Ｐ側）に配置される。したがって、第１凹部２９０の下側の空間からの気体の流出が抑えられ、液体ＬＱの流出を抑制するように、界面ＬＧ１の外側に、高圧空間を維持することができる。

また、本実施形態においては、給気口２７４が設けられており、光軸ＡＸに対して第２面２４２の内側エッジの外側で、基板Ｐの表面に向けて気体を供給する。これにより、給気口２７４から供給された気体によって、第１凹部２９０の下側の空間からの気体の流出が抑制される。すなわち、給気口２７４は、基板Ｐの表面と第２面２４２との間でガスシールを形成する。これにより、第１凹部２９０の下側に高圧空間を維持することができ、界面ＬＧ１の外側への移動が拘束される。

また、本実施形態において、第１面２４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第１面２４１の周囲に配置された第２面２４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さく、例えば０．１〜０．３ｍｍ程度である。したがって、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１２面２７９の下側空間の外側に液体ＬＱが流出したとしても、第１凹部２９０の外側に液体ＬＱが流出することが抑制される。

また、本実施形態においては、第２面２４２が液体ＬＱに対して撥液性なので、より効果的に、液体ＬＱの流出が抑制される。

また、本実施形態においては、ＸＹ平面内における第１凹部２９０の形状は、円環状（輪帯状）であり、その第１凹部２９０によって形成される高圧空間も、円環状である。これにより、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１の全方位から中心に向かう拘束力が作用する。これにより、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。

開口２３９を介して第１空間２５１に流入した液体ＬＱによって形成される液浸空間ＬＳの拡大が抑制された状態で、供給口２７５から液体ＬＱが供給されることによって、雰囲気に開放された空隙部２８０に液体ＬＱが流入し、空隙部２８０における液体ＬＱの表面の位置が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。空隙部２８０が液体ＬＱで満たされると、その空隙部２８０の液体ＬＱの少なくとも一部が、空隙部２８０の上端（上端部２４８Ｔ）からオーバーフローする。空隙部２８０からオーバーフローした液体ＬＱは、空隙部２８０の上端の外側に配置されている回収部２６０で回収される。

空隙部２８０からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部２８１にガイドされた後、第２凹部２６１に流入する。第２凹部２６１に流入した液体ＬＱは、第２凹部２６１に貯まる。

図１８Ａは、第２凹部２６１の液体ＬＱの表面が第１位置Ｚ１に配置される状態を示し、図１８Ｂは、第２位置Ｚ２に配置される状態を示す。図１８Ａに示すように、例えば、液体ＬＱの表面が第１位置Ｚ１に配置され、液体ＬＱと回収口２６２（多孔部材２６４）とが接触していない状態においては、第２開口２３４は、第７，第８，第９空間２５７，２５８，２５９、及び第３開口２７２を介して、雰囲気に開放されている。これにより、第１空間２５１の液体ＬＱは、第１開口２３３を介して空隙部２８０に円滑に流入する。また、空隙部２８０に流入し、その空隙部２８０からオーバーフローした液体ＬＱは、第２凹部２６１に円滑に流入する。第２凹部２６１に貯まる液体ＬＱの量は除々に増加する。

図１８Ｂに示すように、第２凹部２６１に貯まる液体ＬＱの量が増加して、液体ＬＱの表面が第２位置Ｚ２に配置され、液体ＬＱと回収口２６２（多孔部材２６４）とが接触することによって、第２凹部２６１に貯められている液体ＬＱは、回収口２６２（多孔部材２６４）より回収される。回収口２６２より液体ＬＱが回収されることによって、第２凹部２６１の液体ＬＱの量が減少し、第２凹部２６１における液体ＬＱの表面の位置が−Ｚ方向に移動する（下降する）。その第２凹部２６１に空隙部２８０からの液体ＬＱが流入することによって、第２凹部２６１の液体ＬＱの量が再び増加し、液体ＬＱと多孔部材２６４とが接触して、液体ＬＱが回収口２６２より回収される。

本実施形態においては、多孔部材２６４の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材２６４の下面側と上面側との圧力差が制御されているので、回収部２６０は、振動の発生、気化熱の発生を抑制しつつ、液体ＬＱを回収することができる。

本実施形態において、回収部２６０は、第１開口２３３及び空隙部２８０を介して回収された基板Ｐ上の液体ＬＱを第２凹部２６１に貯めるので、その空隙部２８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部２８０に戻ることを抑制することができる。また、回収部２６０は、第２凹部２６１に所定量以上貯まった液体ＬＱを、回収口２６２で回収する。したがって、空隙部２８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部２８０に戻ることをより確実に抑制することができる。空隙部２８０を介して回収された液体ＬＱが空隙部２８０に戻らないように、空隙部２８０からの液体ＬＱを第２凹部２６１に貯めることによって、例えば多孔部材２６４に接触した液体ＬＱが、空隙部２８０を介して第１空間２５１及び露光光ＥＬの光路に戻ることが抑制される。

次に、基板Ｐを露光する方法について説明する。上述のように、制御装置７は、供給口２７５より液体ＬＱを供給して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、第１面２４１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持して、液浸空間ＬＳを形成する。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口２３３を介して空隙部２８０に流入する。回収部２６０は、空隙部２８０からの液体ＬＱを第２凹部２６１に貯めるとともに、第２凹部２６１で所定量に達した液体ＬＱを回収口２６２で回収する。制御装置７は、供給口２７５を用いる液体供給動作と並行して、回収部２６０を用いる液体回収動作を実行して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。また、制御装置７は、第１給気口２９１より気体を供給して、第１凹部２９０の圧力を高めて、界面ＬＧ１の周囲に高圧空間を形成する。また、制御装置７は、第２給気口２７４より気体を供給して、ガスシールを形成する。

制御装置７は、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部を第１開口２３３から空隙部２８０を介して第２凹部２６１に貯めて、空隙部２８０から回収部２６０に回収された液体ＬＱが空隙部２８０に戻ることを抑制しつつ、かつ、第２ギャップＧ２等を用いて液浸空間ＬＳの拡大を拘束しつつ、基板Ｐの露光を開始する。

制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。制御装置７は、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。基板Ｐの露光中にも、供給口２７５から供給された液体ＬＱが第１開口２３３から流入し、空隙部２８０を介して回収部２６０に回収される。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１凹部２９０を規定する内面２９２に配置された第１給気口２９１から気体を供給して、液浸空間ＬＳの周囲に高圧空間を形成するようにしたので、例えば、液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板Ｐを高速で移動した場合においても、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体ＬＱで良好に満たし続けることができる。また、液体ＬＱが流出、残留等を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、不良デバイスの発生を抑制できる。

また、本実施形態においては、雰囲気に開放された空隙部２８０を設け、その空隙部２８０に流入した液体ＬＱを回収部２６０で回収するようにしたので、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４の下面の構造をシンプルにすることができる。したがって、液体ＬＱと接触する液浸部材４の下面に異物が付着したり、下面が汚染されたりすることが抑制される。

また、本実施形態においては、第１開口２３３に流入した液体ＬＱが流れる流路を形成する空隙部２８０（第６空間２５６）、及び液体ガイド部２８１（第７空間２５７）は、分離可能な第１部材２３１と第２部材２３２との間に形成される。したがって、空隙部２８０を形成する第１部材２３１の第６面２４６及び第２部材２３２の第８面２４８、液体ガイド部２８１を形成する第１部材２３１の第７面２４７及び第２部材２３２の第９面２４９を円滑且つ良好にクリーニングできる。

また、本実施形態においては、回収部２６０は、空隙部２８０から回収した液体ＬＱが、空隙部２８０に戻らないように構成されている。すなわち、空隙部２８０からの液体ＬＱを第２凹部２６１に貯めている。したがって、例えば回収部２６０の多孔部材２６４が汚染された場合でも、その多孔部材２６４に接触した液体ＬＱ（汚染されている可能性がある液体ＬＱ）が、空隙部２８０を介して第１空間２５１及び露光光ＥＬの光路に戻る（逆流する）ことを抑制することができる。したがって、露光不良の発生を抑制できる。

また、多孔部材２６４が汚染された場合、その汚染された多孔部材２６４を新たな多孔部材２６４に交換することによって、多孔部材２６４に接触する液体ＬＱの汚染を抑制できる。

また、上述の実施形態において、第１開口２３３と第１凹部２９０との間に第１２面２７９が形成されているが、第１２面２７９を形成せずに、第１開口２３３と第１凹部２９０とが隣接していてもよい。また、第１２面２７９は、第１面２４１よりも下方に配置されてもよい。

＜第１１実施形態＞
次に、第１１実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図１９は、第１１実施形態に係る液浸部材２０４Ｂの一例を示す図である。本実施形態においては、液浸部材２０４Ｂは、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路の周囲に配置された第１面２４１と、第１面２４１の周囲に配置された第１凹部２９０と、第１凹部２９０を規定する内面２９２に配置され、気体を供給して、第１凹部２９０の圧力を高める第１給気口２９１と、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１面２４１と第１凹部２９０との間に配置され、液体ＬＱを回収する回収口と２８７とを備えている。回収口２８７には、多孔部材２８８が配置されている。

また、液浸部材２０４Ｂは、第１凹部２９０の周囲に配置され、第１面２４１と同じ方向を向く第２面２４２と、第２面２４２に配置された第２給気口２７４と、側面３５と対向する位置に配置された供給口２７５とを備えている。

本実施形態において、第１面２４１、第１凹部２９０、第１給気口２９１、回収口２８７、第２面２４２、第２給気口２７４、及び供給口２７５は、１つの部材に配置されている。

また、本実施形態においては、回収口２８７は、基板Ｐの表面と対向可能なように、−Ｚ方向を向いている。回収口２８７は、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能である。多孔部材２８８の下面は、基板Ｐの表面と対向可能である。多孔部材２８８の下面は、第１面２４１の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、第１面２４１と多孔部材２８８の下面とは、ほぼ同一平面内に配置される。

回収口２８７は、回収流路を介して、液体回収装置２７７と接続されている。回収口２８７と真空源を含む液体回収装置２７７とが接続されることによって、回収口２８７から液体ＬＱが回収される。また、本実施形態においては、制御装置７は、液体回収装置２７７を制御して、多孔部材２８８の下面側から上面側へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材２８８の下面側と上面側との圧力差を制御することができる。

本実施形態においては、光軸ＡＸに対する放射方向において、回収口２８７の外側に第１凹部２９０が配置されており、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧが、回収口２８７の下側空間よりも外側に移動することが抑制されている。したがって、本実施形態においても、液体ＬＱを流出、残留等を抑制することができる。

＜第１２実施形態＞
次に、第１２実施形態について説明する。本実施形態は、第１０実施形態の変形例である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２０は、第１２実施形態に係る液浸部材２０４Ｃの一例を示す図である。図２０において、液浸部材２０４Ｃは、第１面２４１を有する第１部材２３１Ｃと、第２面２４２を有する第２部材２３２Ｃとを含む。

また、液浸部材２０４Ｃは、空隙部２８０に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収部２６０Ｃを有する。本実施形態において、回収部２６０Ｃは、第２部材２３２Ｃに設けられた第２凹部２６１Ｃと、第２凹部２６１Ｃに流入した液体ＬＱを回収する回収口２６２Ｃとを有する。本実施形態において、回収口２６２Ｃは、第２凹部２６１Ｃの内側に配置されている。本実施形態において、回収口２６２Ｃは、第２凹部２６１Ｃの底部２６１３Ｃに配置されている。回収口２６２Ｃには、多孔部材２６４Ｃが配置されている。多孔部材２６４Ｃの上面は、上端部２４８Ｔより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態においても、回収部２６０Ｃで液体ＬＱを良好に回収することができる。

本実施形態において、液浸部材２０４Ｃは、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１面２４１の外側で、第１面２４１が面する第１空間２５１に面する位置に配置された供給口２８４を有する。供給口２８４は、露光光ＥＬの光路に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、供給口２８４は、第２部材２３２Ｃに設けられている。供給口２８４は、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１開口２３３の外側に配置されている。供給口２８４は、第１２面２７９の内側のエッジと結ばれ、第１空間２５１に面する第１３面２８５に配置されている。

また、上述の第１０，第１１実施形態と同様、液浸部材２０４Ｃは、第１面２４１の周囲に配置された第１凹部２９０と、第１凹部２９０を規定する内面２９２に配置された第１給気口２９１と、第２面２４２に配置された第２給気口２７４とを備えている。本実施形態において、供給口２８４は、第１開口２３３と第１凹部２９０との間に配置されている。

本実施形態においても、液浸空間ＬＳを良好に形成することができ、液体ＬＱの流出、残留を抑制することができる。

なお、本実施形態においては、供給口２７５及び供給口２８４の両方が配置されているが、供給口２７５を省略してもよい。

なお、本実施形態において、回収口２６２Ｃが、第２凹部２６１Ｃの第１内面２６１１Ｃ及び第２内面２６１２Ｃの少なくとも一方に配置されてもよい。

なお、上述の第１０、第１２実施形態において、第１面２４１を有する第１部材（２３１）と第２面２４２を有する第２部材（２３２）とが、光軸ＡＸと平行な方向に、及び／又は光軸ＡＸと垂直な方向に、相対移動可能であってもよい。すなわち、第１部材２３１と第２部材２３２の少なくとも一方が可動に支持されてもよい。例えば、第２支持機構２９にアクチュエータを設け、そのアクチュエータの駆動力で、第２部材（２３２）の位置を動かしてもよい。第２部材（２３２）の位置をＺ方向に動かして、第２ギャップＧ２を調整することができる。

また、上述の第１０、第１２実施形態において、第１面２４１，第２面２４２、空隙部２８０などを一つの部材に形成してもよい。

また、上述の第１０、第１２実施形態において、第２開口２３４が保持部材２１の外面３６と対向するように空隙部２８０を設けてもよい。この場合も、外面３６の下側の第５空間２５５も雰囲気（液浸部材４の周囲の気体空間）に開放されているので、光軸ＡＸに対する放射方向において空隙部２８０の外側に回収部２６０を配置することによって空隙部２８０からの液体ＬＱを円滑に回収することができる。

また、上述の各実施形態において、第２面２４２の少なくとも一部は液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。

なお、上述の第１０〜第１２実施形態においては、回収口２６２、２８７、２６２Ｃに多孔部材を配置して、多孔部材の一側から他側へ液体ＬＱのみが通過するようにしているが、回収口が、液体ＬＱを、気体とともに回収してもよい。また、回収口に、多孔部材を配置しなくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、給気口２７４を省略してもよい。

また、上述の各実施形態において、給気口２７４から気体によって、第１凹部２９０の下側に高圧空間が維持できれば、第２面２４２が第１面２４１より下方に配置されていなくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１面２４１が、露光光ＥＬの光路の周囲の一部に配置されてもよい。また、第２面２４２が、第１凹部２９０の周囲の一部に配置されてもよい。

また、上述の各実施形態において、第１面２４１が、射出面２３と基板Ｐとの間に配置されていなくてもよい。この場合、第１面２４１が射出面２３と面一、あるいは射出面２３より上方に配置されてもよい。

また、上述の各実施形態において、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びる面（側面３５）を有していなくてもよい。例えば、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面が、射出面２３とほぼ平行（光軸ＡＸと垂直な方向に）延びていてもよい。

＜第１３実施形態＞
第１３実施形態について説明する。図２１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２１に示すように、本実施形態において、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材３０４を備えている。

液浸部材３０４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材３０４は、射出面２３と、射出面２３と対向する位置に配置された物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。本実施形態において、物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材３０４は、終端光学素子２２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。

液浸部材３０４は、終端光学素子２２の近傍に配置されている。本実施形態において、液浸部材３０４は、支持機構２８に支持されている。本実施形態において、支持機構２８は、第１定盤１３に支持されている。本実施形態において、液浸部材３０４は、支持機構２８を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。

図２２は、液浸部材３０４の近傍を示す側断面図、図２３は、液浸部材３０４を上方から見た図、図２４は、図２２の一部を拡大した図である。

図２２，図２３，及び図２４に示すように、本実施形態において、液浸部材３０４は、環状の部材である。液浸部材３０４の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子２２の周囲に配置されている。図２３に示すように、本実施形態において、ＸＹ平面内における液浸部材３０４の外形は、円形である。なお、液浸部材３０４の外形が、他の形状（例えば、矩形）でもよい。

液浸部材３０４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面３４１と、第１面３４１が面する第１空間３５１に面するように第１面３４１の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路を液体ＬＱで満たすために第１空間３５１に液体ＬＱを供給する供給口３７５と、供給口３７５から供給され、射出面２３の周縁から上方に、及び投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向に延びる投影光学系ＰＬの側面３５が面する空隙部３８０に第１開口３３９を介して流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収部３６０とを備えている。

また、本実施形態においては、液浸部材３０４は、第１面３４１の周囲の少なくとも一部に配置され、かつ第１面３４１よりも下方（−Ｚ側）に配置された第２面３４２を備えている。第１面３４１及び第２面３４２は、液浸部材３０４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面３４１及び第２面３４２の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面３４２の内側のエッジも、円形である。

本実施形態において、第１面３４１及び第２面３４２は、液体ＬＱを回収不可能である。すなわち、本実施形態においては、第１面３４１及び第２面３４２には液体回収口が設けられていない。すなわち、本実施形態においては、露光中に基板Ｐの表面が対向する液浸部材３０４の下面には、露光光ＥＬが通過する第１開口３３９以外に液体回収口が設けられていない。本実施形態において、第１面３４１及び第２面３４２は、平坦である。第１面３４１と物体の表面（上面）との間の第１空間３５１は、液体ＬＱを保持可能である。なお、本実施形態においては、第１面３４１と第２面３４２は、それぞれＸＹ平面（水平面）と平行であるが、第１面３４１及び／又は第２面３４２の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよく、第１面３４１と第２面３４２とが平行でなくてもよい。また、本実施形態において、第１面３４１と第２面３４２の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３の下方に配置された基板Ｐの表面が、射出面２３、第１面３４１、及び第２面３４２に対向する。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３と基板Ｐの表面との間の空間に液体ＬＱが満たされる。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面３４１と基板Ｐの表面との間の第１空間３５１に液体ＬＱが保持される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。

本実施形態において、第１面３４１と物体との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているときに、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの気液界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１は、第１面３４１及び第２面３４２の少なくとも一方と基板Ｐの表面との間に形成することができるが、第２面３４２の内側のエッジと基板Ｐとの間に形成されることが望ましい。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。

以下、簡単のため、射出面２３、第１面３４１、及び第２面３４２と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材３０４と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面２３及び液浸部材３０４と他の部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔなど）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。

上述したように、本実施形態において、第１面３４１及び第２面３４２のそれぞれは、ＸＹ平面とほぼ平行である。図２４などに示すように、第１面３４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面３４２は、第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さい。

本実施形態において、供給口３７５は、第１面３４１よりも下方に配置されている。本実施形態において、供給口３７５は、第１面３４１と第２面３４２との間に配置されている。本実施形態において、液浸部材３０４は、第１面３４１と第２面３４２との間に配置され、第１空間３５１に面する第３面３４３を備えている。第３面３４３の上端は、第１面３４１の外側のエッジと結ばれている。第３面３４３の下端は、第２面３４２の内側のエッジと結ばれている。供給口３７５は、第３面３４３に配置されている。

本実施形態においては、供給口３７５は、光軸ＡＸに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、供給口３７５が、光軸ＡＸに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、供給口３７５の数は、３つ以上でもよい。

第３面３４３は、露光光ＥＬの周囲に配置されている。第１空間３５１は、第１面３４１及び第３面３４３によって規定される。本実施形態においては、第３面３４３は、光軸ＡＸとほぼ平行である。なお、第３面３４３が、光軸ＡＸと平行でなくてもよい。例えば、第１面３４１と第３面３４３とがなす角度が、９０度より小さくてもよいし、９０度より大きくてもよい。

本実施形態において、投影光学系ＰＬの側面３５は、終端光学素子２２の側面３５Ａ、及び保持部材２１の外面３５Ｂの少なくとも一方を含む。終端光学素子２２の側面３５Ａは、射出面２３と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面３５Ａは、射出面２３の周囲に配置されている。側面３５Ａは、射出面２３の周縁から上方に、かつ光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に延びるように設けられている。すなわち、側面３５Ａは、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びるように傾斜している。

保持部材２１は、終端光学素子２２を保持する。保持部材２１の外面３５Ｂは、側面３５Ａの周囲に配置されている。外面３５Ｂは、露光光ＥＬが通過しない面である。外面３５Ｂは、光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように配置されている。

また、本実施形態において、液浸部材３０４は、第１面３４１と逆方向を向き、射出面２３の少なくとも一部と対向する第４面３４４と、第４面３４４の周囲に配置され、終端光学素子２２の側面３５Ａと対向する第５面３４５と、第５面３４５の周囲に配置され、保持部材２１の外面３５Ｂと対向する第６面３４６とを有する。なお、本実施形態においては、側面３５が露出するように、終端光学素子２２が保持部材２１に保持されているが、第５面３４５が保持部材２１に面するように、あるいは第６面３４６が終端光学素子２２に面するように、終端光学素子２２が保持部材２１に保持されてもよい。

液浸部材３０４は、少なくとも一部が射出面２３と対向するように配置されたプレート部３３７と、少なくとも一部が終端光学素子２２の周囲に配置される本体部３３８とを有する。第１面３４１及び第４面３４４は、プレート部３３７に配置されている。第５面３４５及び第６面３４６は、本体部３３８に配置されている。

第１開口３３９は、プレート部３３７に配置されている。射出面２３から射出された露光光ＥＬは、第１開口３３９を通過可能である。基板Ｐの露光中、射出面２３から射出された露光光ＥＬは、第１開口３３９を介して、基板Ｐの表面に照射される。図２３に示すように、本実施形態において、第１開口３３９は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。

第４面３４４は、射出面２３と第３ギャップＧ３を介して対向する。第５面３４５は、側面３５Ａと第４ギャップＧ４を介して対向する。第６面３４６は、外面３５Ｂと第５ギャップＧ５を介して対向する。

本実施形態において、第４面３４４と射出面２３とは、ほぼ平行である。また、第５面３４５と側面３５Ａとは、ほぼ平行である。また、第６面３４６と外面３５Ｂとは、ほぼ平行である。なお、第４面３４４と射出面２３とは平行でなくてもよい。また、第５面３４５と側面３５Ａとは平行でなくてもよい。また、第６面３４６と外面３５Ｂとは平行でなくてもよい。

空隙部３８０は、第１空隙部３８１と第２空隙部３８２とを含む。第１空隙部３８１は、側面３５Ａと第５面３４５との間の空間を含む。第１空隙部３８１は、光軸ＡＸに対する放射方向、かつ上方（＋Ｚ方向）に延びている。本実施形態においては、第５面３４５の下端部３４５Ｂは、第１空隙部３８１の下端を規定する。第５面３４５の上端部３４５Ｔは、第１空隙部３８１の上端を規定する。

第２空隙部３８２は、外面３５Ｂと第６面３４６との間の空間を含む。第２空隙部３８２は、第１空隙部３８１の上端と流体的に接続されている。第２空隙部３８２は、光軸ＡＸに対する放射方向に延びている。

なお、第１空隙部３８１は、光軸ＡＸと平行であってもよい。また、第２空隙部３８２は、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

回収部３６０は、空隙部３８０（第１空隙部３８１）に第１開口３３９を介して流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。第１開口３３９は、第１空間３５１に面している。供給口３７５から第１空間３５１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３９を介して第１空隙部３８１に流入可能である。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１開口３３９は、基板Ｐの表面と対向する。したがって、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３９を介して、第１空隙部３８１に流入可能である。

本実施形態において、第１空隙部３８１は、第１開口３３９と異なる第２開口３３４を介して雰囲気に開放されている。本実施形態において、第２開口３３４は、第１空隙部３８１の上端に配置されている。

回収部３６０は、第１開口３３９から第１空隙部３８１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を第２開口３３４を介して回収する。回収部３６０は、第１空隙部３８１からオーバーフローした液体ＬＱを回収する。回収部３６０の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部３４５Ｔの外側に設けられている。また、回収部３６０の少なくとも一部は、第２空隙部３８２において外面３５Ｂと対向する。

本実施形態において、回収部３６０は、光軸ＡＸに対する放射方向において、第１空隙部３８１の外側に上方（＋Ｚ方向）を向いて設けられた凹部３６１を有する。凹部３６１は、液浸部材３０４に設けられている。凹部３６１は、上方を向く開口３６１Ｋを有する。回収部３６０は、開口３６１Ｋを介して凹部３６１に流入した液体ＬＱを回収する。

凹部３６１は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部３４５Ｔの外側に設けられている。本実施形態において、凹部３６１は、第６面３４６の周囲に配置されている。ＸＹ平面内において、凹部３６１は、環状である。なお、凹部３６１は、所定間隔で環状に配置された複数の凹部から形成されてもよい。また、本実施形態においては、液浸部材３０４は、凹部３６１の周囲に配置された第７面３４７を有する。第７面３４７は、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、第７面３４７は、第６面３４６とほぼ同一平面内に配置されている。なお、第７面３４７が、第６面３４６より上方に（＋Ｚ側に）配置されてもよい。

凹部３６１は、第６面３４６と結ばれた第１内面３６１１と、第１内面３６１１と対向し、第７面３４７と結ばれた第２内面３６１２と、第１内面３６１１と第２内面３６１２との間に配置された底部３６１３とを有する。底部３６１３は、上方（＋Ｚ方向）を向いている。底部３６１３は、上端部３４５Ｔよりも下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、底部３６１３は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、底部３６１３は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、底部３６１３は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、底部３６１３が、曲面を含んでいてもよい。

また、回収部３６０は、第１空隙部３８１からの液体ＬＱを凹部３６１にガイドする液体ガイド部３８３を有する。本実施形態において、液体ガイド部３８３は、第６面３４６を含む。また、本実施形態において、液体ガイド部３８３は、外面３５Ｂと第６面３４６との間の空間を含む。すなわち、液体ガイド部３８３は、第２空隙部３８２の一部に配置されている。液体ガイド部３８３は、上端部３４５Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように形成されている。

なお、本実施形態においては、液体ガイド部３８３は、光軸ＡＸに対して垂直（ＸＹ平面と平行）に設けられているが、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。例えば、第６面３４６を上端部３４５Ｔから下方に向かって傾斜させてもよい。

凹部３６１は、上端部３４５Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向において、液体ガイド部３８３の外側に設けられている。第１空隙部３８１の上端からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部３８３にガイドされて、凹部３６１に流入する。

凹部３６１は、第１空隙部３８１からの液体ＬＱを貯めることができる。凹部３６１は、流入した液体ＬＱを貯めることによって、第１空隙部３８１からの液体ＬＱが第１空隙部３８１に戻ることを抑制する。すなわち、凹部３６１は、第１空隙部３８１に戻らないように第１空隙部３８１からの液体ＬＱを貯めるリザーブ部の少なくとも一部として機能する。

また、回収部３６０は、凹部３６１に流入した液体ＬＱを回収する回収口３６２を有する。回収口３６２は、凹部３６１に貯めた液体ＬＱを回収する。

本実施形態において、回収口３６２は、凹部３６１の内側に配置されている。換言すれば、回収口３６２は、凹部３６１の開口３６１Ｋより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、回収口３６２は、凹部３６１の底部３６１３に配置されている。すなわち、凹部３６１の底部３６１３は、回収口３６２の少なくとも一部を含む。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、回収口３６２は、環状である。なお、回収口３６２が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

回収口３６２には、多孔部材３６４が配置されている。多孔部材３６４は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材３６４が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。

上述のように、本実施形態において、第１空隙部３８１は、第２開口３３４を介して雰囲気に開放されている。本実施形態においては、第１空隙部３８１は、第２開口３３４及び第２空隙部３８２を介して、雰囲気に開放されている。

上述のように、第２空隙部３８２は、外面３５Ｂと第６面３４６との間の空間を含む。また、本実施形態においては、第２空隙部３８２は、外面３５Ｂと凹部３６１との間の空間、及び外面３５Ｂと第７面３４７との間の空間を含む。外面３５Ｂと第７面３４７との間の空間は、第３開口３７２を介して、雰囲気に開放されている。

すなわち、第１空隙部３８１は、第２開口３３４及び第２空隙部３８２を介して、液浸部材３０４の周囲の空間に開放されている。換言すれば、第１空隙部３８１は、第２開口３３４を介して液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面が接する気体空間（内部空間８）に開放されている。

本実施形態において、「雰囲気」は、液浸部材３０４を取り囲む気体である。本実施形態において、液浸部材３０４を取り囲む気体は、チャンバ装置５によって形成される内部空間８の気体である。本実施形態において、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をクリーンな空気で満たす。また、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をほぼ大気圧に調整する。もちろん、内部空間８を大気圧よりも高く設定してもよい。

本実施形態において、第２面３４２は、液体ＬＱに対して撥液性である。第２面３４２において、液体ＬＱの接触角は９０°以上であり、１００°以上であってもよい。本実施形態においては、第２面３４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜３７３で形成されている。膜３７３は、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。

また、本実施形態においては、第３面３４３も、液体ＬＱに対して撥液性である。第３面３４３も、膜３７３で形成されている。なお、第２面３４２、及び第３面３４３の少なくとも一方は、撥液性の膜３７３の表面でなくてもよい。例えば、液浸部材３０４を撥液性の材料で形成してもよい。

また、本実施形態において、液浸部材３０４は、供給口３７５の周囲の少なくとも一部に配置された給気口３７４を備えている。本実施形態において、給気口３７４は、第２面３４２に配置されている。給気口３７４は、第２面３４２と基板Ｐの表面との間の第２空間３５２に気体を供給可能である。給気口３７４は、第２面３４２と対向する物体（基板Ｐ）の表面に向けて気体を供給する。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、給気口３７４は、環状である。なお、給気口３７４が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

図２２に示すように、供給口３７５は、供給流路を介して、液体供給装置３７６と接続されている。本実施形態において、供給流路は、液浸部材３０４の内部に形成された流路、及び支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体供給装置３７６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給口３７５に供給することができる。なお、液浸部材３０４を支持する支持機構２８の内部に供給流路の一部を設けなくてもよい。

回収口３６２は、回収流路を介して、液体回収装置３７７と接続されている。本実施形態において、回収流路は、液浸部材３０４の内部に形成された流路、及び支持機構２８の内部に形成された流路を含む。液体回収装置３７７は、真空システム（真空源と回収口３６２との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口３６２から液体ＬＱを吸引して回収することができる。なお、液浸部材３０４を支持する支持機構２８の内部に回収流路の一部を設けなくてもよい。

給気口３７４は、給気流路を介して、気体供給装置３７８と接続されている。本実施形態において、給気流路は、液浸部材３０４の内部に形成された流路、及び支持機構２８の内部に形成された流路を含む。気体供給装置３７８は、クリーンで温度及び湿度が調整された気体を給気口３７４に供給することができる。なお、給気口３７４から供給される気体の湿度は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度と同程度、もしくは高い方がよい。また、液浸部材３０４を支持する支持機構２８の内部に給気流路の一部を設けなくてもよい。

供給口３７５から第１空間３５１に供給された液体ＬＱは、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。また、第１空間３５１の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３９を介して、射出面２３と第４面３４４との間の第３空間３５３に流入し、その第３空間３５３を介して、第１空隙部３８１に流入する。第１空隙部３８１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、回収部３６０に回収される。

本実施形態においては、多孔部材３６４の上面側空間（第２空隙部３８２）から下面側空間（回収流路）へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材３６４の上面側と下面側との圧力差が制御される。本実施形態において、上面側の第２空隙部３８２の圧力は、雰囲気に開放され、チャンバ装置５によって制御されている。制御装置７は、多孔部材３６４の上面側から下面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置３７７を制御して、上面側の圧力に応じて、下面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置７は、多孔部材３６４の孔を介して、第１空隙部３８１からの液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材３６４の孔を通過しないように調整する。多孔部材３６４の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材３６４の一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書などに開示されている。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

まず、制御装置７は、射出面２３及び第１面３４１と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面２６）とが対向するように、基板Ｐを保持した基板ステージ２を移動する。第１面３４１と基板Ｐの表面とは、第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面３４２と基板Ｐの表面とは第２ギャップＧ２を介して対向する。

制御装置７は、第１面３４１及び第２面３４２と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、液体供給装置３７６から液体ＬＱを送出する。また、制御装置７は、液体回収装置３７７を作動する。また、制御装置７は、気体供給装置３７８を作動する。

液体供給装置３７６から送出された液体ＬＱは、供給口３７５より、第１空間３５１に供給され、第１面３４１と基板Ｐの表面との間に保持される。第１空間３５１に供給された液体ＬＱは、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、射出面２３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路は、液体ＬＱで満たされる。

本実施形態においては、基板Ｐの表面、第１面３４１、及び第３面３４３で囲まれた第１空間３５１がほぼ液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。また液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ）の界面ＬＧ１は、第２面４２の内側のエッジ（第３面３４３の下端）と基板Ｐの表面との間に形成されている。

本実施形態においては、供給口３７５より第１空間３５１に供給された液体ＬＱが、第２空間３５２に流入することが抑制されている。すなわち、本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ１の、第３面３４３より外側へ移動することが抑制されており、液浸空間ＬＳの拡大が抑制されている。

本実施形態において、第１面３４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第１面３４１の周囲に配置された第２面３４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さく、例えば０．１〜０．３ｍｍ程度である。したがって、光軸ＡＸに対する放射方向において、界面ＬＧ１が第３面３４３の外側へ移動することが抑制される。すなわち、第２ギャップＧ２が微小なので、図２４等に示すように、液体ＬＱの表面張力により、界面ＬＧ１の位置は、第２面３４２の内側のエッジと基板Ｐの表面との間に維持される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが、第２空間３５２に流入することが抑制される。

また、本実施形態においては、第２面３４２が液体ＬＱに対して撥液性なので、より効果的に、液体ＬＱが第２空間３５２に流入することが抑制される。また、本実施形態においては、第２面３４２の内側のエッジから上方に延びるように、かつ光路に面するように配置された第３面３４３が設けられているので、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。また、第３面３４３は、液体ＬＱに対して撥液性なので、これによっても、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。

また、本実施形態においては、給気口３７４が設けられており、光軸ＡＸに対して第２面３４２の内側エッジの外側で、基板Ｐの表面に向けて気体を供給する。これにより、給気口３７４から供給された気体の力によって、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。すなわち、給気口３７４は、基板Ｐの表面と第２面３４２との間にガスシールを形成する。これにより、液体ＬＱが流出することが抑制され、界面ＬＧ１の移動が拘束される。

また、本実施形態においては、第１面３４１の外形及び第２面３４２の内側のエッジが円形であり、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの外形もほぼ円形である。これにより、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１の全方位から中心に向かう拘束力がほぼ均等に作用する。これにより、液浸空間ＬＳの拡大が効果的に抑制される。

液浸空間ＬＳの拡大が抑制された状態で、供給口３７５から第１空間３５１に液体ＬＱが供給されることによって、第１空間３５１の液体ＬＱの少なくとも一部は、露光光ＥＬが通過する第１開口３３９、及び第３空間３５３を介して、雰囲気に開放された第１空隙部３８１に流入する。第１空隙部３８１に液体ＬＱが流入することによって、その第１空隙部３８１における液体ＬＱの表面の位置が、＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。すなわち、上方に向かって延びる第１空隙部３８１内を上方に向かって液体ＬＱが流れる。供給口３７５から液体ＬＱの供給を継続すると、第１空隙部３８１の液体ＬＱの少なくとも一部が、第１空隙部３８１の上端（上端部３４５Ｔ）からオーバーフローする。第１空隙部３８１からオーバーフローした液体ＬＱは、第１空隙部３８１の上端の外側に配置されている回収部３６０で回収される。すなわち、第１空隙部３８１からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部３８３にガイドされた後、凹部３６１に流入する。凹部３６１に流入した液体ＬＱは、回収口３６２（多孔部材３６４）より回収される。

本実施形態においては、多孔部材３６４の上面側から下面側へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材３６４の上面側と下面側との圧力差が制御されているので、回収部３６０は、振動の発生、気化熱の発生を抑制しつつ、液体ＬＱを回収することができる。

本実施形態において、回収部３６０は、第１開口３３９及び第１空隙部３８１を介して回収された基板Ｐ上の液体ＬＱを凹部３６１に貯めるので、その第１空隙部３８１を介して回収された液体ＬＱが第１空隙部３８１に戻ることを抑制することができる。第１空隙部３８１を介して回収された液体ＬＱが第１空隙部３８１に戻らないように、第１空隙部３８１からの液体ＬＱを凹部３６１に貯めることによって、例えば多孔部材３６４に接触した液体ＬＱが、第１空隙部３８１を介して第１空間３５１及び露光光ＥＬの光路に戻ることが抑制される。

次に、基板Ｐを露光する方法について説明する。上述のように、制御装置７は、供給口３７５より液体ＬＱを供給して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、第１面３４１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持して、液浸空間ＬＳを形成する。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口３３９を介して第１空隙部３８１に流入する。回収部３６０は、第１空隙部３８１からの液体ＬＱを回収する。制御装置７は、供給口３７５を用いる液体供給動作と並行して、回収部３６０を用いる液体回収動作を実行して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。また、制御装置７は、給気口３７４より気体を供給して、ガスシールを形成する。

制御装置７は、第１空隙部３８１から回収部３６０に回収された液体ＬＱが第１空隙部３８１及び第１空隙部３８１を介して第１空間３５１（露光光ＥＬの光路）に戻ることを抑制しつつ、かつ、第２ギャップＧ２等を用いて液浸空間ＬＳの拡大を拘束しつつ、基板Ｐの露光を開始する。

制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。制御装置７は、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。基板Ｐの露光中にも、供給口３７５から供給された液体ＬＱが第１開口３３９から流入し、第１空隙部３８１を介して回収部３６０に回収される。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１空間３５１に面するように供給口３７５を設け、第１開口３３９を介して第１空隙部３８１に流入した液体ＬＱを、回収部３６０で回収するようにしたので、基板Ｐの表面と対向する液浸部材３０４の下面の構造をシンプルにすることができる。したがって、液体ＬＱと接触する液浸部材３０４の下面に異物が付着したり、下面が汚染されたりすることが抑制される。

例えば、基板Ｐの表面と対向する液浸部材３０４の下面に液体ＬＱを回収する回収口を設けたり、その回収口に多孔部材を設けたりして、構造（形状）が複雑になると、その下面に異物が付着し易くなる可能性がある。例えば、基板Ｐの表面と対向する位置に多孔部材が配置されている場合、基板Ｐから発生した異物（例えば基板Ｐの表面を形成する感光膜、あるいはトップコート膜等の一部）が、多孔部材に付着する可能性がある。その付着した異物が、基板Ｐの露光中に、露光光ＥＬの光路に放出されたり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に混入したりすると、基板Ｐにパターン欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。また、下面の構造（形状）が複雑な場合、例えば凹凸部が多数存在する場合においても、基板Ｐから発生した異物が下面に付着し易くなる可能性がある。

本実施形態によれば、第１空隙部３８１を設け、露光光ＥＬが通過する第１開口３３９を介して第１空隙部３８１に流入した液体ＬＱを、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置された回収部３６０で回収しており、基板Ｐの表面と対向する液浸部材３０４の下面は、シンプルな構造である。したがって、液浸部材３０４の下面に異物が付着することが抑制される。また、液浸部材３０４の下面の構造がシンプルなので、仮に液浸部材３０４の下面に異物が付着した場合でも、液浸部材３０４の下面を円滑且つ良好にクリーニングすることができる。

また、本実施形態においては、第１空隙部３８１は、第２開口３３４を介して、雰囲気に開放されている。また、その第１空隙部３８１に流体的に接続されている第３空間３５３も、雰囲気に開放されている。したがって、第１空間３５１の液体ＬＱは、第１開口３３９を介して、第３空間３５３及び第１空隙部３８１に円滑に流入することができる。そのため、液浸空間ＬＳの拡大を抑制することができる。

また、本実施形態においては、回収部３６０は、第１空隙部３８１から回収した液体ＬＱが、第１空隙部３８１に戻らないように構成されている。すなわち、第１空隙部３８１からの液体ＬＱを凹部３６１に貯めている。したがって、例えば回収部３６０の多孔部材３６４が汚染された場合でも、その多孔部材３６４に接触した液体ＬＱ（汚染されている可能性がある液体ＬＱ）が、第１空隙部３８１を介して第１空間３５１及び露光光ＥＬの光路に戻る（逆流する）ことを抑制することができる。したがって、露光不良の発生を抑制できる。

また、多孔部材３６４が汚染された場合、その汚染された多孔部材３６４を新たな多孔部材３６４に交換することによって、多孔部材３６４に接触する液体ＬＱの汚染を抑制できる。

なお、上端部３４５Ｔと凹部３６１との間に設けられた液体ガイド部３８３（第６面３４６）を省略してもよい。すなわち、上端部３４５Ｔに隣接するように凹部３６１を設けてもよい。

なお、上述の実施形態においては、供給口３７５が第３面３４３に設けられているが、第１面３４１に設けられていてもよい。すなわち、供給口３７５を第１面３４１に下向きに配置してもよい。

また、上述の実施形態においては、回収部３６０の回収口３６２に多孔部材３６４を配置して、多孔部材３６４の一側から他側へ液体ＬＱのみが通過するようにしているが、回収口３６２が、液体ＬＱを、気体とともに回収してもよい。また、回収口３６２に、多孔部材を配置しなくてもよい。

なお、上述の実施形態においては、第１空間３５１の液体ＬＱが、露光光ＥＬが通過する第１開口３３９を介して第１空隙部３８１に流入しているが、基板Ｐの表面と対向する第１面３４１の少なくとも一部に、露光光ＥＬが通過する第１開口３３９とは別の開口を設け、その開口を介して、第１空間３５１の液体ＬＱを第１空隙部３８１に流入させてもよい。

なお、上述の実施形態において、給気口３７４を省略してもよい。

また、上述の実施形態において、例えば、給気口３７４からの気体で液体ＬＱの界面ＬＧ１を移動を抑制できる場合には、第２面３４２を第１面３４１よりも下方に配置しなくてもよい。

また、上述の実施形態において、第２面３４２の少なくとも一部は液体ＬＱに対して撥液性でなくてもよい。

なお、上述の実施形態において、第１面３４１を有する部材と、第２面３４２を有する部材とが別の部材でもよい。また、第３面３４３を有する部材が、第１面３４１を有する部材及び第２面を有する部材の少なくとも一方と別の部材でもよい。

また、上述の実施形態において、第１面３４１が、射出面２３と基板Ｐとの間に配置されていなくてもよい。この場合、第１面３４１が射出面２３と面一、あるいは射出面２３より上方に配置されてもよい。

また、上述の実施形態において、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びる面（側面３５Ａ）を有していなくてもよい。例えば、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面が、射出面２３とほぼ平行（光軸ＡＸと垂直な方向に）延びていてもよい。

また、露光光ＥＬが通過しない投影光学系ＰＬの側面３５が、射出面２３の周囲の少なくとも一部において、射出面２３と略同一面内（面一）に配置されてもよい。すなわち、側面３５が、射出面２３の周縁から上方に延びずに、光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように配置されてもよい。また、側面３５が、光軸ＡＸとほぼ平行であってもよい。すなわち、側面３５が、光軸ＡＸに対する放射方向に延びずに、射出面２３の周縁から上方に延びるように配置されもよい。

なお、上述の実施形態においては、第１開口３３９を介して液体ＬＱが流入する第１空隙部３８１が第２空隙部３８２を介して雰囲気に開放されており、第１空隙部３８１からオーバーフローした液体ＬＱを回収部３６０で回収しているが、第１空隙部３８１及び第２空隙部３８２を実質的な閉空間として、第１空隙部３８１及び／又は第２空隙部３８２の流体（液体ＬＱ及び／又は気体）を回収部３６０で回収するようにしてもよい。

また、上述の実施形態においては、第２空隙部３８２に流れ込んで液体ＬＱを回収部３６０で回収するようにしているが、回収部３６０の替わりに、あるいは回収部３６０に加えて、第１空隙部３８１の液体ＬＱを回収する回収部を設けてもよい。

＜第１４実施形態＞
第１４実施形態について説明する。図２５は、第１４実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２５に示すように、本実施形態において、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材４０４を備えている。

液浸部材４０４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材４０４は、射出面２３と、射出面２３と対向する位置に配置された物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。本実施形態において、物体は、基板ステージ２（プレート部材Ｔ）、及び基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光中、液浸部材４０４は、終端光学素子２２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。

液浸部材４０４は、終端光学素子２２の近傍に配置されている。本実施形態において、液浸部材４０４は、支持機構２８に支持されている。本実施形態において、支持機構２８は、第１定盤１３に支持されている。本実施形態において、液浸部材４０４は、支持機構２８を介して、第１定盤１３に吊り下げられている。

図２６は、液浸部材４０４の一部を拡大した図である。図２６に示すように、液浸部材４０４は、第１部材４３１及び第２部材４３２を含む。本実施形態において、第１部材４３１及び第２部材４３２のそれぞれは、環状の部材である。第１部材４３１の少なくとも一部は、露光光ＥＬの一部の光路及び終端光学素子２２の周囲に配置されている。第２部材４３２の少なくとも一部は、第１部材４３１の周囲に配置されている。本実施形態において、ＸＹ平面内における第１部材４３１及び第２部材４３２の外形は、円形である。なお、第１部材４３１及び第２部材４３２の外形が、他の形状（例えば、矩形）でもよい。

本実施形態においては、第２部材４３２は、第１部材４３１の一部と連結部材（不図示）を介して接続されている。第２部材４３２が支持機構２８に支持され、第２部材４３２の位置が固定されることによって、第１部材４３１の位置も固定される。

液浸部材４０４は、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面４４１と、第１面４４１の周囲の少なくとも一部に配置された第２面４４２と、射出面２３の周縁から上方、及び投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に延びる投影光学系ＰＬの側面３５が面し、雰囲気に開放された第１空隙部４８１と、第１面４４１と第２面４４２との間に配置された第１開口４３３から液体ＬＱが流入可能であり、第１開口４３３と異なる第２開口４３４を介して雰囲気に開放された第２空隙部４８２と、少なくとも一部が投影光学系ＰＬの側面３５と対向する位置に設けられ、第１開口４３３から第２空隙部４８２に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を第２開口４３４を介して回収する回収部４６０とを備えている。

本実施形態において、第１面４４１は、第１部材４３１に配置されている。第２面４４２は、第２部材４３２に配置されている。第１面４４１及び第２面４４２は、液浸部材４０４の下方に配置された物体の表面（上面）と対向可能である。本実施形態において、ＸＹ平面内における第１面４４１及び第２面４４２の外形は、円形である。また、ＸＹ平面内における第２面４４２の内側のエッジも、円形である。

本実施形態において、第１面４４１及び第２面４４２は、液体ＬＱを回収不可能である。すなわち、本実施形態においては、第１面４４１及び第２面４４２には液体回収口が設けられていない。本実施形態において、第１面４４１及び第２面４４２は、平坦である。第１面４４１と物体の表面（上面）との間の第１空間４５１は、液体ＬＱを保持可能である。なお、本実施形態においては、第１面４４１と第２面４４２は、それぞれＸＹ平面（水平面）と平行であるが、第１面４４１及び／又は第２面４４２の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよく、第１面４４１と第２面４４２とが平行でなくてもよい。また、本実施形態において、第１面４４１と第２面４４２の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３、第１面４４１、及び第２面４４２に基板Ｐの表面が対向する。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、射出面２３と基板Ｐの表面との間の空間に液体ＬＱが満たされる。また、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１面４４１と基板Ｐの表面との間の第１空間４５１に液体ＬＱが保持される。基板Ｐは、射出面２３と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬで露光される。

本実施形態において、第１面４４１と物体との間に保持された液体ＬＱによって液浸空間ＬＳの一部が形成される。本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているときに、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの気液界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１は、第１面４４１及び第２面４４２の少なくとも一方と基板Ｐの表面との間に形成することができるが、第２面４４２の内側のエッジと基板Ｐとの間に形成されることが望ましい。本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。

以下、簡単のため、射出面２３、第１面４４１、及び第２面４４２と対向する位置に基板Ｐが配置され、液浸部材４０４と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されて液浸空間ＬＳが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面２３及び液浸部材４０４と他の部材（基板ステージ２のプレート部材Ｔなど）との間に液浸空間ＬＳを形成することができる。

本実施形態において、投影光学系ＰＬの側面３５は、終端光学素子２２の側面３５Ａ、及び保持部材２１の外面３５Ｂの少なくとも一方を含む。終端光学素子２２の側面３５Ａは、射出面２３と異なる面であり、露光光ＥＬが通過しない面である。側面３５Ａは、射出面２３の周囲に配置されている。側面３５Ａは、射出面２３の周縁から光軸ＡＸに対する放射方向（光軸ＡＸに対して垂直な方向）に、かつ上方に延びるように設けられている。すなわち、側面３５Ａは、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びるように傾斜している。

保持部材２１は、終端光学素子２２を保持する。保持部材２１の外面３５Ｂは、側面３５Ａの周囲に配置されている。外面３５Ｂは、露光光ＥＬが通過しない面である。外面３５Ｂは、光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように配置されている。

本実施形態において、第２面４４２は、第１面４４１より下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、第１面４４１及び第２面４４２のそれぞれは、ＸＹ平面とほぼ平行である。第１面４４１は、図２６に示すように、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面４４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さい。

本実施形態において、第１部材４３１は、基板Ｐの表面と対向可能な第１面４４１と、第１面４４１と逆方向を向き、射出面２３の少なくとも一部と対向する第３面４４３と、第３面４４３の周囲に配置され、終端光学素子２２の側面３５Ａと対向する第４面４４４と、第４面４４４の周囲に配置され、保持部材２１の外面３５Ｂと対向する第５面４４５とを有する。なお、本実施形態においては、側面３５が露出するように、終端光学素子２２が保持部材２１に保持されているが、第５面４４５が保持部材２１に面するように、あるいは第６面４４６が終端光学素子２２に面するように、終端光学素子２２が保持部材２１に保持されてもよい。

第１部材４３１は、少なくとも一部が射出面２３と対向するように配置されたプレート部４３７と、少なくとも一部が終端光学素子２２の周囲に配置される本体部４３８とを有する。第１面４４１及び第３面４４３は、プレート部４３７に配置されている。第４面４４４及び第５面４４５は、本体部４３８に配置されている。また、プレート部４３７は、射出面２３から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口４３９を有する。基板Ｐの露光中、射出面２３から射出された露光光ＥＬは、開口４３９を介して、基板Ｐの表面に照射される。本実施形態において、開口４３９は、基板Ｐの走査方向（Ｙ軸方向）と交差するＸ軸方向に長い。

第３面４４３は、射出面２３と第３ギャップＧ３を介して対向する。第４面４４４は、側面３５Ａと第４ギャップＧ４を介して対向する。第５面４４５は、外面３５Ｂと第５ギャップＧ５を介して対向する。

本実施形態において、第３面４４３と射出面２３とは、ほぼ平行である。また、第４面４４４と側面３５Ａとは、ほぼ平行である。また、第５面４４５と外面３５Ｂとは、ほぼ平行である。なお、第３面４４３と射出面２３とは平行でなくてもよい。また、第４面４４４と側面３５Ａとは平行でなくてもよい。また、第５面４４５と外面３５Ｂとは平行でなくてもよい。

また、第１部材４３１は、第１面４４１の周囲に配置された第６面４４６を有する。第６面４４６は、本体部４３８に配置されている。本実施形態において、第４面４４４と第６面４４６とは、ほぼ平行である。なお、第４面４４４と第６面４４６とは平行でなくてもよい。

本実施形態において、第２部材４３２は、基板Ｐの表面と対向可能な第２面４４２と、第２面４４２の内側のエッジと結ばれ、露光光ＥＬの光路に面するように配置された第７面４４７と、第６面４４６と対向する第８面４４８と、第８面４４８の周囲に配置された第９面４４９とを有する。

第８面４４８は、第６面４４６と第６ギャップＧ６を介して対向する。本実施形態において、第８面４４８と第６面４４６とは、ほぼ平行である。なお、第８面４４８と第６面４４６とは平行でなくてもよい。

第１空隙部４８１は、第１部分４８１Ａと第２部分４８１Ｂとを有する。第１部分４８１Ａは、側面３５Ａと第４面４４４との間の空間を含む。第１部分４８１Ａは、光軸ＡＸに対する放射方向、かつ上方（＋Ｚ方向）に延びている。第２部分４８１Ｂは、外面３５Ｂと第５面４４５及び第９面４４９との間の空間を含む。第２部分４８１Ｂは、第１部分４８１Ａの上端と流体的に接続されている。第２部分４８１Ｂは、光軸ＡＸに対する放射方向に延びている。

なお、第１部分４８１Ａは、光軸ＡＸと平行であってもよい。また、第２部分４８１Ｂは、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。

第２空隙部４８２は、第６面４４６と第８面４４８との間の空間を含む。第２空隙部４８２は、光軸ＡＸに対する放射方向、かつ上方（＋Ｚ方向）に延びている。本実施形態においては、第８面４４８の下端部４４８Ｂは、第２空隙部４８２の下端を規定する。第８面４４８の上端部４４８Ｔは、第２空隙部４８２の上端を規定する。なお、第６面４４６と第８面４４８との間の空間は、光軸ＡＸと平行であってもよい。

第１開口４３３は、第２空隙部４８２の下端に配置されている。本実施形態において、第１開口４３３は、第１空間４５１に面している。第２開口４３４は、第２空隙部４８２の上端に配置されている。第２開口４３４は、第１空隙部４８１に面している。本実施形態において、第２開口４３４は、第２部分４８１Ｂに面している。

基板Ｐの露光の少なくとも一部において、第１開口４３３は、基板Ｐの表面と対向する。基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口４３３を介して、第２空隙部４８２に流入可能である。本実施形態においては、第１開口４３３は、第１面４４１とほぼ面一に形成されている。なお、第１開口４３３は下方（−Ｚ方向）を向いていなくてもよい。例えば、第１開口４３３を後述の第７面４４７に設けてもよい。また、第１開口４３３は、環状に設けられた一つの開口であってもよいし、所定間隔で環状に配置された複数の開口から形成されてもよい。同様に、第２空隙部４８２も、光軸ＡＸの周囲に所定間隔で環状に配置された複数の空隙部から形成されてもよい。

回収部４６０は、第１開口４３３から第２空隙部４８２に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を第２開口４３４を介して回収する。回収部４６０は、第２空隙部４８２からオーバーフローした液体ＬＱを回収する。回収部４６０の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部４４８Ｔの外側に配置されている。また、回収部４６０の少なくとも一部は、第２部分４８１Ｂにおいて外面３５Ｂと対向する。

本実施形態において、回収部４６０は、光軸ＡＸに対する放射方向において、第２空隙部４８２の外側に上方（＋Ｚ方向）を向いて設けられた凹部４６１を有する。凹部４６１は、第２部材４３２に設けられている。凹部４６１は、上方を向く開口４６１Ｋを有する。回収部４６０は、開口４６１Ｋを介して凹部４６１に流入した液体ＬＱを回収する。

凹部４６１は、光軸ＡＸに対する放射方向において、上端部４４８Ｔの外側に設けられている。本実施形態において、凹部４６１は、第９面４４９の周囲に配置されている。ＸＹ平面内において、凹部４６１は、環状である。なお、凹部４６１は、所定間隔で環状に配置された複数の凹部から形成されてもよい。また、本実施形態においては、第２部材４３２は、凹部４６１の周囲に配置された第１０面４７０を有する。第１０面４７０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。本実施形態において、第１０面４７０は、第９面４４９とほぼ同一平面内に配置されている。なお、第１０面４７０が、第９面４４９より上方に（＋Ｚ側に）配置されてもよい。

凹部４６１は、第９面４４９と結ばれた第１内面４６１１と、第１内面４６１１と対向し、第１０面４７０と結ばれた第２内面４６１２と、第１内面４６１１と第２内面４６１２との間に配置された底部４６１３とを有する。底部４６１３は、上方（＋Ｚ方向）を向いている。底部４６１３は、上端部４４８Ｔより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、底部４６１３は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、底部４６１３は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。例えば、底部４６１３は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。また、底部４６１３が、曲面を含んでいてもよい。

また、回収部４６０は、第２空隙部４８２からの液体ＬＱを凹部４６１にガイドする液体ガイド部４８０を有する。本実施形態において、液体ガイド部４８０は、第９面４４９を含む。また、本実施形態において、液体ガイド部４８０は、外面３５Ｂと第９面４４９との間の空間を含む。液体ガイド部４８０は、上端部４４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように形成されている。なお、本実施形態においては、液体ガイド部４８０は、光軸ＡＸに対して垂直（ＸＹ平面と平行）に設けられているが、光軸ＡＸに対して垂直でなくてもよい。例えば、第９面４４９を上端部４４８Ｔから下方に向かって傾斜させてもよい。

凹部４６１は、上端部４４８Ｔから光軸ＡＸに対する放射方向において、液体ガイド部４８０の外側に設けられている。第２空隙部４８２の上端からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部４８０にガイドされて、凹部４６１に流入する。

凹部４６１は、第２空隙部４８２からの液体ＬＱを貯めることができる。凹部４６１は、流入した液体ＬＱを貯めることによって、第２空隙部４８２からの液体ＬＱが第２空隙部４８２に戻ることを抑制する。すなわち、凹部４６１は、第２空隙部４８２に戻らないように第２空隙部４８２からの液体ＬＱを貯めるリザーブ部の少なくとも一部として機能する。

また、回収部４６０は、凹部４６１に流入した液体ＬＱを回収する回収口４６２を有する。回収口４６２は、凹部４６１に貯めた液体ＬＱを回収する。

本実施形態において、回収口４６２は、凹部４６１の内側に配置されている。換言すれば、回収口４６２は、凹部４６１の開口４６１Ｋより下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態において、回収口４６２は、凹部４６１の底部４６１３に配置されている。すなわち、凹部４６１の底部４６１３は、回収口４６２の少なくとも一部を含む。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、回収口４６２は、環状である。なお、回収口４６２が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

回収口４６２には、多孔部材４６４が配置されている。多孔部材４６４は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材４６４が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。

第１空隙部４８１は、雰囲気に開放されている。上述のように、第２部分４８１Ｂは、外面４３５Ｂと第５面４４５及び第９面４４９との間の空間を含む。また、本実施形態においては、第２部分４８１Ｂは、外面３５Ｂと凹部４６１との間の空間、及び外面３５Ｂと第１０面４７０との間の空間を含む。外面３５Ｂと第１０面４７０との間の空間は、第３開口４７２を介して、雰囲気に開放されている。

第２空隙部４８２は、第２開口４３４を介して、雰囲気に開放されている。第２開口４３４は、第１空隙部４８１（第２部分４８１Ｂ）に面している。本実施形態において、第２空隙部４８２は、第２開口４３４、第２部分４８１Ｂ、及び第３開口４７２を介して、雰囲気に開放されている。すなわち、第２空隙部４８２は、第１開口４３３と異なる第２開口４３４を介して液浸部材４０４の周囲の空間に開放されている。換言すれば、第２空隙部４８２は、第２開口４３４を介して液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面が接する気体空間に開放されている。同様に、第１空隙部４８１は、液浸部材４０４の周囲の気体空間（内部空間８）に開放されている。

本実施形態において、「雰囲気」は、液浸部材４０４を取り囲む気体である。本実施形態において、液浸部材４０４を取り囲む気体は、チャンバ装置５によって形成される内部空間８の気体である。本実施形態において、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をクリーンな空気で満たす。また、チャンバ装置５は、環境制御装置５Ｂを用いて、内部空間８をほぼ大気圧に調整する。もちろん、内部空間８を大気圧よりも高く設定してもよい。

本実施形態において、液浸部材４０４は、第２空隙部４８２に流入した液体ＬＱの少なくとも一部の、第２部分４８１Ｂから第１部分４８１Ａへの流入を防止する防止装置４９０を備えている。

本実施形態において、防止装置４９０は第５面４４５に形成された壁部（突出部）４９２を含む。壁部４９０は、外面３５Ｂと対向する対向面（上面）４９１を有する。本実施形態において、対向面４９１と外面３５Ｂとはほぼ平行である。対向面４９１は、外面３５Ｂと第７ギャップＧ７を介して対向する。対向面４９１と外面３５Ｂとの第７ギャップＧ７は、壁部４９２の第２部分４８１Ｂ側に形成されている、第５面４４５と外面３５Ｂとの第５ギャップＧ５より小さい。また、第７ギャップＧ７は、壁部４９２の第２部分４８１Ｂ側に形成されている、第９面４４９と外面３５Ｂとのギャップより小さい。

本実施形態において、第２面４４２は、液体ＬＱに対して撥液性である。第２面４４２において、液体ＬＱの接触角は９０°以上であり、１００°以上であってもよい。本実施形態においては、第２面４４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜４７３Ａで形成されている。膜４７３Ａは、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等が挙げられる。

また、本実施形態においては、第７面４４７も、液体ＬＱに対して撥液性である。第７面４４７は、膜４７３Ａで形成されている。なお、第２面４４２及び第７面４４７の少なくとも一方は、撥液性の膜の表面でなくてもよい。例えば、第２部材４３２を撥液性の材料で形成してもよい。

また、本実施形態においては、壁部４９２の対向面４９１は、液体ＬＱに対して撥液性である。対向面４９１において、液体ＬＱの接触角は９０°以上であり、１００°以上であってもよい。本実施形態においては、対向面４９１は、液体ＬＱに対して撥液性の膜４７３Ｂで形成されている。膜４７３Ｂは、膜４７３Ａと同じ材料でもよいし、異なる材料でもよい。また、対向面４９１が、撥液性の膜の表面でなくてもよい。例えば、壁部４９２を撥液性の材料で形成してもよい。

また、対向面９１に対向する外面３５Ｂが液体ＬＱに対して撥液性でもよい。また、対向面９１と外面３５Ｂとの両方が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。

また、本実施形態において、液浸部材４０４は、第１開口４３３の周囲の少なくとも一部に配置された給気口４７４を備えている。本実施形態において、給気口４７４は、第２面４４２に配置されている。給気口４７４は、第２面４４２と対向する物体（基板Ｐ）の表面に向けて気体を供給する。

本実施形態においては、ＸＹ平面内において、給気口４７４は、環状である。なお、給気口４７４が、光軸ＡＸの周囲の複数の位置に分割して配置されてもよい。

また、本実施形態において、液浸部材４０４は、露光光ＥＬの光路に液体ＬＱを供給する供給口４７５を備えている。供給口４７５は、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面と対向する位置に配置されている。本実施形態において、供給口４７５は、終端光学素子２２の側面３５Ａと対向する位置に配置されている。すなわち、供給口４７５は、第１空隙部４８１の第１部分４８１Ａに面するように配置されている。なお、供給口４７５は、終端光学素子２２の側面３５Ａに対向していなくてもよい。例えば、第３面４４３と射出面２３との間の空間に面するように第１部材４３１に供給口４７５が配置されてもよい。

なお、本実施形態においては、供給口４７５は、光軸ＡＸに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、供給口４７５が、光軸ＡＸに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、供給口４７５の数は、３つ以上でもよい。

本実施形態において、供給口４７５は、第１部分４８１Ａに液体ＬＱを供給する。第１部分４８１Ａに供給された液体ＬＱは、第１部分４８１Ａを下方に流れた後、射出面２３と第３面４４３との間の空間を介して、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。また、その供給口４７５から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４３９を介して、第１面４４１と基板Ｐの表面との間の第１空間４５１に供給される。

供給口４７５は、供給流路を介して、液体供給装置（不図示）と接続されている。供給流路の少なくとも一部は、液浸部材４０４の内部に形成されている。液体供給装置は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給口４７５に供給することができる。

回収口４６２は、回収流路を介して、液体回収装置４７７と接続されている。回収流路の少なくとも一部は、液浸部材４０４（第２部材３２）の内部に形成されている。液体回収装置４７７は、真空システム（真空源と回収口４６２との接続状態を制御するバルブなど）を含み、回収口４６２から液体ＬＱを吸引して回収することができる。

給気口４７４は、給気流路を介して、気体供給装置４７８と接続されている。給気流路の少なくとも一部は、液浸部材４０４（第２部材３２）の内部に形成されている。気体供給装置４７８は、クリーンで温度、及び湿度が調整された気体を給気口４７４に供給することができる。なお、給気口４７４から供給される気体の湿度は、環境制御装置５Ｂにより内部空間８に供給される気体の湿度と同程度、もしくは高い方がよい。

制御装置７は、液体回収装置４７７を制御して、多孔部材４６４の上面側空間（第１空隙部４８１）から下面側空間（回収流路）へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材４６４の下面側と上面側との圧力差を制御することができる。本実施形態において、上面側空間の圧力は、雰囲気に開放され、チャンバ装置５によって制御されている。制御装置７は、多孔部材４６４の上面側から下面側へ液体ＬＱのみが通過するように、液体回収装置４７７を制御して、上面側の圧力に応じて、下面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置７は、多孔部材４６４の孔を介して、液体ＬＱのみを回収し、気体は多孔部材４６４の孔を通過しないように調整する。多孔部材４６４の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材４６４の一側から他側へ液体ＬＱのみを通過させる技術は、例えば米国特許第７２９２３１３号明細書などに開示されている。

次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

まず、制御装置７は、射出面２３及び第１面４４１と基板Ｐの表面（あるいは基板ステージ２の上面４２６）とが対向するように、基板Ｐを保持した基板ステージ２を移動する。第１面４４１と基板Ｐの表面とは、第１ギャップＧ１を介して対向し、第２面４４２と基板Ｐの表面とは第２ギャップＧ２を介して対向する。

制御装置７は、第１面４４１及び第２面４４２と基板Ｐの表面とを対向させた状態で、液体供給装置から液体ＬＱを送出する。また、制御装置７は、液体回収装置４７７を作動する。また、制御装置７は、気体供給装置４７８を作動する。

液体供給装置から送出された液体ＬＱは、供給口４７５より、第１部分４８１Ａに供給される。第１部分４８１Ａに供給された液体ＬＱは、第１部分４８１Ａを下方に流れた後、射出面２３から射出される露光光ＥＬの光路に供給される。これにより、露光光ＥＬの光路は、液体ＬＱで満たされる。

また、供給口４７５から第１部分４８１Ａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４３９を介して、第１空間４５１に供給され、第１面４４１と基板Ｐの表面との間で保持される。本実施形態においては、基板Ｐの表面、第１面４４１、及び第７面４４７で囲まれた空間がほぼ液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。また液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ）の界面ＬＧ１は、第２面４４２の内側のエッジ（第７面４４７の下端）と基板Ｐの表面との間に形成されている。

開口４３９から第１空間４５１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口４３３を介して第２空隙部４８２に流入する。

本実施形態においては、開口４３９を介して第１空間４５１に供給された液体ＬＱが、第２面４４２と基板Ｐの表面との間の第２空間４５２に流入することが抑制されている。すなわち、本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ１が第７面４４７より外側へ移動することが抑制されており、液浸空間ＬＳの拡大が抑制されている。

本実施形態において、第１面４４１は、基板Ｐの表面と第１ギャップＧ１を介して対向し、第１面４４１の周囲に配置された第２面４４２は、基板Ｐの表面と第２ギャップＧ２を介して対向する。第２ギャップＧ２は、第１ギャップＧ１より小さく、例えば０．１〜０．３ｍｍ程度である。したがって、光軸ＡＸに対する放射方向において、界面ＬＧ１が第１開口３３の外側へ移動することが抑制される。すなわち、第２ギャップＧ２が微小なので、図２６に示すように、液体ＬＱの表面張力により、界面ＬＧ１の位置は、第２面４４２の内側のエッジと基板Ｐの表面との間に維持される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが、第２空間４５２に流入することが抑制される。

また、本実施形態においては、第２面４４２が液体ＬＱに対して撥液性なので、より効果的に、液体ＬＱが第２空間４５２に流入することが抑制される。また、本実施形態においては、第２面４４２の内側のエッジから上方に延びるように、かつ光路に面するように配置された第７面４４７が設けられているので、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。また、第７面４４７は、液体ＬＱに対して撥液性なので、これによっても、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。

また、本実施形態においては、給気口４７４が設けられており、光軸ＡＸに対して第２面４４２の内側エッジの外側で、基板Ｐの表面に向けて気体を供給する。これにより、給気口４７４から供給された気体の力によって、液浸空間ＬＳの拡大が抑制される。すなわち、給気口４７４は、基板Ｐの表面と第２面４４２との間にガスシールを形成する。これにより、液体ＬＱが流出することが抑制され、界面ＬＧ１の移動が拘束される。

また、本実施形態においては、第１面４４１の外形及び第２面４４２の内側のエッジが円形であり、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの外形もほぼ円形である。これにより、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１の全方位から中心に向かう拘束力がほぼ均等に作用する。これにより、液浸空間ＬＳの拡大が効果的に抑制される。

液浸空間ＬＳの拡大が抑制された状態で、供給口４７５から液体ＬＱが供給されることによって、雰囲気に開放された第２空隙部４８２に液体ＬＱが流入し、第２空隙部４８２における液体ＬＱの表面の位置が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。本実施形態においては、第２開口４３４は、雰囲気に開放されているので、第１空間４５１の液体ＬＱは、第１開口４３３を介して第２空隙部４８２に円滑に流入する。

第２空隙部４８２が液体ＬＱで満たされると、その第２空隙部４８２の液体ＬＱの少なくとも一部が、第２空隙部４８２の上端（上端部４４８Ｔ）からオーバーフローする。第２空隙部４８２からオーバーフローした液体ＬＱは、第２空隙部４８２の上端の外側に配置されている回収部４６０で回収される。すなわち、第２空隙部４８２からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部４８０にガイドされた後、凹部４６１に流入する。凹部４６１に流入した液体ＬＱは、回収口４６２（多孔部材４６４）より回収される。

本実施形態においては、多孔部材４６４の上面側から下面側へ液体ＬＱのみが通過するように、多孔部材４６４の上面側と下面側との圧力差が制御されているので、回収部４６０は、振動の発生、気化熱の発生を抑制しつつ、液体ＬＱを回収することができる。

本実施形態において、回収部４６０は、第１開口４３３及び第２空隙部４８２を介して回収された基板Ｐ上の液体ＬＱを凹部４６１に貯めるので、その第２空隙部４８２を介して回収された液体ＬＱが第２空隙部４８２に戻ることを抑制することができる。第２空隙部４８２を介して回収された液体ＬＱが第２空隙部４８２に戻らないように、第２空隙部４８２からの液体ＬＱを凹部４６１に貯めることによって、例えば多孔部材４６４に接触した液体ＬＱが、第２空隙部４８２を介して第１空間４５１及び露光光ＥＬの光路に戻ることが抑制される。

また、本実施形態においては、壁部４９２を有する防止装置４９０によって、第２部分４８１Ｂの液体ＬＱが第１部分４８１Ａに流入することが防止されている。したがって、例えば多孔部材４６４に接触した液体ＬＱが、第１空隙部４８１（第１部分４８１Ａ）を介して第１空間４５１及び露光光ＥＬの光路に戻ることが抑制される。
また、壁部４９２によって、第１部分４８１Ａから第２部分４８１Ｂへの液体ＬＱの流出も抑制されているが、第１部分４８１Ａから第２部分４８１Ｂに液体ＬＱが流出したとしても、その第１部分４８１Ａから第７ギャップＧ７を介して流出した液体ＬＱを回収部４６０で回収することができる。

次に、基板Ｐを露光する方法について説明する。上述のように、制御装置７は、供給口４７５より液体ＬＱを供給して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように、第１面４４１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持して、液浸空間ＬＳを形成する。また、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１開口４３３を介して第２空隙部４８２に流入する。回収部４６０は、第２空隙部４８２からの液体ＬＱを回収部４６０で回収する。制御装置７は、供給口４７５を用いる液体供給動作と並行して、回収部４６０を用いる液体回収動作を実行して、露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。また、制御装置７は、給気口４７４より気体を供給して、ガスシールを形成する。

制御装置７は、第２空隙部４８２から回収部４６０に回収された液体ＬＱが第２空隙部４８２及び第１空隙部４８１を介して第１空間４５１（露光光ＥＬの光路）に戻ることを抑制しつつ、かつ、第２ギャップＧ２等を用いて液浸空間ＬＳの拡大を拘束しつつ、基板Ｐの露光を開始する。

制御装置７は、照明系ＩＬより露光光ＥＬを射出して、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬの射出面２３から射出される。制御装置７は、射出面２３と基板Ｐとの間の液体ＬＱを介して、射出面２３からの露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐが露光光ＥＬで露光される。基板Ｐの露光中にも、供給口４７５から供給された液体ＬＱが第１開口４３３から流入し、第２空隙部４８２を介して回収部４６０に回収される。

以上説明したように、本実施形態によれば、雰囲気に開放された第１空隙部４８１及び第２空隙部４８２を設け、第２空隙部４８２に流入した液体ＬＱを回収部４６０で回収するようにしたので、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４０４の下面の構造をシンプルにすることができる。したがって、液体ＬＱと接触する液浸部材４０４の下面に異物が付着したり、下面が汚染されたりすることが抑制される。

例えば、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４０４の下面に液体ＬＱを回収する回収口を設けたり、その回収口に多孔部材を設けたりして、構造（形状）が複雑になると、その下面に異物が付着し易くなる可能性がある。例えば、基板Ｐの表面と対向する位置に多孔部材が配置されている場合、基板Ｐから発生した異物（例えば基板Ｐの表面を形成する感光膜、あるいはトップコート膜等の一部）が、多孔部材に付着する可能性がある。その付着した異物が、基板Ｐの露光中に、露光光ＥＬの光路に放出されたり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に混入したりすると、基板Ｐにパターン欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。また、下面の構造（形状）が複雑な場合、例えば凹凸部が多数存在する場合においても、基板Ｐから発生した異物が下面に付着し易くなる可能性がある。

本実施形態によれば、雰囲気に開放された第２空隙部４８２を設け、第１開口４３３を介して第２空隙部４８２に流入した液体ＬＱを、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置された回収部４６０で回収しており、基板Ｐの表面と対向する液浸部材４０４の下面は、シンプルな構造である。したがって、液浸部材４０４の下面に異物が付着することが抑制される。また、液浸部材４０４の下面の構造がシンプルなので、仮に液浸部材４０４の下面に異物が付着した場合でも、液浸部材４０４の下面を円滑且つ良好にクリーニングすることができる。

また、本実施形態においては、回収部４６０は、第２空隙部４８２から回収した液体ＬＱが、第２空隙部４８２に戻らないように構成されている。すなわち、第２空隙部４８２からの液体ＬＱを凹部４６１に貯めている。したがって、例えば回収部４６０の多孔部材４６４が汚染された場合でも、その多孔部材４６４に接触した液体ＬＱ（汚染されている可能性がある液体ＬＱ）が、第２空隙部４８２を介して第１空間４５１及び露光光ＥＬの光路に戻る（逆流する）ことを抑制することができる。したがって、露光不良の発生を抑制できる。

また、本実施形態においては、防止装置４９０によって、第２空隙部４８２から回収され、第２部分４８１Ｂに存在する液体ＬＱが、第１部分４８１Ａに戻らないように構成されている。したがって、例えば回収部４６０の多孔部材４６４が汚染された場合でも、その多孔部材４６４に接触した液体ＬＱ（汚染されている可能性がある液体ＬＱ）が、第１部分４８１Ａを介して第１空間４５１及び露光光ＥＬの光路に戻る（逆流する）ことを抑制することができる。したがって、露光不良の発生を抑制できる。

＜第１５実施形態＞
次に、第１５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図２７は、第１５実施形態に係る液浸部材４０４Ｂの一例を示す図である。図２７において、液浸部材４０４Ｂは、第１面４４１を有する第１部材４３１Ｂと、第２面４４２を有する第２部材４３２Ｂとを含む。

本実施形態に係る液浸部材４０４Ｂは、上述の第１４実施形態に係る液浸部材４０４の変形例である。したがって、第１４実施形態で説明した説明は省略する。図２７に示すように、第１５実施形態は、第２開口４３４が、側面３５Ａに面するように配置される点、及び液体ＬＱを供給する供給口４７５Ｂが射出面２３と第３面４４３との間の第３空間４５３に面している点で、第１４実施形態と異なる。

本実施形態においても、第２空隙部４８２（上端部１１４８Ｔ）からオーバーフローした液体ＬＱは、液体ガイド部４８０を介して回収部４６０に回収される。本実施形態においても、液浸空間ＬＳを良好に形成することができる。

なお、上述の各実施形態においては、回収部４６０の回収口４６２に多孔部材４６４を配置して、多孔部材４６４の一側から他側へ液体ＬＱのみが通過するようにしているが、回収口４６２が、液体ＬＱを、気体とともに回収してもよい。また、回収口４６２に、多孔部材４６４を配置しなくてもよい。

なお、上述の各実施形態において、給気口４７４を省略してもよい。

また、上述の各実施形態において、例えば、給気口４７４からの気体で液体ＬＱの界面ＬＧを移動を抑制できる場合には、第２面４４２を第１面４４１よりも下方に配置しなくてもよい。

また、上述の各実施形態において、第１面４４１を有する第１部材４３１と第２面４４２を有する第２部材４３２とが、光軸ＡＸと平行な方向に、及び／又は光軸ＡＸと垂直な方向に、相対移動可能であってもよい。すなわち、第１部材４３１と第２部材４３２の少なくとも一方が可動に支持されてもよい。例えば、アクチュエータの駆動力で、第２部材４３２の位置を動かしてもよい。第２部材の位置をＺ方向に動かして、第２ギャップＧ２を調整することができる。

また、上述の各実施形態において、第１面４４１，第２面４４２、第２空隙部４８２などを一つの部材に形成してもよい。

なお、上述の各実施形態において、防止装置４９０が、ガスシール機構を有してもよい。例えば、第５面４４５に設けられた給気口から外面３５Ｂに向けて気体が供給され、第５面４４５と外面３５Ｂとの間にガスシールが形成されることによって、第２部分４８１Ｂから第１部分４８１Ａへの液体ＬＱの流入を防止することができる。なお、防止装置４９０の給気口は、対向面４９１に設けてもよいし、外面３５Ｂに設けてもよい。また、防止装置４９０として、第２部分４８１Ｂから第１部分４８１Ａへの液体ＬＱの流入を防止するように、第２開口４３４が面する第２部分４８１Ｂに液体ＬＱを供給する液体供給口を設けてもよい。一方、防止装置４９０（壁部４９２など）を設けなくてもよい。この場合、第５面４４５を第９面４４９より上方（＋Ｚ側）に設けることが望ましいが、第５面４４５と第９面４４９とがほぼ同じ高さ（ほぼ面一）であってもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１面４４１が、射出面２３と基板Ｐとの間に配置されていなくてもよい。この場合、第１面４４１が射出面２３と面一、あるいは射出面２３より上方に配置されてもよい。

また、上述の各実施形態において、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面は、射出面２３の周縁から上方（＋Ｚ方向）に延びる面（側面３５）を有していなくてもよい。例えば、終端光学素子２２の露光光ＥＬが通過しない面が、射出面２３とほぼ平行（光軸ＡＸと垂直な方向に）延びていてもよい。すなわち、投影光学系ＰＬの側面３５が射出面とほぼ同一面内に延びていてもよい。

また、露光光ＥＬが通過しない投影光学系ＰＬの側面３５が、射出面２３の周囲の少なくとも一部において、射出面２３と略同一面内（面一）に配置されてもよい。すなわち、側面３５が、射出面２３の周縁から上方に延びずに、光軸ＡＸに対する放射方向に延びるように配置されてもよい。また、側面３５が、光軸ＡＸとほぼ平行であってもよい。すなわち、側面３５が、光軸ＡＸに対する放射方向に延びずに、射出面２３の周縁から上方に延びるように配置されもよい。

なお、上述の各実施形態において、第１部分４８１Ａを規定する側面３５Ａが、保持部材２１の一部でもよい。また、第２部分４８１Ｂを規定する外面３５Ｂが、終端光学素子２２の一部でもよい。

また、上述の各実施形態において、第２面４４２に吸引口を設けてもよい。例えば、基板Ｐの露光中にその吸引口を使わずに、第１面４４１の下側の空間から液体ＬＱのほぼすべて回収する場合にだけ、その吸引口を用いるようにしてもよい。

また、上述の各実施形態において、第１面４４１が面する第１空間４５１に液体ＬＱを供給する供給口を設けてもよい。この場合、第１面４４１に液体ＬＱを供給する供給口を設けてもよい。

なお、上述の各実施形態において、液浸部材（４、３０４、４０４など）に、例えば米国特許出願公開第２００８／０１０６７０７号明細書に開示されているような、温度調整機構を設けることができる。例えば、液浸部材の内部に形成された流路に、温度調整用の液体を流すことによって、その液浸部材の温度を調整することができる。

なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子２２の射出側（像面側）の光路が液体ＬＱで満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子２２の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系を採用することもできる。

なお、上述の各実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。

なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

また、例えば対応米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。

また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。

更に、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。

露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第７０２３６１０号明細書に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。

なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。

上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。

また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。

以上のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２８に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

２…基板ステージ、４…液浸部材、７…制御装置、２２…終端光学素子、２３…射出面、３３…第１開口、３４…第２開口、３５…側面、３６…外面、４１…第１面、４２…第２面、４８Ｔ…上端部、６０…第１回収部、６１…第１凹部、６２…回収口、６４…多孔部材、７４…給気口、７５…供給口、８０…空隙部、８１…液体ガイド部、８５…第２回収部、９０…第２凹部、９１…給気口、９２…吸引口、ＡＸ…光軸、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＰＬ…投影光学系２３３…第１開口、２３４…第２開口、２４１…第１面、２４２…第２面、２４８Ｔ…上端部、２６０…回収部、２６１…第２凹部、２６２…回収口、２６４…多孔部材、２７４…第２給気口、２７５…供給口、２８０…空隙部、２８１…液体ガイド部、２８７…回収口、２９０…第１凹部、２９１…第１給気口３３４…第２開口、３３９…第１開口、３４１…第１面、３４２…第２面、３４３…第３面、３４５Ｔ…上端部、３６０…回収部、３６１…凹部、３６２…回収口、３６４…多孔部材、３７４…給気口、３７５…供給口、３８０…空隙部、３８１…第１空隙部、３８２…第２空隙部、３８３…液体ガイド部、４３３…第１開口、４３４…第２開口、４４１…第１面、４４２…第２面、４４８Ｔ…上端部、４６０…回収部、４６１…凹部、４６２…回収口、４６４…多孔部材、４７４…給気口、４７５…供給口、４８０…液体ガイド部、４８１…第１空隙部、４８１Ａ…第１部分、４８１Ｂ…第２部分、４９０…防止装置、４９１…対向面、４９２…壁部

本発明は、露光装置、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、２００８年１２月２９日に出願された米国特許仮出願６１／１９３，８３３号、６１／１９３，８３４号、６１／１９３，８３５号、６１／１９３，８３６号、及び２００９年１２月２２日に出願された米国出願に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。

Claims (124)

1. 基板を露光する露光装置において、
   露光光を射出する射出面を有する光学系と、
   前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
   前記第１面の周囲の少なくとも一部に、かつ前記第１面より下方に配置された第２面と、
   前記第１面と前記第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、
   前記空隙部に流入した前記液体の少なくとも一部を回収する第１回収部と、を備え、
   前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面に前記基板の表面が対向し、
   前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
2. 前記第１回収部は、前記空隙部からオーバーフローした液体を回収する請求項１記載の露光装置。
3. 前記第１回収部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記空隙部の外側に上方を向いて設けられた第１凹部を有し、前記第１凹部に流入した前記液体を回収する請求項１又は２記載の露光装置。
4. 前記空隙部の上端を規定する上端部をさらに備え、
   前記第１回収部の少なくとも一部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に設けられている請求項１又は２記載の露光装置。
5. 基板を露光する露光装置において、
   露光光を射出する射出面を有する光学系と、
   前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
   前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、
   前記第１面と前記第２面との間の第１開口を介して液体が流入可能であり、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、
   前記空隙部の上端を規定する上端部と、
   前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に少なくとも一部が設けられ、前記空隙部に流入した前記液体の少なくとも一部を回収する第１回収部と、を備え、
   前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面、前記第１面、及び前記第２面に前記基板の表面が対向し、
   前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
6. 前記第１回収部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に前記上端部より下方に底部が形成された第１凹部を有し、前記第１凹部に流入した液体を回収する請求項４又は５記載の露光装置。
7. 前記第１回収部は、前記上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる液体ガイド部を有し、
   前記第１凹部は、前記上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記液体ガイド部の外側に設けられている請求項６記載の露光装置。
8. 前記第１回収部は、前記第１凹部に流入した液体を回収する回収口を有する請求項３、６、及び７のいずれか一項記載の露光装置。
9. 前記回収口は、前記第１凹部の底部と対向する請求項８記載の露光装置。
10. 前記回収口は、前記第１凹部の内側に配置される請求項８記載の露光装置。
11. 前記回収口は、前記第１凹部の底部に配置されている請求項９又は１０記載の露光装置。
12. 前記回収口に配置された多孔部材を有する請求項８〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
13. 前記多孔部材の一側から他側へ液体のみが通過するように、前記多孔部材の一側と他側との間の圧力差を制御する請求項１２記載の露光装置。
14. 前記回収口は、前記第１凹部に流入した液体を気体とともに回収する請求項８〜１３のいずれか一項記載の露光装置。
15. 前記第１面を有する部材と、前記第１凹部を有する部材とは、相対移動可能である請求項８〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
16. 前記第１面及び前記第２面は、液体を回収不可能である請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置。
17. 前記第２面は、前記液体に対して撥液性である請求項１〜１６のいずれか一項記載の露光装置。
18. 前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１開口は前記基板の表面と対向する請求項１〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
19. 前記第１開口の周囲の少なくとも一部に配置された給気口をさらに備える請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
20. 前記給気口は、前記第２面に配置されている請求項１９記載の露光装置。
21. 前記第１開口と前記第２面との間に配置された第２凹部をさらに備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第２凹部は前記基板の表面と対向し、
    前記給気口は、前記第２凹部を規定する内面に配置され、前記気体を供給して、前記第２凹部の圧力を高める請求項１９記載の露光装置。
22. 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記給気口の外側に配置され、前記液体及び気体の少なくとも一方を吸引可能な吸引口をさらに備える請求項１９〜２１のいずれか一項記載の露光装置。
23. 前記光路に前記液体を供給する供給口をさらに備える請求項１〜２２のいずれか一項記載の露光装置。
24. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材を含み、
    前記供給口は、前記光学部材の前記露光光が通過しない面と対向する位置に配置される請求項２３記載の露光装置。
25. 前記光学部材の前記露光光が通過しない面は、前記射出面の周縁から上方に延びる前記光学部材の側面を含む請求項２４記載の露光装置。
26. 前記供給口は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第１開口の外側で、前記第１面が面する第１空間に面する位置に配置される請求項２３〜２５のいずれか一項記載の露光装置。
27. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材を含み、
    前記射出面の周縁から上方に延びる前記光学部材の側面が面する空間からオーバーフローした液体を回収する第２回収部を備える請求項１〜２６のいずれか一項記載の露光装置。
28. 基板を露光する露光装置において、
    露光光を射出する射出面を有する光学系と、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１開口を介して液体が流入可能であり、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、
    前記空隙部からの液体を回収する第１回収部と、を備え、
    前記第１回収部は、前記空隙部に戻らないように前記空隙部からの液体を貯めるリザーブ部を有し、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板上の液体の少なくとも一部を前記第１開口から前記空隙部を介して前記リザーブ部に貯め、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
29. 前記第１回収部は、前記リザーブ部に貯めた液体を回収する回収口を有する請求項２８記載の露光装置。
30. 前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１開口は前記基板の表面と対向する請求項２８又は２９記載の露光装置。
31. 請求項１〜３０のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
32. 光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、前記第１面と前記基板との間で液体を保持することと、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面を、前記第１ギャップより小さい第２ギャップを介して前記基板と対向させることと、
    前記第１面と前記第２面との間の第１開口から、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収することと、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含む露光方法。
33. 光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とを第１ギャップを介して対向させて、前記第１面と前記基板との間で液体を保持することと、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と前記基板と対向させることと、
    前記第１面と前記第２面との間の第１開口から、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記空隙部の上端の外側で回収することと、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含む露光方法。
34. 光学系の射出面と基板との間の露光光の光路を液体で満たすことと、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板上の液体の少なくとも一部を、前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１開口から、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部を介して回収することと、を含み、
    前記回収は、前記回収された液体が前記空隙部に戻らないように、前記空隙部からの液体をリザーブ部に貯めることを含む露光方法。
35. 請求項３２〜３４のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
36. 基板を露光する露光装置において、
    露光光を射出する射出面を有する光学系と、
    前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第１凹部と、
    前記第１凹部を規定する内面に配置され、気体を供給する第１給気口と、を備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板の表面が、前記射出面、前記第１面、及び前記第１凹部に対向し、
    前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
37. 前記第１凹部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１面と同じ方向を向く第２面をさらに備え、前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板の表面が前記第２面と対向する請求項３６記載の露光装置。
38. 前記第２面は、前記第１面より下方に配置されている請求項３７記載の露光装置。
39. 前記第２面に配置された第２給気口を備える請求項３８記載の露光装置。
40. 前記第２面は、液体を回収不可能である請求項３７〜３９のいずれか一項記載の露光装置。
41. 前記第２面は、前記液体に対して撥液性である請求項３７〜４０のいずれか一項記載の露光装置。
42. 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第１面と前記第１凹部との間に配置され、前記液体を回収する第１回収口を有する請求項３６〜４１のいずれか一項記載の露光装置。
43. 前記第１回収口を真空源に接続することによって、前記第１回収口から前記液体が回収される請求項４２記載の露光装置。
44. 前記第１面と前記第１凹部との間の第１開口から液体が流入可能であり、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された空隙部と、
    前記空隙部に流入した前記液体の少なくとも一部を回収する回収部とを備える請求項３６〜４３のいずれか一項記載の露光装置。
45. 前記回収部は、前記空隙部からオーバーフローした液体を回収する請求項４４記載の露光装置。
46. 前記空隙部の上端を規定する上端部をさらに備え、
    前記回収部の少なくとも一部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に設けられている請求項４４又は４５記載の露光装置。
47. 前記回収部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記空隙部の外側に上方を向いて設けられた第２凹部を有し、前記第２凹部に流入した前記液体を回収する請求項４４〜４６のいずれか一項記載の露光装置。
48. 前記回収部は、前記空隙部の上端を規定する上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる液体ガイド部を有し、
    前記第２凹部は、前記上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記液体ガイド部の外側に設けられている請求項４７記載の露光装置。
49. 前記回収部は、前記第２凹部に流入した液体を回収する第２回収口を有する請求項４７又は４８記載の露光装置。
50. 前記第２回収口は、前記第２凹部の底部と対向する請求項４９記載の露光装置。
51. 前記第２回収口は、前記第２凹部の内側に配置される請求項４９記載の露光装置。
52. 前記第２回収口は、前記第２凹部の底部に配置されている請求項５１記載の露光装置。
53. 前記第２回収口に配置された多孔部材を有する請求項４９〜５２のいずれか一項記載の露光装置。
54. 前記多孔部材の一側から他側へ液体のみが通過するように、前記多孔部材の一側と他側との間の圧力差を制御する請求項５３記載の露光装置。
55. 前記第２回収口は、前記第２凹部に流入した液体を気体とともに回収する請求項４９〜５３のいずれか一項記載の露光装置。
56. 前記光路に前記液体を供給する供給口をさらに備える請求項３６〜５５のいずれか一項記載の露光装置。
57. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材を含み、
    前記供給口は、前記光学部材の前記露光光が通過しない面と対向する位置に配置される請求項５６記載の露光装置。
58. 前記光学部材の前記露光光が通過しない面は、前記射出面の周縁から上方に、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学部材の側面を含む請求項５７記載の露光装置。
59. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材とを含み、
    前記側面は、前記光学部材の表面及び前記保持部材の表面の少なくとも一方を含む請求項５８記載の露光装置。
60. 前記供給口は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第１面の外側で、前記第１面が面する第１空間に面する位置に配置される請求項５６〜５９のいずれか一項記載の露光装置。
61. 請求項３６〜６０のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
62. 光学系の射出面、及び前記光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように基板を移動することと、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第１凹部を規定する内面に配置された第１給気口から気体を供給して、前記第１凹部の圧力を高めることと、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含む露光方法。
63. 請求項６２記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
64. 基板を露光する露光装置において、
    露光光を射出する射出面を有する光学系と、
    前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
    前記第１面が面する空間に面するように前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光路を液体で満たすために前記空間に液体を供給する供給口と、
    前記供給口から供給され、前記射出面の周縁から上方に、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の側面が面する空隙部に第１開口を介して流入した前記液体の少なくとも一部を回収する回収部と、を備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面の下方に配置された前記基板の表面が、前記射出面及び前記第１面に対向し、
    前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
65. 前記第１開口は、前記露光光が通過する開口を含み、
    前記供給口から供給された液体の少なくとも一部は、前記第１開口を介して前記空隙部に流入する請求項６４記載の露光装置。
66. 前記供給口は、前記第１面と同一平面内に配置されている請求項６４又は６５記載の露光装置。
67. 前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置され、かつ前記第１面よりも下方に配置された第２面をさらに備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記射出面の下方に配置された前記基板の表面が前記第２面に対向する請求項６４〜６６のいずれか一項記載の露光装置。
68. 前記供給口は、前記第１面よりも下方に配置されている請求項６７記載の露光装置。
69. 前記供給口は、前記第１面と前記第２面との間に配置される請求項６７又は６８記載の露光装置。
70. 前記第１面と前記第２面との間に設けられ、前記空間に面する第３面をさらに備え、
    前記供給口は、前記第３面に配置されている請求項６９記載の露光装置。
71. 前記第３面は、前記光学系の光軸とほぼ平行である請求項７０記載の露光装置。
72. 前記第２面は、前記液体に対して撥液性である請求項６７〜７１のいずれか一項記載の露光装置。
73. 前記空隙部は、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている請求項６４〜７２のいずれか一項記載の露光装置。
74. 前記回収部は、前記空隙部からオーバーフローした液体を回収する請求項６４〜７３のいずれか一項記載の露光装置。
75. 前記空隙部の上端を規定する上端部をさらに備え、
    前記回収部の少なくとも一部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に設けられている請求項６４〜７４のいずれか一項記載の露光装置。
76. 前記回収部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記空隙部の外側に上方を向いて設けられた凹部を有し、前記凹部に流入した前記液体を回収する請求項６４〜７４のいずれか一項記載の露光装置。
77. 前記回収部は、前記空隙部の上端を規定する上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる液体ガイド部を有し、
    前記凹部は、前記上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記液体ガイド部の外側に設けられている請求項７６記載の露光装置。
78. 前記凹部の底部は、前記上端部よりも下方に配置されている請求項７６又は７７記載の露光装置。
79. 前記回収部は、前記凹部に流入した液体を回収する回収口を有する請求項７６〜７８のいずれか一項記載の露光装置。
80. 前記回収口は、前記凹部の内側に配置される請求項７９記載の露光装置。
81. 前記回収口に配置された多孔部材を有する請求項７９又は８０記載の露光装置。
82. 前記多孔部材の一側から他側へ液体のみが通過するように、前記多孔部材の一側と他側との間の圧力差を制御する請求項８１記載の露光装置。
83. 前記回収口は、前記凹部に流入した液体を気体とともに回収する請求項７９〜８２のいずれか一項記載の露光装置。
84. 前記供給口の周囲の少なくとも一部に配置された給気口をさらに備える請求項６４〜７３のいずれか一項記載の露光装置。
85. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材とを含み、
    前記側面は、前記光学部材の表面及び前記保持部材の表面の少なくとも一方を含む請求項６４〜８４のいずれか一項記載の露光装置。
86. 請求項６４〜８５のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
87. 光学系の射出面、及び前記光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、前記基板を移動することと、
    前記第１面と前記基板との間の空間に面するように前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された供給口から、前記空間に液体を供給して、前記射出面と前記基板との間の光路を前記液体で満たすことと、
    前記供給口から供給され、前記射出面の周縁から上方に、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の表面が面する空隙部に流入した液体の少なくとも一部を回収することと、
    前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、を含む露光方法。
88. 前記供給口から供給された液体の少なくとも一部は、前記露光光が通過する開口、及び前記空隙部を介して回収される請求項８７記載の露光方法。
89. 請求項８７又は８８記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
90. 基板を露光する露光装置において、
    露光光を射出する射出面を有する光学系と、
    前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、
    前記射出面の周縁から上方、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の側面が面する第１空隙部と、
    前記第１面と前記第２面との間に配置された前記第１開口から液体が流入可能であり、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放された第２空隙部と、
    少なくとも一部が前記光学系の側面と対向する位置に設けられ、前記第１開口から前記第２空隙部に流入した前記液体の少なくとも一部を前記第２開口を介して回収する回収部と、を備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板の表面が前記射出面、前記第１面、及び前記第２面に対向し、
    前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
91. 前記第１空隙部は、第１部分と第２部分とを有し、
    前記回収部の少なくとも一部は、前記第２部分において前記光学系の側面と対向する請求項９０記載の露光装置。
92. 前記第１空隙部の前記第１部分に面する液体供給口をさらに備え、
    前記液体供給口からの液体が前記光路に供給される請求項９１記載の露光装置。
93. 前記第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部の、前記第２部分から前記第１部分への流入を防止する防止装置をさらに備えた請求項９１又は９２記載の露光装置。
94. 前記防止装置は、前記光学系の側面と対向する対向面を有する壁部を含み、
    前記壁部の対向面と前記光学系の側面とのギャップは、前記壁部の第２部分側に形成されているギャップよりも小さい請求項９１〜９３のいずれか一項記載の露光装置。
95. 前記壁部の対向面及び前記対向面に面する前記光学系の側面の少なくとも一方は、前記液体に対して撥液性である請求項９４記載の露光装置。
96. 前記第１部分は、前記放射方向に、かつ上方に向かって延びている請求項９１〜９５のいずれか一項記載の露光装置。
97. 基板を露光する露光装置において、
    露光光を射出する射出面を有する光学系と、
    前記射出面から射出される前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と、
    前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面と、
    前記射出面の周縁から上方、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の側面が面し、雰囲気に開放された第１空隙部と、
    前記第１面と前記第２面との間に配置された第１開口を介して液体が流入可能な第２空隙部と、
    前記第１開口から前記第２空隙部に流入した前記液体の少なくとも一部を、前記第１空隙部に面する前記第２開口を介して回収する回収部と、を備え、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記基板の表面が前記射出面、前記第１面、及び前記第２面に対向し、
    前記射出面と前記基板の表面との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光する露光装置。
98. 前記第１空隙部は、第１部分と第２部分とを有し、
    前記第２開口は、前記第２部分に面している請求項９７記載の露光装置。
99. 前記第１空隙部の前記第１部分に面する液体供給口をさらに備え、
    前記液体供給口からの液体が前記光路に供給される請求項９８記載の露光装置。
100. 前記第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部の、前記第２部分から前記第１部分への流入を防止する防止装置をさらに備えた請求項９８又は９９記載の露光装置。
101. 前記防止装置は、前記光学系の側面と対向する対向面を有する壁部を含み、
     前記壁部の対向面と前記光学系の側面とのギャップは、前記壁部の第２部分側に形成されているギャップよりも小さい請求項９８〜１００のいずれか一項記載の露光装置。
102. 前記壁部の対向面及び前記対向面に面する前記光学系の側面の少なくとも一方は、前記液体に対して撥液性である請求項１０１記載の露光装置。
103. 前記第１部分は、前記放射方向に、かつ上方に向かって延びている請求項９８〜１０２のいずれか一項記載の露光装置。
104. 前記第２面は、前記第１面より下方に配置されている請求項９０〜１０３のいずれか一項記載の露光装置。
105. 前記回収部は、前記第２空隙部からオーバーフローした液体を回収する請求項９０〜１０４のいずれか一項記載の露光装置。
106. 前記第２空隙部の上端を規定する上端部をさらに備え、
     前記回収部の少なくとも一部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記上端部の外側に設けられている請求項９０〜１０５のいずれか一項記載の露光装置。
107. 前記回収部は、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第２空隙部の上端を規定する上端部の外側に上方を向いて設けられた凹部を有し、前記凹部に流入した前記液体を回収する請求項９０〜１０６のいずれか一項記載の露光装置。
108. 前記回収部は、前記第２空隙部の上端を規定する上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる液体ガイド部を有し、
     前記凹部は、前記上端部から前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記液体ガイド部の外側に設けられている請求項１０７記載の露光装置。
109. 前記凹部は、前記上端部よりも下方に底部を有する請求項１０７又は１０８記載の露光装置。
110. 前記回収部は、前記凹部に流入した液体を回収する回収口を有する請求項１０７〜１０９のいずれか一項記載の露光装置。
111. 前記回収口は、前記凹部の内側に配置される請求項１１０記載の露光装置。
112. 前記回収口は、前記凹部の底部に配置されている請求項１１０又は１１１記載の露光装置。
113. 前記回収口に配置された多孔部材を有する請求項１１０〜１１１のいずれか一項記載の露光装置。
114. 前記多孔部材の一側から他側へ液体のみが通過するように、前記多孔部材の一側と他側との間の圧力差を制御する請求項１１３記載の露光装置。
115. 前記回収口は、前記凹部に流入した液体を気体とともに回収する請求項１１０〜１１４のいずれか一項記載の露光装置。
116. 前記第２面は、前記液体に対して撥液性である請求項９０〜１１５のいずれか一項記載の露光装置。
117. 前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１開口は前記基板の表面と対向する請求項９０〜１１６のいずれか一項記載の露光装置。
118. 前記第１開口の周囲の少なくとも一部に配置された給気口をさらに備える請求項９０〜１１７のいずれか一項記載の露光装置。
119. 前記給気口は、前記第２面に配置されている請求項１１８記載の露光装置。
120. 前記光学系は、前記射出面を有する光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材とを含み、
     前記側面は、前記光学部材の表面及び前記保持部材の表面の少なくとも一方を含む請求項９０〜１１９のいずれか一項記載の露光装置。
121. 請求項９０〜１２０のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
     露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
122. 光学系の射出面、及び前記光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、前記基板を移動することと、
     前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記第１面と、前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面との間の第１開口から、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、前記第２開口を介して、前記射出面の周縁から上方に、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の側面が面する回収部で回収することと、を含む露光方法。
123. 光学系の射出面、及び前記光学系の射出面から射出される露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第１面と基板とが対向するように、前記基板を移動することと、
     前記射出面と前記基板との間の液体を介して前記射出面からの前記露光光で前記基板を露光することと、
     前記第１面と前記第１面の周囲の少なくとも一部に配置された第２面との間の第１開口から、前記第１開口と異なる第２開口を介して雰囲気に開放されている第２空隙部に流入した液体の少なくとも一部を、前記射出面の周縁から上方に、及び／又は前記光学系の光軸に対する放射方向に延びる前記光学系の側面が面する第１空隙部に面する前記第２開口を介して回収することと、を含む露光方法。
124. 請求項１２２又は１２３記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
     露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。

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