JP2013544322A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013544322A5 JP2013544322A5 JP2013541216A JP2013541216A JP2013544322A5 JP 2013544322 A5 JP2013544322 A5 JP 2013544322A5 JP 2013541216 A JP2013541216 A JP 2013541216A JP 2013541216 A JP2013541216 A JP 2013541216A JP 2013544322 A5 JP2013544322 A5 JP 2013544322A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- vapor deposition
- drum
- coating drum
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 59
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 59
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 49
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 16
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
Claims (15)
- ウェブをコーティングするための真空コーティング装置であって、
真空チャンバ(50)と、
第1のコーティングドラム(11)が周囲を回転可能な回転軸(11a)を有する第1の回転可能なコーティングドラム(11)と、第2のコーティングドラム(12)が周囲を回転可能な回転軸(12a)を有し、第1ドラム(11)と平行に配置された第2の回転可能なコーティングドラム(12)であって、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の間には少なくとも1つのウェブ(15)を搬送するためのギャップ(17)が形成された第1の回転可能なコーティングドラム(11)及び第2の回転可能なコーティングドラム(12)と、
第1の蒸着ビーム(31b)を生成するための少なくとも1つの蒸着源(21a)を含み、第1のコーティングドラム(11)の隣に配置された第1の蒸着器(21)と、
第2の蒸着ビーム(32b)を生成するための少なくとも1つの蒸着源(22a)を含み、第2のコーティングドラム(12)の隣に配置された第2の蒸着器(22)とを含み、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の軸(11a、12a)に沿って投影して見たときに、第1及び第2の蒸着器(21、22)は、互いに対して傾斜している真空コーティング装置。 - 第1及び第2の蒸着器(21、22)の各々が主蒸着方向(31a、32a)を含み、夫々の主蒸着方向(31a、32a)の幾何学的な延長線は、ギャップ(17)の前に配置された点Pで交差する請求項1記載の真空コーティング装置。
- 第1及び第2のコーティングドラム(11、12)は、ギャップ(17)を通してウェブ(15)を輸送するように構成され、第1及び第2の蒸着器(21、22)は、夫々の蒸着器(21、22)の蒸着源(21a、22a)から見たときに、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)のそれぞれ1つによってギャップ(17)が視界から隠されるように第1及び第2のコーティングドラム(11、12)に対して配置されている請求項1又は2記載の真空コーティング装置。
- 第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の各々は半径Rを有し、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の間のギャップ(17)は、第1のコーティングドラム(11)の回転軸(11a)を第2のコーティングドラム(12)の回転軸(12a)と結ぶ仮想接続線(13)に沿って測定したときに幅Dを有し、比R/Dが15以上である請求項1〜3のいずれか1項記載の真空コーティング装置。
- 第1及び第2の蒸着器(21、22)は、第1及び第2の蒸着ビーム(31b、32b)が、第1及び第2の蒸着器(21、22)と第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の間に配置された共通の堆積ゾーンを形成するように配置されている請求項1〜4のいずれか1項記載の真空コーティング装置。
- ウェブをコーティングするための真空コーティング装置であって、
真空チャンバ(50)と、
第1の回転可能なコーティングドラム(11)と、第1ドラム(11)と平行に配置された第2の回転可能なコーティングドラム(12)であって、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の間にはギャップ(17)を通してウェブ(15)を搬送するためのギャップ(17)が形成された第1の回転可能なコーティングドラム(11)及び第2の回転可能なコーティングドラム(12)と、
ギャップ(17)を通して第2のコーティングドラム(12)によって搬送されたときに、ウェブ(15)上に材料を堆積させるための、第1のコーティングドラム(11)の隣に配置され、第2のコーティングドラム(12)に向かって傾斜された蒸着源(21a)を含む少なくとも1つの第1の蒸着器(21)を含み、第1の蒸着器(21)の蒸着源は、第2コーティングドラム(12)よりも第1のコーティングドラム(11)により近くに配置され、第1の蒸着器(21)の蒸着源(21a)から見たときに、第1のコーティングドラム(11、12)によってギャップ(17)が視界から隠されるように第1及び第2のコーティングドラム(11、12)に対して配置されている装置。 - 第1コーティングドラム(11)によって搬送されたときに、ウェブ(15)上に材料を堆積する第1のコーティングドラム(11)に向かって傾斜した蒸着源(22a)を含む少なくとも1つの第2の蒸着器(22)を含み、第2の蒸着器(22)は、第1のコーティングドラム(11)よりも第2のコーティングドラム(12)により近くに配置され、第2の蒸着器(22)の蒸着源(22a)から見たときに、第2のコーティングドラム(12)によってギャップ(17)が視界から隠されるように第1及び第2のコーティングドラム(11、12)に対して配置されている請求項6記載の真空コーティング装置。
- 第1の蒸着器(21)が第1の主蒸着方向(31a)を含み、第2の蒸着器(22)が第2の主蒸着方向(32a)を含み、第1の主蒸着方向(31a)と第2の主蒸着方向(32a)は、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)間に形成されるギャップ(17)の後方に配置された点(P)で交差する請求項7記載の真空コーティング装置。
- 第1及び第2のコーティングドラム(11、21)の各々が半径(R)を含み、第1の蒸着器(21)の蒸着源(21a)は、コーティングドラム(11、12)の半径(R)未満である距離(L)によって、第2の蒸着器(22)の蒸着源(22a)から離間している請求項7又は8記載の真空コーティング装置。
- 第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の半径(R)は、第1のコーティングドラム(11)と第2の蒸着器(22)の蒸着源(22a)との間の距離よりも大きい、及び/又は、第2のコーティングドラム(12)と第1の蒸着器(21)の蒸着源(21a)との間の距離よりも大きい請求項6〜9のいずれか1項記載の真空コーティング装置。
- ウェブをコーティングするための真空コーティング装置であって、
真空チャンバ(50)と、
回転軸(11a)と、ウェブ(15)を搬送するための面(25)を含む少なくとも1つの回転可能なコーティングドラム(11)と、
少なくとも1つの蒸着源(21a)を含む第1の蒸着器(21)と、
少なくとも1つの蒸着源(22a)を含む第2の蒸着器(22)であって、第1及び第2の蒸着器(21、22)が、コーティングドラム(11)の隣に配置され、第1のコーティングドラム(11)の軸(11a)に沿って投影して見たときに、互いに対して傾斜している第2の蒸着器(22)を含む真空コーティング装置。 - 第1の蒸着器(21)の蒸着源(21a)は、第1の主蒸着方向(31a)を含む第1の蒸着ビーム(31a)を生成するように構成されており、
第2の蒸着機の蒸着源(22a)は、第2の主蒸着方向(32a)を含む第2の蒸着ビーム(32a)を生成するように構成されており、
第1及び第2の蒸着器(21、22)は、その蒸着ビーム(31b、32b)が互いに対して傾斜するように配置されている請求項11記載の真空コーティング装置。 - 回転軸(11a)に平行に投影して見たときに、第1の主蒸着方向(31a)と第2の主蒸着方向(32a)が、コーティングドラム(11)と第1及び第2の蒸着器(21、22)の間に配置される点(P)で交差するように第1及び第2の蒸着器(21、22)が配置されている請求項12記載の真空コーティング装置。
- 第1の蒸着ビーム(31a)を生成するための少なくとも1つの蒸着源(21a)を含む第1の蒸着器(21)と、
第2の蒸着ビーム(32a)を生成するための少なくとも1つの蒸着源(22a)を含む第2の蒸着器(22)であって、第1及び第2の蒸着器(21、22)は、互いに対して傾斜している第2の蒸着器(22)と、
第1の蒸着器(721)の第1の列(701)であって、第1の蒸着器(721)の各々は、第1の蒸着ビーム(732)を生成するように構成されている第1の列(701)と、
第2の蒸着器(722)の第2の列(702)であって、第2の蒸着器(722)の各々は、第2の蒸着ビーム(732)を生成するように構成され、第1及び第2の列(701、702)は互いに平行に配置されている第2の列(702)を含み、
第1の列(701)の第1の蒸着器(721)と第2の列(702)の第2の蒸着器(722)は、第1及び第2の列(701、702)に沿って投影して見たときに、第1の蒸着器(721)の蒸着ビーム(732)が第2の蒸着器(722)の蒸着ビーム(732)に対して傾斜するように配置されており、第1及び第2の蒸着器(721、722)は千鳥状に配置されている蒸着ユニット。 - ウェブをコーティングするための方法であって、
第1の回転可能なコーティングドラム(11)と、第1ドラム(11)と平行に配置された第2の回転可能なコーティングドラム(12)を提供する工程であって、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の間にはギャップ(17)が形成されている工程と、
第1の蒸着方向から第1の蒸着器(21)からの材料を蒸発させ、第2の蒸着方向から第2の蒸着器(22)からの材料を蒸発させることによって、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の表面に隣接して共通の蒸着ゾーンを形成する工程であって、第1及び第2の蒸着器(21、22)は、第1及び第2のコーティングドラム(11、12)の軸(11a、12a)に沿って投影して見たときに、互いに対して傾斜している工程と、
第1のコーティングドラム(11)、第2のコーティングドラム(12)、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つによって、共通の蒸着ゾーンを通して少なくとも1つのウェブ(15)を搬送する工程を含む方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2010/068661 WO2012072132A1 (en) | 2010-12-01 | 2010-12-01 | Evaporation unit and vacuum coating apparatus |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015144136A Division JP6283332B2 (ja) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 蒸着ユニット及び真空コーティング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013544322A JP2013544322A (ja) | 2013-12-12 |
JP2013544322A5 true JP2013544322A5 (ja) | 2014-01-30 |
Family
ID=44310090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013541216A Pending JP2013544322A (ja) | 2010-12-01 | 2010-12-01 | 蒸着ユニット及び真空コーティング装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140030435A1 (ja) |
EP (1) | EP2646594A1 (ja) |
JP (1) | JP2013544322A (ja) |
KR (2) | KR20180002912A (ja) |
CN (1) | CN103249861B (ja) |
WO (1) | WO2012072132A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6303024B2 (ja) * | 2013-12-23 | 2018-03-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 真空プロセス下で基板を保持する保持アレンジメント、基板上に層を堆積する装置、及び保持アレンジメントを搬送する方法 |
KR102151616B1 (ko) * | 2014-02-04 | 2020-09-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 인-라인 증착 시스템 및 유기 재료를 위한 증발 소스를 작동시키기 위한 방법 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2665226A (en) * | 1950-04-27 | 1954-01-05 | Nat Res Corp | Method and apparatus for vapor coating |
US2969448A (en) * | 1959-03-03 | 1961-01-24 | Continental Can Co | Heater vaporizer element support |
US4403002A (en) * | 1979-12-10 | 1983-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum evaporating apparatus |
DE3046564A1 (de) * | 1979-12-10 | 1981-09-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | "verfahren und vorrichtung zur vakuum-bedampfung" |
JPS6053745B2 (ja) * | 1981-07-31 | 1985-11-27 | アルバツク成膜株式会社 | 二元蒸着によつて不均質光学的薄膜を形成する方法 |
JPH01264632A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
US5122389A (en) * | 1990-03-02 | 1992-06-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum evaporation method and apparatus |
IT1269042B (it) * | 1994-03-18 | 1997-03-18 | Galileo Vacuum Tec Spa | Impianto continuo di metallizzazione sotto vuoto del tipo con due rulli delimitanti una zona di trattamento (configurazione free-span) |
US6082296A (en) * | 1999-09-22 | 2000-07-04 | Xerox Corporation | Thin film deposition chamber |
JP4704605B2 (ja) * | 2001-05-23 | 2011-06-15 | 淳二 城戸 | 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法 |
JP3608529B2 (ja) * | 2001-06-08 | 2005-01-12 | 松下電器産業株式会社 | 両面蒸着ポリプロピレンフィルムの製造方法およびそれを用いたコンデンサ |
US7291185B2 (en) * | 2001-06-08 | 2007-11-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing both-side metallized film with reduced blocking of metallized film and metallized film capacitor using the same |
US8808457B2 (en) * | 2002-04-15 | 2014-08-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US7169232B2 (en) * | 2004-06-01 | 2007-01-30 | Eastman Kodak Company | Producing repetitive coatings on a flexible substrate |
DE102004047938B4 (de) * | 2004-10-01 | 2008-10-23 | Leybold Optics Gmbh | Vorrichtung für die Verdampferbeschichtung eines bandförmigen Substrates |
CN2910966Y (zh) * | 2006-03-24 | 2007-06-13 | 潘旭祥 | 高速卷绕多层电容薄膜镀膜机 |
-
2010
- 2010-12-01 KR KR1020177037777A patent/KR20180002912A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-12-01 US US13/990,311 patent/US20140030435A1/en not_active Abandoned
- 2010-12-01 EP EP10784314.6A patent/EP2646594A1/en not_active Withdrawn
- 2010-12-01 JP JP2013541216A patent/JP2013544322A/ja active Pending
- 2010-12-01 KR KR1020137016997A patent/KR20130121905A/ko active Search and Examination
- 2010-12-01 CN CN201080070574.6A patent/CN103249861B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-01 WO PCT/EP2010/068661 patent/WO2012072132A1/en active Application Filing
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105051247A (zh) | Pvd处理装置以及pvd处理方法 | |
JP2013544958A5 (ja) | ||
TWI567216B (zh) | 供濺鍍沉積的微型可旋轉式濺鍍裝置 | |
JP2013544322A5 (ja) | ||
WO2013132794A1 (ja) | 蒸着装置 | |
CN104769151B (zh) | 成膜装置 | |
CN102282648A (zh) | 蒸镀装置、薄膜沉积装置及提供原料予其装置的方法 | |
US20090258151A1 (en) | Method and Apparatus for Coating Curved Surfaces | |
JP2016524047A5 (ja) | ||
CN106661721B (zh) | 用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件 | |
WO2015172835A1 (en) | Apparatus and method for coating a substrate by rotary target assemblies in two coating regions | |
JP6940589B2 (ja) | 堆積装置 | |
KR20160025600A (ko) | 가스 공급부를 구비한 증발 장치 | |
CN103249861B (zh) | 蒸发单元和真空涂布装置 | |
JP2016501314A (ja) | 蒸着源移動型蒸着装置 | |
KR101562275B1 (ko) | 증착장치 | |
JP6283332B2 (ja) | 蒸着ユニット及び真空コーティング装置 | |
JP2017115246A5 (ja) | ||
CN107313015A (zh) | 一种成膜设备的靶材结构 | |
JP6765237B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸発源 | |
TWI576450B (zh) | 鍍膜裝置 | |
TWI506150B (zh) | 電弧離子鍍膜裝置 | |
EP2326741A2 (en) | Equipment and method for physical vapor deposition | |
EP4265819A1 (en) | Improved apparatus and method for coating articles by physical vapor deposition technique | |
KR101615357B1 (ko) | 다중층 증착장치 및 이를 이용한 다중층 증착방법 |