JP2013542153A - 被覆黒鉛物品、ならびに反応性イオンエッチングによる黒鉛物品の製造および再生 - Google Patents
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Description
Claims (56)
- 黒鉛と;
前記黒鉛の少なくとも一部に上塗りされる導電性被覆とを含み、前記導電性被覆が、前記黒鉛および前記導電性被覆の厚さにわたって測定して約50オーム未満の厚さ方向抵抗を有する、被覆黒鉛物品。 - 真空チャンバーのライナーを含む、請求項1に記載の物品。
- イオン注入ツールの真空チャンバーのライナーを含む、請求項2に記載の物品。
- 前記ライナーの全表面が、前記黒鉛と前記上塗り導電性被覆とを含む、請求項2に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、約1ppm未満の全不純物量を有する、請求項1に記載の物品。
- 前記不純物量は、炭素、ケイ素、窒素、および水素の少なくとも1つが約1原子パーセントを超えることが許容される、請求項5に記載の物品。
- 前記不純物量は、約1原子パーセント未満のドーパントが許容され、前記許容されたドーパントがホウ素、リン、およびヒ素の少なくとも1つを含む、請求項5に記載の物品。
- 前記導電性被覆が約0.1ppm未満の全不純物量を有する、請求項5に記載の物品。
- 前記導電性被覆が炭化ケイ素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、原子百分率で少なくとも約40パーセント炭素対約60パーセントのケイ素の炭素対ケイ素比を有する、請求項9に記載の物品。
- 前記導電性被覆が非化学量論の炭化ケイ素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が非晶質水素化炭化ケイ素(a−SiC:H)を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、炭素と同じ部数のケイ素を含む、請求項12に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、約1000nm未満の厚さ;約100nmを超える厚さ;約250nmから約50nm以内の厚さ;または約500nmから約50nm以内の厚さを有する、請求項1に記載の物品。
- 光学濃度テープ試験を使用して約70%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項1に記載の物品。
- 光学濃度テープ試験を使用して約80%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請請求項15に記載の物品。
- 前記導電性被覆が炭素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆がダイヤモンド状炭素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が約500nmから約50nm以内の厚さを有する、請求項18に記載の物品。
- 前記導電性被覆が非晶質炭素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が非晶質水素化含窒素炭素を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、原子百分率で最大25パーセントの水素を含み、前記導電性被覆が、水素以外の元素を基準として原子百分率で少なくとも約80パーセントの炭素対約20パーセント窒素の組成を有する、請求項21に記載の物品。
- 前記導電性被覆が、水素以外の元素を基準として(i)原子百分率で約85パーセントの炭素対約15パーセントの窒素と、(ii)原子百分率で約90パーセントの炭素対約10パーセントの窒素との間の組成を有する、請求項22に記載の物品。
- 前記黒鉛が、イオン源から得られる微量の少なくとも1種類の物質を含み;
前記導電性被覆が、前記イオン源から得られる前記微量の前記少なくとも1種類の物質を含まず;
前記物品が、光学濃度テープ試験を使用して約70%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項1に記載の物品。 - 導電性被覆を含む黒鉛物品の製造方法であって:
反応性イオンエッチング法で前記物品の黒鉛を処理するステップと;
前記反応性イオンエッチング法で前記黒鉛を処理した後で、前記黒鉛の少なくとも一部の上に前記導電性被覆を塗布するステップとを含む、方法。 - 前記反応性イオンエッチング法で前記物品を処理するステップが、前記物品をアルゴン酸素プラズマで処理するステップを含む、請求項25に記載の方法。
- 前記黒鉛が、前記黒鉛の黒鉛化の前に約3ミクロン〜約8ミクロンの間の平均粒度の炭素出発物質を主成分とする黒鉛を含む、請求項25に記載の方法。
- 製造された物品が、光学濃度テープ試験を使用して約70%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項25に記載の方法。
- 前記物品が、光学濃度テープ試験を使用して約80%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項25に記載の方法。
- 前記物品が真空チャンバーのライナーを含む、請求項25に記載の方法。
- 前記物品が、イオン注入ツールの真空チャンバーのライナーを含む、請求項30に記載の方法。
- 前記導電性被覆が、前記黒鉛および前記導電性被覆の厚さにわたって測定して約50オーム未満の厚さ方向抵抗を有する、請求項25に記載の方法。
- 前記導電性被覆が炭化ケイ素を含む、請求項25に記載の方法。
- 前記導電性被覆が、炭素と同じ部数のケイ素を含み約250nmから約50nm以内の厚さを有する非晶質水素化炭化ケイ素(a−SiC:H)を含む、請求項33に記載の方法。
- 前記導電性被覆がダイヤモンド状炭素を含む、請求項25に記載の方法。
- 前記導電性被覆が約500nmから約50nm以内の厚さを有する、請求項35に記載の方法。
- 黒鉛と上塗り導電性被覆とを含む黒衣物品の再生方法であって:
前記黒鉛物品の前記上塗り導電性被覆の少なくとも一部を反応性イオンエッチング法で除去するステップと;
新しい導電性被覆を前記黒鉛の前記少なくとも一部の上に塗布するステップとを含む、方法。 - 前記反応性イオンエッチング法が、前記物品をアルゴン酸素プラズマで処理するステップを含む、請求項37に記載の方法。
- 前記黒鉛と、除去される前記導電性被覆の前記少なくとも一部とのうちの少なくとも1つが、イオン源から得られる微量の少なくとも1種類の物質を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記黒鉛が、前記黒鉛の黒鉛化の前に約3ミクロン〜約8ミクロンの間の平均粒度の炭素出発物質を主成分とする黒鉛を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記物品が真空チャンバーのライナーを含む、請求項37に記載の方法。
- 前記物品が、イオン注入ツールの真空チャンバーのライナーを含む、請求項41に記載の方法。
- 前記新しい導電性被覆を前記ライナー全表面に塗布するステップを含む、請求項41に記載の方法。
- 前記反応性イオンエッチング法が、アルゴンのガス状前駆体、酸素のガス状前駆体、窒素のガス状前駆体、フッ素のガス状前駆体、および塩素のガス状前駆体の少なくとも1つの使用を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記反応性イオンエッチング法が、アルゴンのガス状前駆体、酸素のガス状前駆体、および四フッ化炭素のガス状前駆体の使用と、アルゴンで約1mTorrおよび酸素の場合で約0.5mTorrおよび四フッ化炭素の場合で約1.5mTorrの開放バッフル分圧の使用と、約5mTorr〜約15mTorrのプロセスバッフル圧力の使用と、約500Wの高周波出力の使用とを、約10分〜約30分の時間で行うことを含む、請求項37に記載の方法。
- 再生後に、前記物品が、光学濃度テープ試験を使用して約70%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項37に記載の方法。
- 再生後に、前記物品が、光学濃度テープ試験を使用して約80%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記導電性被覆が、前記黒鉛および前記導電性被覆の厚さにわたって測定して約50オーム未満の厚さ方向抵抗を有する、請求項37に記載の方法。
- 前記導電性被覆が炭化ケイ素を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記導電性被覆が、炭素と同じ部数のケイ素を含み約250nmから約50nm以内の厚さを有する非晶質水素化炭化ケイ素(a−SiC:H)を含む、請求項40に記載の方法。
- 前記導電性被覆がダイヤモンド状炭素を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記導電性被覆が約500nmから約50nm以内の厚さを有する、請求項51に記載の方法。
- 被覆黒鉛物品であって:
イオン源から得られる微量の少なくとも1種類の物質を含む黒鉛と;
前記黒鉛の少なくとも一部に上塗りされる導電性被覆とを含み、前記導電性被覆が、前記イオン源から得られる前記微量の前記少なくとも1種類の物質を含まず;
前記物品が、光学濃度テープ試験を使用して約70%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、被覆黒鉛物品。 - 光学濃度テープ試験を使用して約80%を超える濃度測定透過率が得られる表面を含む、請求項53に記載の被覆黒鉛物品。
- 前記イオン源から得られる前記物質が、フォトレジスト、ホウ素、ヒ素、ケイ素、およびリンの少なくとも1つを含む、請求項53に記載の被覆黒鉛物品。
- 前記イオン源から得られる前記物質が、イオン注入プロセスでバックスパッタリングされた材料、およびイオン注入プロセスで蒸発した材料の少なくとも1つを含む、請求項53に記載の被覆黒鉛物品。
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