JP2013529371A - イオン注入装置のための蒸気圧縮冷却チャック - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2008年4月30日に出願され、「気体軸受静電チャック(gas bearingelectrostatic chuck)」と題された、米国出願第12/113,091号の一部継続であり、その内容は、全ての目的でその全体を参照することにより本明細書に組み込まれる。
半導体装置およびその他の製品の製造において、イオン注入システム(ion implantation system)はワークピース(workpiece)(例えば、半導体ウェーハ、ディスプレイパネル、およびガラス基板など)の中へドーパント(dopant)を注入するために適用されている。これらのイオン注入システムは典型的には、「イオン注入装置(ion implanter)」と呼ばれている。
本発明は、半導体加工システム(semiconductor processing system)におけるシステム、装置、およびワークピースの固定方法を提供することにより、当技術分野の制限を克服する。従って、以下では、本発明のいくつかの態様の基本的な理解を可能とするために、本発明の簡略化した概要を記載する。この要約は、本発明の完全な概観ではない。本発明の重要な要素を特定することも、本発明の範囲を正確に記述することも意図していない。その目的は、後に記載される本発明のより詳細な説明に対する前置きとして、本発明の概念を簡略化した形で提供することである。
図1は、従来のイオン注入システムのブロック図を示している。
本発明は、改善された固定、および温度の均一性を提供する一方で、さらに、裏面の粒子汚染を低減する、静電クランプ(electrostatic clamp)あるいは静電チャック(ESC)と共に用いることが可能な冷却技術に概して向けられている。それに応じて、本発明は以下において図を参照しながら説明される。なお、以後、同じ参照番号は同じ構成要素を表現するために用いられるときもある。これらの態様に関する説明は、単に例示するものであり、制限する意味に解釈するべきではない。以下の記載では、説明のために、本発明を完全に理解するため多くの具体的な細部が説明される。しかしながら、当業者であれば、これらの具体的な細部を用いることなく、本発明を実施することが可能であることは明らかであろう。
Claims (14)
- イオン注入システムであって、
旋回心軸(pivot point)と遠端との間が半径方向に伸びたスキャンアーム(scan arm)であって、気体供給コンジット(gas supply conduit)と独立した冷媒供給コンジット(refrigerant supply conduit)との両方が上記スキャンアームの旋回心軸の近傍から上記スキャンアームの上記遠端に向かって伸びているスキャンアームと、
上記スキャンアームの上記遠端に隣接して結合されている静電チャックであって、上記静電チャックは、ワークピースと選択的に契合する契合領域と、上記冷媒供給コンジットと流体連通(fluid communication)している1つ以上の冷却チャネルとを備える静電チャックと、を備え、
上記契合領域とワークピースとは、両者が契合するときにおいて、協同して両者の間に空洞(cavity)を形成するとともに、上記空洞は上記気体供給コンジットと流体連通している一方、少なくとも1つの冷却チャネル(cooling channel)に対して流体隔離されている、ことを特徴とするイオン注入システム。 - 上記静電チャックは、さらに、
上記冷媒供給コンジットと少なくとも1つの冷却チャネルとの間の流量制限器(flow restrictor)であって、上記流量制限器は、第1の距離で隔てられている側壁を備える中央領域(central region)と、上記第1の距離よりも大きい第2の距離で隔てられている側壁を備える複数の末端領域(distal region)と、を備えることを特徴とする、請求項1に記載のイオン注入システム。 - 上記スキャンアームは、ワークピースが第1の軸上を、イオンビームが第1の軸に直交する第2の軸に沿って走査される間に、移動するように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 上記スキャンアームは、上記旋回心軸の周りに振り子のような様式で往復するように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のイオン注入システム。
- 上記スキャンアームの上記遠端に近接する上記静電チャックと結合されたアキシアルハブ(axial hub)であって、上記アキシアルハブは、上記スキャンアームが上記振り子のような様式で動作する間、上記ワークピースが上記アキシアルハブの周囲を回転するように、上記静電チャックを回転するように形成されていることを特徴とする、請求項4に記載のイオン注入システム。
- 上記契合領域は、
少なくとも1つの気体供給オリフィス(gas supply orifice)を備える中央領域と、
上記中央領域の周縁部におおよそ露出している環状領域(annulus region)と、
を備え、
上記中央領域は、上記環状領域に対して凹んでおり、上記静電チャックの表面と上記ワークピースとの間に、両者が契合するときに、上記空洞を形成することを特徴とする、請求項1に記載のイオン注入システム。 - イオン注入システムであって、
旋回心軸と遠端との間が半径方向に伸びたスキャンアームであって、気体供給コンジットと冷媒供給コンジットとの両方が上記スキャンアームの旋回心軸の近傍から上記スキャンアームの上記遠端に向かって伸びているスキャンアームと、
上記スキャンアームの上記遠端に付随し、ワークピースが取り外し可能なように契合する契合領域を有する第1プレートであって、
上記契合領域は、少なくとも1つの気体供給オリフィス、および上記中央領域の周縁部におおよそ露出している環状領域を備え、
上記中央領域は、上記環状領域に対して凹んでおり、上記ワークピースと上記第1プレートとの間に上記空洞を規定し、
上記空洞は、少なくとも1つの気体供給オリフィスを介して、上記冷媒供給コンジットと流体連通しており、
第1プレートと、
上記第1プレートと上記スキャンアームの上記遠端に位置する第2プレートであって、 上記冷媒供給コンジットと流体連通した、少なくとも1つの冷却チャネルを備え、
上記少なくとも1つの冷却チャネルは、上記気体供給コンジットおよび上記空洞から流体隔離されている、
第2プレートと、
を備えることを特徴とする、イオン注入システム。 - 上記第1プレートと上記第2プレートとの少なくとも一方は、さらに、上記冷媒供給コンジットと上記少なくとも1つの冷却チャネルとの間に流量制限器を備え、
上記流量制限器は、第1の距離によって隔てられている側壁を備える中央領域(central region)と、上記第1の距離よりも大きい第2の距離によって隔てられている側壁を備える複数の末端領域(distal region)とを備えることを特徴とする、請求項7に記載のイオン注入システム。 - 上記スキャンアームは、上記旋回心軸の周りに振り子のような様式で往復するように形成されていることを特徴とする、請求項7に記載のイオン注入システム。
- アキシアルハブの周囲から上記スキャンアームの上記遠端にかけて設置されている、上記第1プレートおよび第2プレートであって、
上記アキシアルハブは、
上記アキシアルハブは、上記スキャンアームが上記振り子のような様式で動作する間、上記ワークピースが上記アキシアルハブの周囲を回転するように、上記第1プレートを回転するように形成されていることを特徴とする、請求項9に記載のイオン注入システム。 - 上記イオン注入システムは、さらに、
クランピング電圧(clamping voltage potential)と選択的に組み合わせて形成された、少なくとも1つの電極を備えることを特徴とする、請求項7に記載のイオン注入システム。 - 上記第1プレートの上記中央領域は、おおよそ平らで、そこから外に向かって伸びる任意の構造の空隙であることを特徴とする、請求項7に記載のイオン注入システム。
- ワークピースの固定方法であって、
少なくとも1つの冷却チャネルを有する静電チャックであって、少なくとも1つの電極を備える上記静電チャックを供給するステップと、
最初の気体圧において、上記静電チャックの上記中央領域において規定される、少なくとも1つの気体供給オリフィスを介してクッションガス(cushioning gas)を供給するステップと、
少なくとも1つの電極に対して電圧を印加するステップであって、
ひきつける力によって、ワークピースを上記静電チャックにおおよそ引き付けるステップと、
最初の気体圧と最初の電圧を制御するステップであって、最初の引きはがす力と最初の引き寄せる力とは、おおよそ均等にするステップと、
上記静電チャックを冷却するために流体を供給するステップと
を含むことを特徴とする固定方法。 - 圧縮冷却流体は、流量制限器を介して上記静電チャックに供給され、
上記流量制限器は、第1の距離によって隔てられている側壁を備える中央領域と、上記第1の距離よりも大きい第2の距離によって隔てられている側壁を備える複数の末端領域とを備えることを特徴とする、請求項13に記載の固定方法。
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