JP2013524244A - イオンビーム試料準備装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
本願は、先に出願された2010年4月11日に出願された米国仮特許出願第61/322,870号明細書の利益を主張するものである。出願第61/322,870号明細書は参照により本明細書に援用される。
真空チャンバ内に配置され、イオンビームをシールド保持ステージに向けるイオンビーム放射手段と、真空チャンバ内に配置されるシールド保持ステージであって、上記シールド保持ステージは、第1の基準特徴、第2の基準特徴、少なくともシールド解放位置及びシールド保持位置を有するシールド保持手段を備える、シールド保持ステージと、上記シールド保持ステージに結合され、上記シールド保持ステージを保持ステージ装填位置と保持ステージ処理位置との間で移動させるように構成された保持ステージリフト手段であって、保持ステージリフト手段が上記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密装填チャンバがシールド保持ステージと真空チャンバの部分との間に形成されることを特徴とするとともに、保持ステージリフト手段が上記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密封止が、装填チャンバとイオンビーム放射手段が配置された真空チャンバの部分との間に形成されることをさらに特徴とする、保持ステージリフト手段と、上記保持ステージリフト手段に結合され、上記保持ステージリフト手段を上記保持ステージ装填位置と上記保持ステージ処理位置との間で移動させるように動作可能なリフト駆動装置と、上記保持ステージリフト手段が上記保持ステージ装填位置に保持される場合、上記装填チャンバにアクセスできるように配置される着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーであって、上記チャンバカバーが、上記真空チャンバの所定位置に配置された場合、実質的な真空気密封止を提供することを特徴とする、着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーと、少なくとも剛性平坦部を有し、シールド保持ステージに着脱可能且つ再配置可能に保持されるシールドであって、試料をシールドに耐久的に接着させるように構成された近位試料面、イオンビームの経路に配置され、上記シールドがシールド保持手段のシールド保持位置に保持され、保持ステージリフト手段が保持ステージ処理位置に保持される場合、試料に向けられたイオンビームの部分を遮蔽するように位置決めされる第1の遮蔽面、上記シールドに一体形成される第3の基準特徴であって、上記シールド保持位置にあるシールド保持手段が、上記第3の基準特徴を付勢し、上記第1の基準特徴に熱伝導的に接触して当接させる、第3の基準特徴、及び上記シールドに一体形成される第4の基準特徴であって、上記シールド保持位置にある上記シールド保持手段が、上記第4の基準特徴を付勢して、上記第2の基準特徴に当接させる、第4の基準特徴をさらに備える、シールドと、第1のポンプマニフォルド及び第2のポンプマニフォルドの両方に動作可能に接続された真空ポンプ手段であって、第1のポンプマニフォルドは上記真空チャンバを脱気するように構成され、第2のポンプマニフォルドは、上記保持ステージリフト手段が上記保持ステージ装填位置にある場合、上記装填チャンバを脱気するように構成される、真空ポンプ手段と、シールド保持ステージに熱伝導的に接触する第1の伝熱部材と、熱を上記伝熱部材から離れるように伝導させるように構成されたヒートシンク手段と、を備える。
p1)処理が望まれる試料の領域をイオンシールドの使用可能部分に位置合わせするステップ、
p2)試料の所望の領域を1つ又は複数のイオンビームで処理することができるように、BIBSCイオンミリングシステム内で試料とシールドとを位置合わせするステップ、
p3)イオンミリングシステムを、イオンビームミリングに適切な真空レベルまで脱気するステップ、
p4)時には生体内光学顕微鏡撮像等のプロセス監視ステップを使用し、十分な切断深度及び断面品質を確認して、1つ又は複数のイオンミリング動作を実行するステップ、
p5)BIBSCイオンミリング機器を通気し、機器から試料を取り出すステップ。
p6)最終的な解析顕微鏡に試料を導入し、解析を開始できるように、顕微鏡を初期化するステップ、
p7)所望のエリアを撮像できるように、任意の数の顕微鏡の並進移動ステージ、傾斜ステージ、及び回転ステージを調整することにより、準備のできた断面表面の位置を見つけるステップ、
p8)所望の顕微鏡解析又は分光解析を実行するステップ、
p9)試料を顕微鏡から取り出すステップ、
p10)試料を解析した後、試料を再処理して、切断深度、位置、又は角度を変更すると判断し得る−従来ではp1〜p9を繰り返す必要がある。
1.シールド、試料−シールド取り付け装置内のシールド保持装置、BIBSCイオンミル内のシールド保持装置、最終的な解析機器内のシールド保持装置の基準特徴により、処理ステップp1、p2、及びp7での大幅な時間効率が可能であること、
2.シールドに耐久的に接着した試料の一体性及びシールドに単に締め付けられた状態でのより低い程度でのシールドへの試料の一体性により、p4中に、長時間であり、温度が変化してさえも、試料へのシールドの位置合わせが一貫した状態を保持する際により大きな確実性が可能であり、その一方で、この精密な位置合わせが維持されない場合には、断面切断プロセスの品質が低減すること、
3.処理ステップp1においてシールドに耐久的に接着された試料の一体性により、ミリング動作全体を通して試料とシールドとの空間的関係を共に維持する高価でかなり大きな固定装置の必要性がなくなり、複数の固定装置なしで、ミリング前に複数の試料を準備できること、
4.シールドに耐久的に接着されるか、又は締め付けられる試料の一体性により、撮像対物レンズと試料との間に利用される作業距離が最小の場合であっても、顕微鏡で観察する前に、試料をシールドから取り外す必要性がなくなり、これにより、処理ステップp6での試料再取り付け中の時間及び試料が破損する危険性を低減できること、
5.ステップp10でのように試料の再処理が実行される場合、シールドに耐久的に接着されるか、又は締め付けられる試料の一体性により、ステップp1及びp2の必要性をなくすことができ、試料を再び取り付ける間の処理時間及び試料が破損する危険性が大幅に低減すること、及び
6.ステップp10でのように試料の再処理が実行される場合、シールドに耐久的に接着されるか、又は締め付けられる試料の一体性により、試料及びシールドに衝突するイオンビームの角度を変更することで、異なる断面平面を元々の切断の断面平面に非常に近くで切断することができること、
が挙げられるが、これらに限定されない。
2−イオンビーム試料準備装置
8−試料
10−真空チャンバ
16−装填チャンバ
18−チャンバカバー
20−イオンビーム放射手段
22−中央イオンビーム軸
40−シールド保持ステージ
42−シールド保持手段
42a−シールド保持手段の第1の部材
42b−シールド保持手段の第2の部材
46−シールド保持位置
48−シールド解放位置
56−真空封止
60−シールド
61−遮蔽面
61a、61b等−第1の遮蔽面、第2の遮蔽面等
62−近位試料面
63−シールドエッジ
64−溝部
65−可視位置合わせマーク
66−コア材料
67−被覆材料
68−試料締め付け手段
70a、70b、70c、70d、70e、70f−第1の基準特徴、第2の基準特徴、第3の基準特徴、第4の基準特徴、第5の基準特徴、第6の基準特徴
72−基準面
80−伝熱部材
84−ヒートシンク手段
90−真空ポンプ手段
92−ポンプマニフォルド
92a、92b等−第1のポンプマニフォルド、第2のポンプマニフォルド等
100−保持ステージリフト手段
102−リフト駆動装置
104−保持ステージ装填位置
106−保持ステージ処理位置
Claims (41)
- イオンビーム試料準備装置であって、
a)真空チャンバ内に配置され、イオンビームをシールド保持ステージに向けるイオンビーム放射手段と、
b)前記真空チャンバ内に配置される前記シールド保持ステージであって、
i)第1の基準特徴、
ii)第2の基準特徴、
iii)少なくともシールド解放位置及びシールド保持位置を有するシールド保持手段
を備える、前記シールド保持ステージと、
c)前記シールド保持ステージに結合され、前記シールド保持ステージを保持ステージ装填位置と保持ステージ処理位置との間で移動させるように構成された保持ステージリフト手段であって、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密装填チャンバが前記シールド保持ステージと前記真空チャンバの部分との間に形成されることを特徴とするとともに、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密封止が、前記装填チャンバと前記イオンビーム放射手段が配置された前記真空チャンバの部分との間に形成されることをさらに特徴とする、保持ステージリフト手段と、
d)前記保持ステージリフト手段に結合され、前記保持ステージリフト手段を前記保持ステージ装填位置と前記保持ステージ処理位置との間で移動させるように動作可能なリフト駆動装置と、
e)前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置に保持される場合、前記装填チャンバにアクセスできるように配置される着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーであって、前記チャンバカバーが、前記真空チャンバの所定位置に配置された場合、実質的な真空気密封止を提供することを特徴とする、着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーと、
f)少なくとも剛性平坦部を有し、前記シールド保持ステージに着脱可能且つ再配置可能に保持されるシールドであって、前記シールドが、
i)前記試料を前記シールドに耐久的に接着させるように構成された近位試料面、
ii)前記イオンビームの経路に配置され、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持され、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ処理位置に保持される場合、前記試料に向けられたイオンビームの部分を遮蔽するように位置決めされる第1の遮蔽面、
iii)前記シールドに一体形成される第3の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第3の基準特徴を付勢して、前記第1の基準特徴に当接させる、第3の基準特徴、及び
iv)前記シールドに一体形成される第4の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第4の基準特徴を付勢して、前記第2の基準特徴に当接させる、第4の基準特徴
をさらに備える、シールドと、
g)第1のポンプマニフォルド及び第2のポンプマニフォルドの両方に動作可能に接続された真空ポンプ手段であって、前記第1のポンプマニフォルドが前記真空チャンバを脱気するように構成され、前記第2のポンプマニフォルドが、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、前記装填チャンバを脱気するように構成される、真空ポンプ手段と、
を備えることを特徴とする、装置。 - 請求項1に記載の装置において、前記シールド保持ステージが第5の基準特徴をさらに備え、前記シールドが、前記シールドに一体形成された第6の基準特徴をさらに備え、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第6の基準特徴を付勢して、前記第5の基準特徴に当接させることを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約90度未満且つ約80度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約87度未満且つ約83度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が、低いスパッタリング収率を有する非磁性材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第1の遮蔽面の少なくとも一部がタンタル又はチタンで作られることを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第3の基準特徴が基準面であり、前記基準面の少なくとも一部が、前記近位試料面の少なくとも一部と同一の広がりを有することを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記近位試料面が、前記シールドと前記試料との間で接着剤を流すように構成された少なくとも1つの溝部を有することを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記シールドが、前記シールドに結合され、前記近位試料面に対して前記試料を保持するように構成された試料締め付け手段をさらに備えることを特徴とする、装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記シールドが、
a)前記イオンビームの部分の経路に配置された部分を有する第2の遮蔽面と、
b)前記第1の遮蔽面が前記近位試料面に接触する位置にあるシールドエッジと、
c)前記第2の遮蔽面上の可視位置合わせマークであって、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持される場合、イオンビームが前記シールドエッジに衝突する領域に対して、前記可視位置合わせマークの位置が所定の関係にあるように構成される、可視位置合わせマークと、
をさらに備えることを特徴とする、装置。 - 請求項1に記載の装置において、前記シールドがコア材料に接合する被覆材料で作られ、前記被覆材料の部分が前記第1の遮蔽面の少なくとも一部を形成し、前記コア材料の部分が、前記シールドの前記第3の基準特徴及び前記シールドの前記第4の基準特徴を形成することを特徴とする、装置。
- 請求項11に記載の装置において、前記被覆材料が、低いスパッタリング収率を有する非磁性材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項12に記載の装置において、前記被覆材料の少なくとも一部がタンタル又はチタンであることを特徴とする、装置。
- イオンビーム試料準備装置であって、
a)真空チャンバ内に配置され、イオンビームをシールド保持ステージに向けるイオンビーム放射手段と、
b)前記真空チャンバ内に配置される前記シールド保持ステージであって、
i)第1の基準特徴、
ii)第2の基準特徴、
iii)少なくともシールド解放位置及びシールド保持位置を有するシールド保持手段
を備える、前記シールド保持ステージと、
c)前記シールド保持ステージに結合され、前記シールド保持ステージを保持ステージ装填位置と保持ステージ処理位置との間で移動させるように構成された保持ステージリフト手段であって、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密装填チャンバが前記シールド保持ステージと前記真空チャンバの部分との間に形成されることを特徴とするとともに、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密封止が、前記装填チャンバと前記イオンビーム放射手段が配置された前記真空チャンバの部分との間に形成されることをさらに特徴とする、保持ステージリフト手段と、
d)前記保持ステージリフト手段に結合され、前記保持ステージリフト手段を前記保持ステージ装填位置と前記保持ステージ処理位置との間で移動させるように動作可能なリフト駆動装置と、
e)前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置に保持される場合、前記装填チャンバにアクセスできるように配置される着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーであって、前記チャンバカバーが、前記真空チャンバの所定位置に配置された場合、実質的な真空気密封止を提供することを特徴とする、着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーと、
f)少なくとも剛性平坦部を有し、前記シールド保持ステージに着脱可能且つ再配置可能に保持されるシールドであって、前記シールドが、
i)前記試料を前記シールドに耐久的に接着させるように構成された近位試料面、
ii)前記イオンビームの経路に配置され、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持され、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ処理位置に保持される場合、前記試料に向けられたイオンビームの部分を遮蔽するように位置決めされる第1の遮蔽面、
iii)前記シールドに一体形成される第3の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第3の基準特徴を付勢して、前記第1の基準特徴に熱伝導的に接触して当接させる、第3の基準特徴、及び
iv)前記シールドに一体形成される第4の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第4の基準特徴を付勢して、前記第2の基準特徴に当接させる、第4の基準特徴
をさらに備える、シールドと、
g)第1のポンプマニフォルド及び第2のポンプマニフォルドの両方に動作可能に接続された真空ポンプ手段であって、前記第1のポンプマニフォルドが前記真空チャンバを脱気するように構成され、前記第2のポンプマニフォルドが、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、前記装填チャンバを脱気するように構成される、真空ポンプ手段と、
h)前記シールド保持ステージに熱伝導的に接触する伝熱部材と、
i)熱を前記伝熱部材から離れるように伝導させるように構成されたヒートシンク手段と、
を備えることを特徴とする、装置。 - 請求項14に記載の装置において、前記シールド保持ステージが第5の基準特徴をさらに備え、前記シールドが、前記シールドに一体形成された第6の基準特徴をさらに備え、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第6の基準特徴を前記第5の基準特徴に当接するように促すことを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約90度未満且つ約80度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約87度未満且つ約83度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が、低いスパッタリング収率を有する非磁性材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記第1の遮蔽面の少なくとも一部がタンタル又はチタンで作られることを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記第3の基準特徴が基準面であり、前記基準面の少なくとも一部が、前記近位試料面の少なくとも一部と同一の広がりを有することを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記近位試料面が、前記シールドと前記試料との間で接着剤を流すように構成された少なくとも1つの溝部を有することを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記シールドが、前記シールドに結合され、前記近位試料面に対して前記試料を保持するように構成された試料締め付け手段をさらに備えることを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記シールドが、
a)前記イオンビームの部分の経路に配置された部分を有する第2の遮蔽面と、
b)前記第2の遮蔽面上の可視位置合わせマークであって、前記可視位置合わせマークの位置が、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持される場合、前記イオンビームが前記シールドエッジに衝突する領域に対して所定の関係にあるように構成される、可視位置合わせマークと、
をさらに備えることを特徴とする、装置。 - 請求項14に記載の装置において、前記ヒートシンク手段が窒素を使用して、前記伝熱部材から離れるように熱を伝導させるように構成されることを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記シールドが高い熱伝導性を有する材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項14に記載の装置において、前記シールドがコア材料に接合する被覆材料で作られ、前記被覆材料の部分が前記第1の遮蔽面の少なくとも一部を形成し、前記コア材料の部分が、前記シールドの前記第3及び第4の基準特徴を形成することを特徴とする、装置。
- 請求項26に記載の装置において、前記コア材料は銅を含むことを特徴とする、装置。
- イオンビーム試料準備装置において、
a)真空チャンバ内に配置され、イオンビームをシールド保持ステージに向けるイオンビーム放射手段と、
b)前記真空チャンバ内に配置される前記シールド保持ステージであって、
i)第1の基準特徴、
ii)第2の基準特徴、
iii)少なくともシールド解放位置及びシールド保持位置を有するシールド保持手段
を備える、前記シールド保持ステージと、
c)前記シールド保持ステージに結合され、前記シールド保持ステージを保持ステージ装填位置と保持ステージ処理位置との間で移動させるように構成された保持ステージリフト手段であって、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密装填チャンバが前記シールド保持ステージと前記真空チャンバの部分との間に形成されることを特徴とするとともに、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、実質的な真空気密封止が、前記装填チャンバと前記イオンビーム放射手段が配置された前記真空チャンバの部分との間に形成されることをさらに特徴とし、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、前記シールド保持ステージが前記真空チャンバの部分と熱伝導的に接触することをさらに特徴とする、保持ステージリフト手段と、
d)前記保持ステージリフト手段に結合され、前記保持ステージリフト手段を前記保持ステージ装填位置と前記保持ステージ処理位置との間で移動させるように動作可能なリフト駆動装置と、
e)前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置に保持される場合、前記装填チャンバにアクセスできるように配置される着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーであって、前記チャンバカバーが、前記真空チャンバの所定位置に配置された場合、実質的な真空気密封止を提供することを特徴とする、着脱可能且つ再配置可能なチャンバカバーと、
f)少なくとも剛性平坦部を有し、前記シールド保持ステージに着脱可能且つ再配置可能に保持されるシールドであって、前記シールドが、
i)前記試料を前記シールドに耐久的に接着させるように構成された近位試料面、
ii)前記イオンビームの経路に配置され、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持され、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ処理位置に保持される場合、前記試料に向けられたイオンビームの部分を遮蔽するように位置決めされる第1の遮蔽面、
iii)前記シールドに一体形成される第3の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第3の基準特徴を付勢して、前記第1の基準特徴に熱伝導的に接触して当接させる、第3の基準特徴、及び
iv)前記シールドに一体形成される第4の基準特徴であって、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第4の基準特徴を付勢して、前記第2の基準特徴に当接させる、第4の基準特徴
をさらに備える、シールドと、
g)第1のポンプマニフォルド及び第2のポンプマニフォルドの両方に動作可能に接続された真空ポンプ手段であって、前記第1のポンプマニフォルドが前記真空チャンバを脱気するように構成され、前記第2のポンプマニフォルドが、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置にある場合、前記装填チャンバを脱気するように構成される、真空ポンプ手段と、
h)前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ処理位置に保持される場合、前記シールド保持ステージに熱伝導的に接触するように配置された伝熱部材であって、前記保持ステージリフト手段が前記保持ステージ装填位置に保持される場合、前記伝熱部材が前記シールド保持ステージと熱伝導的に接触しないようにさらに配置される、伝熱部材と、
i)熱を前記伝熱部材から離れるように伝導させるように構成されたヒートシンク手段と、
を備えることを特徴とする、装置。 - 請求項28に記載の装置において、前記シールド保持ステージが第5の基準特徴をさらに備え、前記シールドが、前記シールドに一体形成された第6の基準特徴をさらに備え、前記シールド保持位置にある前記シールド保持手段が、前記第6の基準特徴を前記第5の基準特徴に当接するように促すことを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約90度未満且つ約80度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が約87度未満且つ約83度を超える角度で前記近位試料面に接触することを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記第1の遮蔽面が、低いスパッタリング収率を有する非磁性材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記第1の遮蔽面の少なくとも一部がタンタル又はチタンで作られることを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記第3の基準特徴が基準面であり、前記基準面の少なくとも一部が、前記近位試料面の少なくとも一部と同一の広がりを有することを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記近位試料面が、前記シールドと前記試料との間で接着剤を流すように構成された少なくとも1つの溝部を有することを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記シールドが、前記シールドに結合され、前記近位試料面に対して前記試料を保持するように構成された試料締め付け手段をさらに備えることを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記シールドが、
a)前記イオンビームの部分の経路に配置された部分を有する第2の遮蔽面と、
b)前記第2の遮蔽面上の可視位置合わせマークであって、前記可視位置合わせマークの位置が、前記シールドが前記シールド保持手段の前記シールド保持位置に保持される場合、イオンビームが前記シールドエッジに衝突する領域に対して所定の関係にあるように構成される、可視位置合わせマークと、
をさらに備えることを特徴とする、装置。 - 請求項28に記載の装置において、前記ヒートシンク手段が窒素を使用して、前記伝熱部材から離れるように熱を伝導させるように構成されることを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記シールドが高い熱伝導性を有する材料で作られることを特徴とする、装置。
- 請求項28に記載の装置において、前記シールドがコア材料に接合する被覆材料で作られ、前記被覆材料の部分が前記第1の遮蔽面の少なくとも一部を形成し、前記コア材料の部分が、前記シールドの前記第3及び第4の基準特徴を形成することを特徴とする、装置。
- 請求項40に記載の装置において、前記コア材料は銅を含むことを特徴とする、装置。
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