JP2013517236A5 - - Google Patents
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Description
図5は、DNTの水素化の急激な断熱温度変化と、断熱的に運転する反応空間の入口流に少なくとも存在するニトロトルイジンの濃度の量的関係を示す(実施例2参照)。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
〔1〕1つの反応器または複数の反応器に配置され、直列接続された少なくとも2つの反応空間において、液相で、式:
[化1]
[式中、R2およびR3は、相互に独立に、水素、メチルまたはエチルを示し、R3は更に、NO 2 を示してよい]
で示される芳香族ニトロ化合物を、触媒の存在下で水素化することにより、式:
[化2]
[式中、R1およびR2は、相互に独立に、水素、メチルまたはエチルを示し、R1は更に、NH 2 を示してよい]
で示される芳香族アミンを製造する方法であって、少なくとも1つの反応空間は等温的に運転し、その下流に接続された少なくとも1つの反応空間は断熱的に運転する方法。
〔2〕断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つにおいて実施する水素化の部分のパラメーター特性をモニタリングすることにより、水素化反応の進行をモニターし、そのパラメーターが臨界値に達するかまたは超えたとき、パラメーターが再び臨界値未満となるように少なくとも1つの工程パラメーターを変化させる、上記〔1〕に記載の方法であって、適当なパラメーターを、色、温度、ニトロ基およびニトロソ基含有化合物の濃度からなる群から選択する方法。
〔3〕適当なパラメーターが、断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つにおいて、または断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つからの生成物出口において測定される温度T adiabatic である、上記〔2〕に記載の方法。
〔4〕パラメーターT adiabatic の臨界値が200℃〜250℃である、上記〔3〕に記載の方法。
〔5〕化学分析または分光分析により、ニトロ基およびニトロソ基含有化合物の濃度を測定する、上記〔2〕に記載の方法。
〔6〕適当なパラメーターが、断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つと、その上流にある等温的に運転する反応空間との温度差:
[数1]
であり、断熱的に運転する反応空間からの生成物出口において、または断熱的に運転する反応空間においてT adiabatic を測定し、その上流にある等温的に運転する反応空間において、または断熱的に運転する反応空間への入口においてT isothermal を測定する、上記〔2〕に記載の方法。
〔7〕パラメーターΔT adiabatic の臨界値(ΔT adiabatic, crit. )が−10K〜+8Kである、上記〔6〕に記載の方法。
〔8〕少なくとも1つの工程パラメーターの変更を、下記選択肢:
a)新しい触媒の供給、
b)使用済み触媒の供給量の増加、
c)新しい芳香族ニトロ化合物の供給量の段階的削減、
d)反応空間の少なくとも1つにおける圧力の増大、
e)反応空間の少なくとも1つにおける温度の上昇
から選択する、上記〔2〕〜〔7〕のいずれかに記載の方法。
〔9〕反応空間の全てにおいて、50℃〜250℃の温度および6bar〜101barの絶対圧力を維持する、上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の方法。
〔10〕任意の断熱的に運転する反応空間における圧力の、その上流にある等温的に運転する反応空間における圧力に対する比が0.5より大きい、上記〔9〕に記載の方法。
〔11〕ジニトロトルエン(式IIにおいて、R2=メチル、およびR3=NO 2 )を水素化してトルイレンジアミン(式Iにおいて、R1=NH 2 、およびR2=メチル)を得る、上記〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の方法。
〔12〕2〜10個の反応空間を直列接続する、上記〔1〕〜〔11〕のいずれかに記載の方法。
〔13〕芳香族ニトロ化合物の流れ方向において第一の反応空間を等温的に運転し、最後の反応空間を断熱的に運転する、上記〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の方法。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
〔1〕1つの反応器または複数の反応器に配置され、直列接続された少なくとも2つの反応空間において、液相で、式:
[化1]
[式中、R2およびR3は、相互に独立に、水素、メチルまたはエチルを示し、R3は更に、NO 2 を示してよい]
で示される芳香族ニトロ化合物を、触媒の存在下で水素化することにより、式:
[化2]
[式中、R1およびR2は、相互に独立に、水素、メチルまたはエチルを示し、R1は更に、NH 2 を示してよい]
で示される芳香族アミンを製造する方法であって、少なくとも1つの反応空間は等温的に運転し、その下流に接続された少なくとも1つの反応空間は断熱的に運転する方法。
〔2〕断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つにおいて実施する水素化の部分のパラメーター特性をモニタリングすることにより、水素化反応の進行をモニターし、そのパラメーターが臨界値に達するかまたは超えたとき、パラメーターが再び臨界値未満となるように少なくとも1つの工程パラメーターを変化させる、上記〔1〕に記載の方法であって、適当なパラメーターを、色、温度、ニトロ基およびニトロソ基含有化合物の濃度からなる群から選択する方法。
〔3〕適当なパラメーターが、断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つにおいて、または断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つからの生成物出口において測定される温度T adiabatic である、上記〔2〕に記載の方法。
〔4〕パラメーターT adiabatic の臨界値が200℃〜250℃である、上記〔3〕に記載の方法。
〔5〕化学分析または分光分析により、ニトロ基およびニトロソ基含有化合物の濃度を測定する、上記〔2〕に記載の方法。
〔6〕適当なパラメーターが、断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つと、その上流にある等温的に運転する反応空間との温度差:
[数1]
であり、断熱的に運転する反応空間からの生成物出口において、または断熱的に運転する反応空間においてT adiabatic を測定し、その上流にある等温的に運転する反応空間において、または断熱的に運転する反応空間への入口においてT isothermal を測定する、上記〔2〕に記載の方法。
〔7〕パラメーターΔT adiabatic の臨界値(ΔT adiabatic, crit. )が−10K〜+8Kである、上記〔6〕に記載の方法。
〔8〕少なくとも1つの工程パラメーターの変更を、下記選択肢:
a)新しい触媒の供給、
b)使用済み触媒の供給量の増加、
c)新しい芳香族ニトロ化合物の供給量の段階的削減、
d)反応空間の少なくとも1つにおける圧力の増大、
e)反応空間の少なくとも1つにおける温度の上昇
から選択する、上記〔2〕〜〔7〕のいずれかに記載の方法。
〔9〕反応空間の全てにおいて、50℃〜250℃の温度および6bar〜101barの絶対圧力を維持する、上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の方法。
〔10〕任意の断熱的に運転する反応空間における圧力の、その上流にある等温的に運転する反応空間における圧力に対する比が0.5より大きい、上記〔9〕に記載の方法。
〔11〕ジニトロトルエン(式IIにおいて、R2=メチル、およびR3=NO 2 )を水素化してトルイレンジアミン(式Iにおいて、R1=NH 2 、およびR2=メチル)を得る、上記〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の方法。
〔12〕2〜10個の反応空間を直列接続する、上記〔1〕〜〔11〕のいずれかに記載の方法。
〔13〕芳香族ニトロ化合物の流れ方向において第一の反応空間を等温的に運転し、最後の反応空間を断熱的に運転する、上記〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の方法。
Claims (4)
- 断熱的に運転する反応空間の少なくとも1つにおいて実施する水素化の部分のパラメーター特性をモニタリングすることにより、水素化反応の進行をモニターし、そのパラメーターが臨界値に達するかまたは超えたとき、パラメーターが再び臨界値未満となるように少なくとも1つの工程パラメーターを変化させる、請求項1に記載の方法であって、適当なパラメーターを、色、温度、ニトロ基およびニトロソ基含有化合物の濃度からなる群から選択する方法。
- 少なくとも1つの工程パラメーターの変更を、下記選択肢:
a)新しい触媒の供給、
b)使用済み触媒の供給量の増加、
c)新しい芳香族ニトロ化合物の供給量の段階的削減、
d)反応空間の少なくとも1つにおける圧力の増大、
e)反応空間の少なくとも1つにおける温度の上昇
から選択する、請求項2または3に記載の方法。
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