JP2013508688A - ランダム偏光の出力監視組立体 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
両スプリッタについての均一な反射率Rsと両スプリッタについての均一な反射率Rpであって、原則としてこの条件で開示概念の実現に十分であるRsおよびRpと、
スプリッタ52の面58に対する光Iiと第2のスプリッタ54の面60に対する光Irの入射面どうしの実質直交性とである。
望ましくは、板状ビームスプリッタ52に対する光Iiの入射角度(AOI)と第2の板状ビームスプリッタ54に対する反射光IrのAOIは実質均一とし、技術的には、AOIは所定範囲内で変動するが、好ましくはAOIは45°とする。しかしながら、AOIは互いに全く一致しないようにできる。
Claims (21)
- ランダム偏光ビームの出力を計測するユニットであって、
ランダム偏光ビームの一部を逐次反射する構成の第1と第2のビームスプリッタであって、該第2のビームスプリッタで反射された出力ビームが第1のスプリッタに入射するランダム偏光ビームの偏光状態とは無関係であるようにした前記第1および第2のビームスプリッタと、
前記出力ビームを検出し、前記ランダム偏光ビームの出力に比例するその出力を計測するよう作動可能な光学組立体とを備える、ユニット。 - 前記第1と第2のビームスプリッタを、ランダム偏光ビームを含め、第1のスプリッタの、一部反射する第1の面への入射面が前記第1の面で反射された光の一部の第2のスプリッタの、一部反射する第2の面への入射面に実質直交するよう相対配置した、請求項1に記載のユニット。
- 前記反射面を、第1のビームスプリッタに対する前記ランダム偏光ビームの入射角度(AOI)が、前記第1のスプリッタで反射されて第2のスプリッタに入射するランダム偏光ビームの一部のAOIに実質等しくなるよう配置した、請求項2に記載のユニット。
- 前記反射面を、前記第1のビームスプリッタのランダム偏光ビームの入射角度(AOI)が前記第1のスプリッタで反射されて第2のスプリッタに入射するランダム偏光ビームの一部のAOIとは異なるよう配置した、請求項2に記載のユニット。
- 前記第1と第2のビームスプリッタはそれぞれ反射率Rs,Rpを持たせて構成してあり、ここでRsは入射面に直交するベクトルEを有する「s」偏光状態についての反射率、Rpは入射面に横たわるベクトルEを有する「p」偏光状態についての反射率であり、第1のビームスプリッタのRsとRpは所与の入射角度(AOI)について第2のビームスプリッタの個々のRs,Rpと実質同一である、請求項2に記載のユニット。
- 出力光ビームについての生成反射率は、前記ランダム偏光の「s」または「p」偏光状態の如何によらず、Rs×Rpに等しい、請求項5に記載のユニット。
- 前記個々の第1および第2のビームスプリッタの反射面はそれぞれ、監視対象である前記ランダム偏光ビームの減衰を最小化するよう構成した反射防止被覆で覆ってある、請求項2に記載のユニット。
- 前記第2のビームスプリッタと出力ビームの検出計測用光学組立体との間に位置する塊状光学系であって、前記出力ビームの出力を弱め、2回反射された一部の光の光路中の光学組立体の検出器の位置決めを簡単化するよう構成され、前記検出器を光発散球面レンズと光分散光学系とからなるグループから選択する前記塊状光学系をさらに備える、請求項1に記載のユニット。
- 前記反射防止膜は、前記2回反射された一部の光を減衰させて前記光出力を計測する光学組立体が線形領域で動作するよう構成した、請求項7に記載のユニット。
- 前記第1のビームスプリッタに光学的に連通し、前記第1のビームスプリッタを介して伝送されるランダム偏光ビームの方向とは反対の方向に伝搬するランダム偏光戻り反射光ビームを受光する追加の第2のプレートと、
前記第1のビームスプリッタ内に結合された戻り反射光の偏光状態とは無関係に戻り反射光ビームを受光して出力を計測する追加の光学組立体とをさらに備える、請求項1に記載のユニット。 - 前記第1と第2のビームスプリッタの間の偏光管理構成要素であって、半波長板と90度遅相器からなるグループから選択される前記偏光管理構成要素をさらに備える、請求項1に記載のユニット。
- リード線付き光アイソレータであって、
光路に沿う前方伝搬するランダム偏光ビームが横断するアイソレータコアと、
前記コアの第2の伸長方向に沿って配置した出力計測ユニットであって、
前記ランダム偏光ビームの一部を逐次反射する構成の離間する第1および第2のビームスプリッタであって、該第2のビームスプリッタで反射された出力ビームが第1のスプリッタに入射するランダム偏光ビームの偏光状態とは無関係な出力を有するようにした前記第1および第2のビームスプリッタと、
前記出力ビームを検出し、前記ランダム偏光ビームの出力に比例するその出力を計測するよう作動可能な光学組立体とを含む
前記出力計測ユニットとを備える、光アイソレータ。 - 前記第1と第2のビームスプリッタ間に配置され、半波長板あるいは90度遅相器から選択される偏光管理構成要素をさらに備える、請求項12に記載の光アイソレータ。
- 前記第1と第2のビームスプリッタを、ランダム偏光ビームを含め、第1のスプリッタの、一部反射する第1の面への入射面が、前記第1の面で反射された光の一部の第2のスプリッタの、一部反射する第2の面への入射面に実質直交するよう相対配置した、請求項12に記載の光アイソレータ。
- 前記第1と第2の面を、前記第1のビームスプリッタに対するランダム偏光ビームの入射角度(AOI)が、前記第2のスプリッタに入射する前記第1のスプリッタで反射されたランダム偏光ビームの一部のAOIと実質等しくなるよう配置した、請求項14に記載の光アイソレータ。
- 前記第1と第2の面を、前記第1のビームスプリッタに対するランダム偏光ビームの入射角度(AOI)が、前記第2のスプリッタに入射する前記第1のスプリッタで反射されたランダム偏光ビームの一部のAOIとは異なるよう配置した、請求項14に記載の光アイソレータ。
- 前記第1と第2のビームスプリッタはそれぞれ反射率Rs,Rpを持たせて構成してあり、ここでRsは入射面(POI)に直交して横たわる「s」偏光状態についての反射率、Rpは入射面POIに横たわる「p」偏光状態についての反射率であり、第1のビームスプリッタのRsとRpは所与の入射角度(AOI)について第2のビームスプリッタの個々のRs,Rpと実質同一である、請求項14に記載の光アイソレータ。
- 前記第1と第2の個々のビームスプリッタそれぞれの反射面は、動作波長でのランダム偏光ビームの減衰を最小化するよう構成した反射防止膜により被覆した、請求項14に記載の光アイソレータ。
- 前記第2のビームスプリッタとの間に配置され、光発散球面塊状光学系と光分散プレート68とからなるグループから選択される光減衰構成要素をさらに備える、請求項12に記載の光アイソレータ。
- 高出力ファイバ型レーザシステムであって、
光路に沿って伝搬するランダム偏光入力光ビームを増幅するよう作動可能な少なくとも1個の増幅縦列接続体と、
前記増幅縦列接続体に光学的に連通し増幅ランダム偏光ビームの出力を計測するユニットであって、
前記ランダム偏光の一部を逐次反射するよう構成された、離間する第1と第2のビームスプリッタであって、前記第2のビームスプリッタで反射された出力ビーム光が前記第1のスプリッタに入射するランダム偏光の偏光状態とは無関係の出力を有するよう構成した前記第1と第2のビームスプリッタと、
前記出力ビームを検出し、前記ランダム偏光の出力に比例するその出力を計測するよう作動可能な光学組立体とを有する
前記ユニットを備える、高出力ファイバ型レーザシステム。 - 前記第1のビームスプリッタで反射された入力光ビームの一部が前記第1のビームスプリッタへの前記入力光ビームの入射面に実質直交する入射面内に延在し、前記第1と第2のビームスプリッタはそれぞれ反射率RsとRpを持たせて構成してあり、ここでRsは入射面に直交するベクトルEを有する「s」偏光状態についての反射率、Rpは入射面に横たわるベクトルEを有する「p」偏光状態についての反射率であり、第1のビームスプリッタのRsとRpは所与の入射角度(AOI)について第2のビームスプリッタの個々のRs,Rpと実質同一とし、出力光ビームについての生成反射率が前記ランダム偏光の「s」または「p」偏光状態の如何によらず、Rs×Rpに等しくなるようにした、請求項20に記載の高出力ファイバ型レーザシステム。
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